JP2022539425A - メトロロジ方法及び関連のコンピュータプロダクト - Google Patents
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Abstract
Description
1.ステップモードでは、放射ビームに付与されたパターン全体が、一度にターゲット部分C上に投影される間に、パターニングデバイスサポート(例えばマスク)MT及び基板テーブルWTaが、基本的に静止状態を保つ(すなわち、単一静的露光)。次に、異なるターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTaが、X及び/又はY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズを限定する。
2.スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンが、ターゲット部分C上に投影される間に、パターニングデバイスサポート(例えばマスク)MT及び基板テーブルWTaが、同期してスキャンされる(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイスサポート(例えばマスク)MTに対する基板テーブルWTaの速度及び方向は、投影系PSの拡大(縮小)及び像反転特性によって決定されてもよい。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光のターゲット部分の幅(非スキャン方向の)を限定し、スキャン動作の長さが、ターゲット部分の高さ(スキャン方向の)を決定する。
3.別のモードでは、放射ビームに付与されたパターンが、ターゲット部分C上に投影される間に、パターニングデバイスサポート(例えばマスク)MTは、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態を保つとともに、基板テーブルWTaが、移動又はスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が用いられ、及びプログラマブルパターニングデバイスが、基板テーブルWTaの各移動後に、又はスキャン中の連続した放射パルス間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに簡単に適用することができる。
A±d=Ksin(OVE±d)
と仮定され、式中、オーバーレイエラーOVEは、ターゲットピッチPが角度2πラジアンに対応するようなスケールで表現される。項dは、測定されるターゲット(又はサブターゲット)の格子バイアスである。異なる既知のバイアス(例えば、+d及び-d)を有するターゲットの2つの測定値を使用して、オーバーレイエラーOVEは、
を使用して計算することができ、式中、A+dは、+dバイアスされたターゲットの強度非対称性測定値であり、A-dは、-dバイアスされたターゲットの強度非対称性測定値である。
A+d=(K+ΔK)sin(OVE+d)
A-d=(K-ΔK)sin(OVE-d)
として公式化することができ、式中ΔKは、スタック差が原因のオーバーレイ感度の差を表す。従って、オーバーレイエラーOVE(それが小さいと仮定する)は、
に比例し得る。
であり、A(λ)+d及びA(λ)-dは、波長の関数として、それぞれバイアス+d及び-dに対応した強度非対称性測定であり、df(λ)は、波長の関数としてのドーズ係数である。ドーズ係数は、ソース強度及び測定時間の任意の関数でもよい。ある特定の実施形態では、それは、波長の関数として、ソース強度及び積分時間の積を含んでもよい。
I=A+Bcos(ωt+φ) 方程式1
1. メトロロジターゲットから反射された放射を測定することと、
測定された放射を成分に分解することと、
を含む、方法。
2. 測定された放射を分解することが、測定された放射のフーリエ変換を用いて取得される、条項1に記載の方法。
3. a)メトロロジターゲットに放射を当てることと、
b)ターゲットからの散乱放射を検出することと、
c)メトロロジ装置のパラメータを変更することと、
d)メトロロジ装置のパラメータの多数の値に関して、ステップa)~c)を繰り返すことと、
e)放射を成分に分解することと、
を含む、リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法。
4. 分解がフーリエ変換である、条項3に記載の方法。
5. 方法が、閾値320よりも小さい成分を選択することをさらに含む、条項3に記載の方法。
6. オーバーレイが、逆分解を使用し、及び選択された成分のみを利用して生成される、条項3に記載の方法。
7. a)メトロロジターゲットに放射を当てることと、
b)ターゲットからの散乱放射を検出することと、
c)メトロロジ装置のパラメータを変更することと、
d)メトロロジ装置のパラメータの多数の値に関して、ステップa)~c)を繰り返すことと、
e)ステップd)で取得された測定をフィルタにかけることと、
を含む、リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法。
8. ステップd)で取得された測定が、個々の成分に分解される、条項7に記載の方法。
9. フィルタ320が、個々の成分を定義する上限値及び下限値を含む、条項7に記載の方法。
10. フィルタ320が、成分の区間を定義する上限値及び下限値を含む、条項7に記載の方法。
11. フィルタ320が変化する、条項7に記載の方法。
12. 第1のターゲット場所で下部格子の3D非対称性マップを取得することと、多数のターゲットに関して3D非対称性マップを取得することを繰り返すことと、上記の測定に基づいて、ウェーハのターゲット非対称性のマップを取得することと、を含むリソグラフィプロセスを特徴付ける方法。
13. メトロロジ装置のパラメータの第1の複数の値で第1の複数の測定を取得することと、
最小の第2の測定数及びそれに関連するメトロロジ装置のパラメータの第2の値を計算することであって、
メトロロジ装置のパラメータの第2の値がメトロロジ装置のパラメータの第1の値より少ないように、計算することと、
を含む、メトロロジ装置のパラメータを選択する方法。
14. 適宜の装置上で実行されると、条項1~13の何れか一項に記載の方法を行うように動作可能なプログラム命令を含むコンピュータプログラム。
15. 条項14のコンピュータプログラムを含む、非一時的コンピュータプログラムキャリア。
16. メトロロジターゲットから反射された放射を測定することと、
測定された放射を成分に分解することと、
各成分を表す少なくとも2つの位相値を計算することと、
上記位相間の関係からパラメータを計算することと、
を含むプロセスのパラメータを測定する方法。
17. 照明源の多数のパラメータにおいてメトロロジターゲットを照明することと、
照明源の上記多数のパラメータにおいてメトロロジターゲットによる散乱放射を検出することと、
測定された放射を成分に分解することと、
成分の少なくとも1つに対応する測定された放射の依存を再計算することと、
閾値との関連で決定された依存の値に関する照明源のパラメータを選択することと、
を含む、メトロロジプロセスのレシピ選択方法。
18. メトロロジターゲットから反射された放射を測定することと、
測定された放射を空間成分に分解することと、
を含む、方法。
19. 測定された放射がメトロロジ装置の像面を補完する面において取得される、
条項18に記載の方法。
Claims (11)
- メトロロジターゲットから反射された放射を測定することと、
前記測定された放射を成分に分解することと、
を含む、方法。 - 前記測定された放射を分解することが、前記測定された放射のフーリエ変換を用いて取得される、請求項1に記載の方法。
- a)メトロロジターゲットに放射を当てることと、
b)前記ターゲットからの散乱放射を検出することと、
c)前記メトロロジ装置のパラメータを変更することと、
d)前記メトロロジ装置の前記パラメータの多数の値に関して、ステップa)~c)を繰り返すことと、
e)前記放射を成分に分解することと、
を含む、リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法。 - 前記分解がフーリエ変換である、請求項3に記載の方法。
- 閾値320よりも小さい前記成分を選択することをさらに含む、請求項3に記載の方法。
- オーバーレイが、逆分解を使用し、及び前記選択された成分のみを利用して生成される、請求項3に記載の方法。
- a)メトロロジターゲットに放射を当てることと、
b)前記ターゲットからの散乱放射を検出することと、
c)メトロロジ装置のパラメータを変更することと、
d)前記メトロロジ装置の前記パラメータの多数の値に関して、ステップa)~c)を繰り返すことと、
e)ステップd)で取得された前記測定値をフィルタにかけることと、
を含む、リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法。 - ステップd)で取得された前記測定値が、個々の成分に分解される、請求項7に記載の方法。
- フィルタ320が、個々の成分を定義する上限値及び下限値を含む、請求項7に記載の方法。
- フィルタ320が、成分の区間を定義する上限値及び下限値を含む、請求項7に記載の方法。
- フィルタ320が、変化する、請求項7に記載の方法。
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