JP6353891B2 - Cgs干渉分光法を用いた処理制御のためにプロセス誘導ウエハ形状を特徴化するシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
1)ウエハの一側面または両側面の高密度形状測定(例えば、一側面につき>105回の測定、または一側面につき>106回の測定)を行うこと。ウエハは、表側膜を有するか、表側膜および裏側膜の両方を有する。この工程は、CGS干渉計システムなどの干渉計を基本とするシステムを用いて実行される。
2)前記ウエハの表側膜および裏側膜が、表側および裏側における面内変位に個別に作用するかを評価する(すなわち、−1という因数)。
3)前記ウエハにおける前記表側膜および前記裏側膜からの影響は、リソグラフィーシステムの配列の補償/補正の正確性を向上させるために、分離される必要がある。
4)表側/裏側分離のための正確なアプローチは、ウエハ形状サンプリング計画、および具体的な処理の特性(すなわち、それらが、表側応力に影響を及ぼすのか、裏側応力に影響を及ぼすのか、あるいは、両方に影響を及ぼすのか)に基づく。
5)ウエハ形状を測定して、形状への表側応力の寄与および裏側応力の寄与を個別に分離することができれば(あるいは、裏側の寄与が無視できるものであれば)、補間データは必要とされない。
6)ウエハ形状を測定して、形状への表側応力の寄与および裏側応力の寄与を個別に分離することができなければ、補間データが採用される(いわゆる、ハイブリッド計測学)。補間データには、例えば以下のものが含まれるが、これに限定はされない。
a.配列マークデータ
b.オーバーレイデータ
c.直接応力/ひずみ測定
7)ウエハ形状測定、およびそれに関連する表側寄与および裏側寄与の分離は、以下のように適用され得る。
a.ウエハ対ウエハ、またはロット対ロット;低密度の配列またはオーバーレイ測定結果とともに、ウエハの領域へ補間または外挿される。
b.補間測定用のガイドとして(すなわち、配列またはオーバーレイ測定のための測定位置を決定する)
8)ウエハ形状測定、およびそれに関連する表側寄与および裏側寄与の分離は、特定の処理フロー/デバイスの特定のセグメント用の参照ファイルまたはルックアップテーブルとして、高密度で周期的に決定され得る。
a)一つ以上の半導体製造の処理工程を実行する前に、ウエハ形状サンプリング計画にしたがって、前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方の第1形状について、第1のコヒーレント勾配検知(CGS)干渉分光形状測定を実行することと、
b)前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方に、前記一つ以上の半導体製造の処理工程の少なくとも一つを実行することと、
c)工程b)を実行した後に、工程a)と同じウエハ形状サンプリング計画を用いて、前記第1ウエハの前記表側表面および前記裏側表面の少なくとも一方の第2形状について、第2のCGS干渉分光形状測定を実行することと、
d)前記第1のCGS干渉分光形状測定と前記第2のCGS干渉分光形状測定とを比較することによって、前記第1ウエハの形状の処理誘導変化(処理によって誘導された変化)を決定することと
を含む。
図1Aは、コヒーレント勾配検知(CGS)干渉分光システム(「CGSシステム」)100の一例を示す模式図である。CGSシステム100は、上面12を有するウエハ10の曲率C(x,y)を測定するために使用され得る。CGSがどのように動作するかについて詳細は、上記の米国特許第6,031,611(‘611特許)に記載されている。図1Aは、‘611特許の図1に基づく。
材料の層において累積応力σfは、公知のストーニー(Stoney)式
を用いて、基板曲率Δκの処理誘導された変化から算出することができる。ここで、Msは基板(ウエハ)の二軸モジュールであり、hsは基板の厚さであり、hfは膜または層の厚さである。ストーニー式は、膜または層が均質であり、基板に対して薄く連続的であることを前提とする。また、ストーニー式は、応力、およびそれに伴う曲率変化が空間的に均一であることを前提とする。
x方向およびy方向における面内表面変位は、プレート理論の原理を用いた表面トポグラフィーから算出され得る。具体的には、変位は、部分的な表面傾斜または傾きに比例する。図1Bは、表側膜を有するウエハの一例の断面図である。この図は、単純な曲げ加工の場合を表す。この図では、基板厚の中間軸hsは、中央平面であるか、基板の何れかの表面からhs/2で表される。中間軸は、面内応力がゼロとなる平面として定義される。
上述したように、処理フローにおける複数の処理工程を通して、処理誘導されたトポグラフィー変動の進展を測定することによって、リソグラフィー配列、焦点外し、デバイス性能、および生産量などのパラメータのトポグラフィー変化の役割を、評価することができる。処理制御計画は、処理のバラツキを減少させたり、最小化させたりするために実行され得る。あるいは、ウエハ変形情報は、フィードバックまたはフィードフォワードに使用され、処理パラメータを修正して、過度の変形を制御したり補償したりすることができる。
図8は、処理フロー中にウエハ形状をモニタリングする方法の一例を示すフローチャートである。以下でより詳細に説明するように、この方法は、サンプル計画を確立する工程S1を含む。この方法は、その後、処理前、すなわち、プレプロセスのウエハ形状を測定する工程S2を含む。この方法は、その後、処理後、すなわち、ポストプロセスのウエハ形状を測定する工程S3を含む。この方法は、その後、処理誘導形状変化を算出する工程S4を含む。この方法は、その後、追加の処理を測定すべきか否かを問う質問工程Q1を含む。その回答が「Yes(はい)」であれば、本方法は工程S2に戻り、工程S2からS4が、追加の処理のために繰り返される。また、回答が「No(いいえ)」であれば、本方法は、表側または裏側の膜および構造に起因した変位を算出する第5工程S5へ進む。第5工程S5は、以下でより詳細に説明される。
図11Aから図11Dは、図9および図10Aから図10Dの各フローチャートの経路P1からP4によるサンプリング計画をそれぞれ示す模式図である。
図11Dは、図11Aから図11Cと同様の図である。図11Dは、表側または裏側の表面形状における処理の影響(意味合い)が未知であることを示す。すなわち、明確なサンプリング計画の確立を阻むような情報の著しい欠如があることを示す。言い換えると、特定の処理が、表側膜/構造、裏側膜、またはその両方の応力に影響を及ぼすか否かが明確ではない。一つの形状測定が、着目する処理区分の前に行われ、その後、その着目する処理区分が完了する。その計算は補間データを要求する。
図12は、表側構造および裏側構造に起因したウエハ10の(x,y)変位の計算を示すフローチャートであって、図8のフローチャートの工程S5をさらに詳しく説明するフローチャートである。
経路P1によるx方向およびy方向(図1参照)における表面形状および表面変位の測定は、以下の式で表される。
上記の一連の式では、式(B)により、トポグラフィーにおける、交点1および交点2の間の処理誘導変化Δw(x,y)が決定される。式(C)は、(B)で算出されたトポグラフィー変化からのx方向における表面傾斜の計算、およびその傾斜の「均一応力」成分および「不均一応力」成分への分離を示す。傾斜の不均一応力成分は、その後、式(D)で示される変位の計算に用いられる。式(D)は、x方向u(x,y)およびy方向v(x,y)の両方の面内変位の式を含む。式(B)から式(D)は、線形である。そのため、特定の計算の正確な順序は、重要ではない。例えば、先ず、トポグラフィーにおける変化を算出する代わりに、傾斜の変化またはその代替の変位の変化という観点で、交点1および交点2間の形状の差分が算出されてもよい。同様に、変形における「均一応力」成分および「不均一応力」成分の分離は、トポグラフィー、傾斜、または変位を用いて評価されてもよい。
経路2は、以下のように、表側および裏側の変位の計算を含む。先ず、表側および裏側に関連したトポグラフィー測定がグループ化される。
上記の式は、図11Bに示される交点と一致するように記載される。表側のトポグラフィー変化および裏側のトポグラフィー変化の累積が計算されると、表側および裏側の変位が、上記の式(B)および式(C)に類似する方法で計算される。「経路1」の場合のように、計算の順序は、線形処理にとって重要ではない。具体的には、すべての「表側」または「裏側」形状測定は、同じ結果でトポグラフィー、傾斜、または変位として総和される。式(E)および式(F)は、総和処理の実例として挙げられる。
経路3および経路4の計算は、補間データを得ることに関連して、図9のフローチャートの工程S1−6およびS1−7を実行して、表側および裏側の変位を分離することを含む。
ここで、式(H)は、ウエハ変形(例えば、ウエハ配置のバラツキ)と関連していない配列測定のあらゆる系統的成分が、無視できる、他の手段で補償される、かつ/あるいは、変位測定から差し引かれると仮定する。次に、測定傾斜の総和は、表側傾斜および裏側傾斜の単純な総和である。
式(H)、(I)および(D)は、以下のように、裏側の表面の膜に起因した傾斜を排除するためにまとめられる。
そして、利用可能なデータ(すなわち、配列および測定された傾斜の総和)の関数として、表側表面に起因した傾斜を求めるために、再編成される。
表側膜に起因した傾斜を求めるための式(K)の解は、その後、裏側膜に起因した傾斜を算出するための使用され得る(すなわち、式(I)の代替の式)。式(J)および(K)に類似した式が得られ、先ず、裏側膜に起因した傾斜が求められ、次に、表側膜に起因した傾斜が求められる。ここでも、計算の正確な順序(表側の後で裏側、あるいは、裏側の後で表側)は、無関係である。これらの計算の結果は、測定された形状変化の総和に、表側膜および裏側膜の相対的な寄与に関する情報を提供する。
本明細書に開示された方法の一局面は、配列マーク16の測定を行い、これらの測定を、ウエハ形状測定と結合することを含む。配列マーク測定は、一般に、ウエハ内部の密度が低い(ウエハにつき10単位の測定)。一方、全ウエハの形状測定は、非常に密度が高い(ウエハにつき10万単位から100万単位の点)。
本開示の一局面は、上述の方法を用いて決定される表面形状情報を使用して、半導体処理を制御して処理を改善し、例えば、生産能力を向上させる。
Claims (23)
- 表側から離れた裏側を有し、一つ以上の半導体製造の処理工程が施される第1ウエハの表側の面内変位を決定する方法であって、
a)一つ以上の半導体製造の処理工程を実行する前に、ウエハ形状サンプリング計画に従って、前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方の第1形状について、第1測定を実行することと、
b)前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方に、前記一つ以上の半導体製造の処理工程の少なくとも一つを実行することと、
c)工程b)を実行した後に、工程a)と同じウエハ形状サンプリング計画を用いて、前記第1ウエハの前記表側表面および前記裏側表面の少なくとも一方の第2形状について、第2測定を実行することと、
d)前記第1測定と前記第2測定とを比較することによって、前記第1ウエハの前記第1形状の処理誘導変化を決定することと、
前記第1形状の処理誘導変化の関数として、および、前記第1形状の処理誘導変化を引き起こすように1以上の半導体製造工程によって1以上の前記表側および前記裏側に応力が生じさせることにより変化する変位計算の関数として、面内変位を決定することと
を備える方法。 - 前記一つ以上の半導体製造の処理工程を用いて第2ウエハを処理することと、
前記第2ウエハの形状における決定済みの処理誘導変化に基づいて、前記第2ウエハを処理するときに、前記一つ以上の半導体製造の処理工程の少なくとも一つを変更することと
をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 前記一つ以上の半導体製造の処理工程の少なくとも一つを調整することと、
調整された一つ以上の半導体製造の処理工程を用いて前記第1ウエハを処理することと
をさらに備え、
前記一つ以上の半導体製造の処理工程は、前記第1ウエハの第1形状における決定済みの処理誘導変化に基づいて、前記第1ウエハにまだ適用されていなかった処理である、
請求項1に記載の方法。 - 前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方における配列マークを用いて、表面変位測定を行うことと、
前記第1ウエハの前記第1形状における処理誘導変化の決定を行う工程d)において、前記表面変位測定を利用することと
をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 前記第1ウエハは、前記第1ウエハの表側に表側配列マークを含み、前記第1ウエハの裏側に裏側配列マークを含み、
前記方法は、
表側の処理工程を実行した後に、前記表側配列マークを用いて、前記第1ウエハの前記表側で表面変位の第1測定を行うことと、
裏側の処理工程を実行した後に、前記裏側配列マークを用いて、前記第1ウエハの前記裏側で表面変位の第2測定を行うことと、
前記表面変位の第1測定および第2測定を利用して、工程d)の前記第1ウエハの前記第1形状の処理誘導変化に対する、前記表側の処理工程および前記裏側の処理工程の寄与をそれぞれ特定することと
をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 前記第1ウエハは、前記第1ウエハの表側に表側配列マークを含み、前記第1ウエハの裏側に裏側配列マークを含み、
前記方法は、
前記表側配列マークおよび前記裏側配列マークを用いてオーバーレイ測定を行い、工程d)の前記第1ウエハの前記第1形状の処理誘導変化に対する、前記表側の処理工程および前記裏側の処理工程の寄与をそれぞれ特定すること
をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 表側の処理工程を実行した後に、前記第1ウエハの前記表側で第1応力測定を行うことと、
裏側の処理工程を実行した後に、前記第1ウエハの前記裏側で第2応力測定を行うことと、
前記第1応力測定および前記第2応力測定を利用して、工程d)の前記第1ウエハの形状の処理誘導変化に対する、前記表側の処理工程および前記裏側の処理工程の寄与をそれぞれ特定することと
をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 前記第1測定および前記第2測定は、表側測定と裏側測定とをそれぞれ含む、請求項1から7の何れか1項に記載の方法。
- 前記第1測定および前記第2測定は、表側測定のみを含む、請求項1から7の何れか1項に記載の方法。
- 前記第1測定および前記第2測定は、裏側測定のみを含む、請求項1から7の何れか1項に記載の方法。
- 工程b)において実行される一つ以上の半導体製造の処理工程の少なくとも一つは、単一のリソグラフィーツールで実行される複数の半導体製造の処理工程を含む、請求項1から10の何れか1項に記載の方法。
- 工程b)において実行される一つ以上の半導体製造の処理工程の少なくとも一つは、異なるリソグラフィーツールで実行される複数の半導体製造の処理工程を含む、請求項1から10の何れか1項に記載の方法。
- 工程b)は、前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方に、半導体構造を形成することを含む、請求項1から12の何れか1項に記載の方法。
- 工程b)は、前記第1ウエハの前記表側および前記裏側の少なくとも一方に存在する半導体構造を処理することを含む、請求項1から12の何れか1項に記載の方法。
- 前記第1測定および前記第2測定は、少なくとも106個のデータ点をそれぞれ含む、請求項1から14の何れか1項に記載の方法。
- 前記第1測定および前記第2測定は、1×105個から5×106個のデータ点を含む、請求項1から14の何れか1項に記載の方法。
- 一つ以上の半導体製造の処理工程が、全て表側の処理工程であるか、全て裏側の処理工程であるか否か、または、表側の処理工程および裏側の処理工程の混合であるかの少なくとも一部に基づいて前記ウエハ形状サンプリング計画を立てることをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 複数の挿入点が、前記第1形状の処理誘導変化に対する一つ以上の前記裏側の処理工程の寄与から、前記第1形状の処理誘導変化に対する一つ以上の前記表側の処理工程の寄与を分離するのに必要とされるか否かの少なくとも一部に基づいて前記ウエハ形状サンプリング計画を立てることをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の挿入点が必要とされなかった場合、前記ウエハ形状サンプリング計画を立てることは、前記第1測定および前記第2測定を各1回実行することを含む、
請求項18に記載の方法。 - 前記複数の挿入点が必要とされた場合、前記ウエハ形状サンプリング計画を立てることは、前記第1測定および前記第2測定を交互に連続して複数回実行して複数セットの測定を行うことを含み、
工程e)は、前記複数セットの測定の関数として前記面内変位をさらに決定することをさらに含む、請求項18に記載の方法。 - 複数の挿入点が必要とされた場合、前記ウエハ形状サンプリング計画を立てる方法は、複数の挿入点が可能か実用的かであるか否かを決定することをさらに含む、請求項18に記載の方法。
- 複数の挿入点が可能でも実用的でもなく、工程e)は、補間データの関数として前記面内変位をさらに決定することをさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記第1測定および前記第2測定の各々は、コヒーレント勾配検知干渉測定である、請求項1から22のいずれか1項に記載の方法。
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