JP6351596B2 - 偽造防止素子およびそれらの製造方法 - Google Patents
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
a) 基材、
b) 記録材料を化学線に露光することによって得られる、屈折率変調を有する構成要素、特に体積ホログラム、およびその上に
c) 辺長の最長寸法15nmから1000nm、好ましくは15nm〜600nm、および特に20nm〜500nm、および厚さ2nm〜100nm、好ましくは2〜40nm、および特に4〜30nmを有する小板状に形づけられた遷移金属粒子を含むコーティング
を含む、偽造防止素子である。
R50は、不飽和のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルであるか、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、C1〜C12−アルキルによって、C1〜C12−アルコキシによって、C1〜C12−アルキルチオによって、またはNR53R54によって置換されたシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルである、
または、R50は非置換のC1〜C20−アルキルであるか、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、C1〜C12−アルコキシによって、C1〜C12−アルキルチオによって、NR53R54によって、または−(CO)−O−C1〜C24−アルキルによって置換されたC1〜C20−アルキルである、
R51は、不飽和のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルであるか、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、C1〜C12−アルキルによって、C1〜C12−アルコキシによって、C1〜C12−アルキルチオによって、またはNR53R54によって置換されたシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルであるか、またはR51は、−(CO)R’52であるか、またはR51は非置換のC1〜C12−アルキルであるか、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、C1〜C12−アルコキシによって、C1〜C12−アルキルチオによって、またはNR53R54によって置換されたC1〜C12−アルキルである、
R52およびR’52は、互いに独立して、不飽和のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルであるか、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、C1〜C4−アルキルによって、またはC1〜C4−アルコキシによって置換されたシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルであるか、またはR52は、S原子またはN原子を含む5または6員の複素環である、
R53およびR54は互いに独立して、水素、非置換のC1〜C12−アルキル、または1つまたはそれより多くのOHまたはSHによって置換されたC1〜C12−アルキルであって、その際、前記アルキル鎖は1〜4個の酸素原子によって随意に中断されているか、または、R53およびR54は互いに独立してC2〜C12−アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルである]。
R65、R66およびR67は互いに独立して、水素、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−ハロゲンアルキル、C1〜C4−アルコキシ、ClまたはN(C1〜C4−アルキル)2である、
R68は、水素、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−ハロゲンアルキル、フェニル、N(C1〜C4−アルキル)2、COOCH3、
Qは、2〜6個のヒドロキシ基を有するポリヒドロキシ化合物の残基である、
xは、1より大きい数であるが、Q内の使用可能なヒドロキシル基の数以下である、
Aは、−[O(CH2)bCO]y−または−[O(CH2)bCO](y-1)−[O(CHR71CHR70)a]y−である、
R69は、水素、メチルまたはエチルであり、且つ、Nが1より大きい場合、基R69は互いに同一または異なっていてよい、
aは、1〜2の数である、
bは、4〜5の数である、
yは、1〜10の数である、
nは である、且つ、
mは2〜10の整数である]。
R29は、水素またはC1〜C18−アルコキシである、
R30は、水素、C1〜C18−アルキル、C1〜C12−ヒドロキシアルキル、C1〜C18−アルコキシ、OCH2CH2−OR34、モルホリノ、S−C1〜C18−アルキル、基−HC=CH2、−C(CH3)=CH2、
d、eおよびfは、1〜3である、
cは、2〜10である、
G1およびG2は、互いに独立して、ポリマー構造の末端基、好ましくは水素またはメチルである、
R34は水素、
R31は、水素、C1〜C16−アルコキシ、モルホリノ、ジメチルアミノまたは−O(CH2CH2O)g−C1〜C16−アルキルである、
gは、1〜20である、
R32およびR33は、互いに独立して、水素、C1〜C6−アルキル、C1〜C16−アルコキシまたは−O(CH2CH2O)g−C1〜C16−アルキルであるか、または、非置換のフェニルまたはベンジルであるか、またはC1〜C12−アルキルによって置換されたフェニルまたはベンジルであるか、またはR32およびR33は、それらが結合している炭素原子と一緒に、シクロヘキシル環を形成する、
R35は、水素、OR36またはNR37R38である、
R36は水素、随意に1つまたはそれより多くの連続しないO原子によって中断されたC1〜C12−アルキルであり、その中断されたまたは中断されていないC1〜C12−アルキルは随意に1つまたはそれより多くのOHによって置換されているか、またはR36は、
R37およびR38は互いに独立して、水素、または非置換もしくは1つまたはそれより多くのOHによって置換されたC1〜C12−アルキルである、
R39は、随意に1つまたはそれより多くの連続しないOによって中断されたC1〜C12−アルキレン、−(CO)−NH−C1〜C12−アルキレン−NH−(CO)−または
ただし、R31、R32およびR33は、全て同時にC1〜C16−アルコキシまたは−O(CH2CH2O)g−C1〜C16−アルキルではない]。
R60は、水素、C1〜C12−アルキル、または
R55、R56、R57、R58およびR59は、互いに独立して、水素、非置換のC1〜C12−アルキル、または1つまたはそれより多くのOHによって、C1〜C4−アルコキシによって、フェニルによって、ナフチルによって、ハロゲンによって、またはCNによって置換されたC1〜C12−アルキルであって、その際、前記アルキル鎖は1またはそれより多くの酸素原子によって随意に中断されているか、または、R55、R56、R57、R58およびR59は、互いに独立してC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオまたはNR52R53である、
R52およびR53は、互いに独立して、水素、非置換のC1〜C12−アルキル、または1つまたはそれより多くのOHまたはSHによって置換されたC1〜C12−アルキルであって、その際、前記アルキル鎖は1〜4個の酸素原子によって随意に中断されているか、または、R52およびR53は互いに独立してC2〜C12−アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルである、且つ、
Y1は、随意に1つまたはそれより多くの酸素原子によって中断されたC1〜C12−アルキレンである]。
zは、0または1である、
R70は、水素、C3〜C8−シクロアルキル、非置換のC1〜C12−アルキルであるか、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、フェニルによって、またはCNによって置換されたC1〜C12−アルキルであるか、またはR70は、C2〜C5−アルケニル; 非置換のフェニルであるか、または1つまたはそれより多くのC1〜C6−アルキルによって、ハロゲンによって、CNによって、OR73によって、SR74によって、またはNR75R76によって置換されたフェニルであるか、または、R70は、C1〜C8−アルコキシ; ベンジルオキシ; または非置換のフェノキシであるか、または1つまたはそれより多くのC1〜C6−アルキルによって、またはハロゲンによって置換されたフェノキシである、
R71は、フェニル、ナフチル、ベンゾイルまたはナフトイルであり、その各々は、1つまたはそれより多くのハロゲンによって、C1〜C12−アルキルによって、C3〜C8−シクロアルキルによって、ベンジルによって、フェノキシカルボニルによって、C2〜C12−アルコキシカルボニルによって、OR73によって、SR74によって、SOR74によって、SO2R74によって、またはNR75R76によって置換されており、その際、置換基OR73、SR74およびNR75R76は、基R73、R74、R75および/またはR76を介して、フェニルまたはナフチル環上のさらなる置換基と共に、5または6員環を随意に形成するか、またはその各々は、フェニルによって置換されているか、または1つまたはそれより多くのOR73によって、SR74によって、またはNR75R66によって置換されたフェニルによって置換されているか、またはR71は、チオキサンチル、または
R72は、水素、非置換のC1〜C20−アルキル、または1つまたはそれより多くのハロゲンによって、OR73によって、SR74によって、C3〜C8−シクロアルキルによって、またはフェニルによって置換されたC1〜C20−であるか、またはC3〜C8−シクロアルキルであるか、または、非置換のフェニルであるか、または1つまたはそれより多くのC1〜C6−アルキルによって、フェニルによって、ハロゲンによって、OR73によって、SR74によって、またはNR75R76によって置換されたフェニルであるか、または非置換のC2〜C20−アルカノイルまたはベンゾイルであるか、または1つまたはそれより多くのC1〜C6−アルキルによって、フェニルによって、OR73によって、SR74によって、またはNR75R76によって置換されたC2〜C20−アルカノイルまたはベンゾイルであるか、または、C2〜C12−アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、CONR75R76、NO2、C1〜C4−ハロアルキル、S(O)y−C1〜C6−アルキル、またはS(O)y−フェニルである、
yは、1または2である、
Y2は、直接結合または無結合である、
Y3は、NO2または
R73およびR74は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C12−アルケニル、C3〜C8−シクロアルキル、1つまたはそれより多くの、好ましくは2つのOによって中断されたC3〜C8−シクロアルキル、フェニル、C1〜C3−アルキルであるか、または、OHによって、SHによって、CNによって、C1〜C8−アルコキシによって、C1〜C8−アルカノイルによって、C3〜C8−シクロアルキルによって置換されたC1〜C8−アルキル、1つまたはそれより多くのOによって中断されたC3〜C8−シクロアルキルによって置換されたC1〜C8−アルキルであるか、または、そのC1〜C8−アルキルは、非置換のベンゾイルであるか、または1つまたはそれより多くC1〜C6−アルキルによって、ハロゲンによって、OHによって、C1〜C4−アルコキシによって、またはC1〜C4−アルキルスルファニルによって置換されたベンゾイルによって置換されている、または、フェニルまたはナフチルであり、その各々は非置換であるか、またはハロゲンによって、C1〜C12−アルキルによって、C1〜C12−アルコキシによって、フェニル−C1〜C3−アルキルオキシによって、フェノキシによって、C1〜C12−アルキルスルファニルによって、フェニルスルファニルによって、N(C1〜C12−アルキル)2によって、ジフェニルアミノによって、または
R75およびR76は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C4−ヒドロキシアルキル、C2〜C10−アルコキシアルキル、C2〜C5−アルケニル、C3〜C8−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C8−アルカノイル、C3〜C12−アルケノイル、ベンゾイルであるか、または、フェニルまたはナフチルであって、その各々は非置換であるか、またはC1〜C12−アルキルによって、ベンゾイルによって、またはC1〜C12−アルコキシによって置換されているか、またはR75およびR76は一緒に、随意にOまたはNR73によって中断され、且つ随意にヒドロキシによって、C1〜C4−アルコキシによって、C2〜C4−アルカノイルオキシによって、またはベンゾイルオキシによって置換されたC2〜C6−アルキレンである、
R77は、C1〜C12−アルキル、チエニルまたはフェニルであって、非置換であるかまたはC1〜C12−アルキルによって、OR73によって、モルホリノによって、またはN−カルバゾリルによって置換されたものである。
R80、R81およびR82は、互いに独立して、非置換のフェニル、または−S−フェニル、
R83は、直接結合、S、O、CH2、(CH2)2、COまたはNR89である、
R84、R85、R86およびR87は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C3〜C8−シクロアルキル、C1〜C20−アルコキシ、C2〜C20−アルケニル、CN、OH、ハロゲン、C1〜C6−アルキルチオ、フェニル、ナフチル、フェニル−C1〜C7−アルキル、ナフチル−C1〜C3−アルキル、フェノキシ、ナフチルオキシ、フェニル−C1〜C7−アルキルオキシ、ナフチル−C1〜C3−アルキルオキシ、フェニル−C2〜C6−アルケニル、ナフチル−C2〜C4−アルケニル、S−フェニル、(CO)R89、O(CO)R89、(CO)OR89、SO2R89またはOSO2R89である、
R88は、C1〜C20−アルキル、C1〜C20−ヒドロキシアルキル、
R89は水素、C1〜C12−アルキル、C1〜C12−ヒドロキシアルキル、フェニル、ナフチルまたはビフェニリルである、
R90、R91、R92およびR93は、互いに独立して、R84について示された意味の1つを有するか、またはR90およびR91が一緒になって、それらが結合されているベンゼン環と共に縮合環系を形成する、
R95は、直接結合、S、OまたはCH2である、
R96は、水素、C1〜C20−アルキル、1つまたはそれより多くのOによって中断されたC2〜C20−アルキルであるか、または−L−M−R98または−L−R98である、
R97は、R96について示された意味の1つを有するか、または
R98は、一価の増感剤または光開始剤成分である、
Ar1およびAr2は、互いに独立して、非置換のフェニル、またはC1〜C20−アルキルによって、ハロゲンによってまたはOR99によって置換されたフェニルである、
または、非置換のナフチル、アントリル、フェナントリルまたはビフェニリルである、
または、C1〜C20−アルキルによって、OHによってまたはOR99によって置換されたナフチル、アントリル、フェナントリルまたはビフェニリルである、
または、−Ar4−A1−Ar3または
Ar3は、非置換のフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルまたはビフェニリルである、
または、C1〜C20−アルキルによって、OR99によってまたはベンゾイルによって置換されたフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルまたはビフェニリルである、
Ar4は、フェニレン、ナフチレン、アントリレンまたはフェナントリレンである、
A1は、直接結合、S、OまたはC1〜C20−アルキレンである、
Xは、CO、C(O)O、OC(O)、O、SまたはNR99である、
Lは、直接結合、S、O、C1〜C20−アルキレンまたはC2〜C20−アルキレンであって、1つまたはそれより多くの連続していないOによって中断されたものである、
R99は、C1〜C20−アルキルまたはC1〜C20−ヒドロキシアルキルであるか、またはO(CO)R102によって置換されたC1〜C20−アルキルである、
M1は、S、COまたはNR100である、
M2は、直接結合、CH2、OまたはSである、
R100およびR101は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1〜C8−アルキル、C1〜C8−アルコキシまたはフェニルである、
R102は、C1〜C20−アルキルである、
R103は、
Eは、アニオン、特に
R110およびR111は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C20−アルコキシ、OH−置換されたC1〜C20−アルコキシ、ハロゲン、C2〜C12−アルケニル、C3〜C8−シクロアルキル、特にメチル、イソプロピルまたはイソブチルである、且つ、
Eは、アニオン、特に
N,N,N−トリブチル−1−ブタンアミニウムブチルトリフェニルボレート (120307−06−4)
N−エチル−N−[4−[1,5,5−トリス[4−(ジエチルアミノ)フェニル]−2,4−ペンタジエン−1−イリデン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−イリデン]−エタンアミニウムブチルトリフェニルボレート (141714−54−7)
N,N,N−トリメチル−1−メタンアミニウム,ブチルトリフェニルボレート (117522−01−7)
N,N,N−トリブチル−1−ブタンアミニウム,ブチルトリ−1−ナフタレニルボレート (219125−19−6)
N,N,N−トリブチル−1−ブタンアミニウム,トリス(3−フルオロフェニル)ヘキシルボレート (191726−69−9)
N,N,N−トリブチル−1−ブタンアミニウム,トリス(3−フルオロフェニオル)(フェニルメチル)ボレート (199127−03−2)
ジメチル−(2−オキソ−2−フェニルエチル)−スルホニウム,ブチルトリフェニルボレート (153148−27−7)
N,N,N−トリブチル−1−ブタンアミニウム,トリス(5−フルオロ−2−メチルフェニル)ヘキシルボレート (225107−27−7)
1−ヘプチル−2−[3−(1−ヘプチル−1,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−2H−インドール−2−イリデン)−1−プロペン−1−イル]−3,3−ジメチル−3H−インドリウム,ブチルトリフェニルボレート (117522−03−9)
ブチルトリフェニルボレート,リチウム (65859−86−1)。
中圧水銀アークは、少ない割合の金属ハロゲン化物を混合することによって、スペクトル出力を変化させるように修正される:
・ 鉄ドープ: スペクトル出力が350〜450nmにシフト、
・ ガリウムドープ: 非常に小さいUVを発光、紫色および青色スペクトル領域における発光、
(水銀アークを金属ヨウ化物でドーピングすることによって予想されるさらなるUV線(波長/nm): ガリウム(Ga)403、417、および鉄(Fe)358、372、374/5、382、386、388)、および
Focussed Reflected Diode Array (FRDA)システム (igb−tech GmbH)、例えば400nm付近に発光ピークを有するFRDA 202。マルチスペクトルランプも使用できる。
a) 基材上に記録材料を堆積させる段階、
b) 前記記録材料を、ホログラフィー情報を有する変調された化学線に露光して、体積ホログラムを製造する段階、
c) 辺長の最長寸法15nm〜1000nm、好ましくは15nm〜600nm、および特に20〜500nm、および厚さ2nm〜100nm、好ましくは2〜40nmおよび特に4〜30nmを有する小板状に形づけられた遷移金属粒子を含むコーティングで、前記体積ホログラムの少なくとも一部を被覆する段階
を含む、前記方法である。
WO2011/064162号の実施例1に従って製造を行う。その沈殿物を、水、メタノール、エチルアクリレート、シクロヘキサノン、メトキシプロパノールを含む、選択した任意の溶剤中に分散させて、銀小板20%を含有する分散液を得る。
Lumogen(登録商標) OVD Primer 301は、BASF SEの市販のUV硬化性製品である。
体積ホログラムの色座標を、色度計Konica Minolta CM3610−d−(測定−d8°配置)を使用して、反射および透過において測定する。
+5%の光開始剤(総質量に対する質量%)を含有するUVワニス7gを、20mLのガラス瓶内の3gの銀小板分散液(シクロヘキサノン中50%の顔料)に添加し、室温で穏やかに撹拌する。得られたインクを、W02005/124456号に従って、PETフィルム上に製造され且つ空気乾燥された体積ホログラム上にワイヤーバー0(ウエットインク厚4ミクロン)を用いて被覆する。被覆されたフィルムを、ホログラフィー構造を有するシムに対して押しつけ、且つ、UV光(Aktiprint(登録商標) 18/2、80W/cm、10m/分)下でフィルムを通じて硬化させる。PETフィルムをシムから剥がす。インクの顔料対結合剤の比は、1:5に相当する。
インクの調製
ニトロセルロース28g(DHM 10/25 IPA 70%固体(Nobel Entreprises、英国))を、250mLのガラス瓶内の酢酸エチル72.00g(99〜100%純度(rein)、Brenntag)にゆっくりと添加し、且つ、室温で完全に溶解するまで緩やかに撹拌する。その後、固体含有率の測定を実施し、ワニス調製物中で固体含有率19.6%の値に達するように酢酸エチルの量を調節する。金属インクの調製のための一般的な手順: 10.0gの銀顔料分散液(エチルセルロース内で得られた19.6%の顔料粒子)を、10gの上記のワニスに、顔料:結合剤の比が1:1に調節されるように添加する。得られた分散液を、800rpmで10分間、Dispermatを用いて撹拌して金属インクが得られ、その金属インクをW02005/124456号に従ってPETフィルム上に製造され且つ空気乾燥された体積ホログラム上にワイヤーバー0(ウェットインク厚4ミクロン)を用いて被覆する。
Claims (15)
- a) 透明または半透明熱可塑性ポリマーである基材、
b) 体積ホログラムである、屈折率変調を有する層、およびその上に
c) 屈折率変調層の少なくとも一部の上の、辺長の最長寸法15〜600nm、および厚さ2〜40nmを有する小板状に形づけられた遷移金属粒子、および結合剤を含むコーティング
を含み、
構成要素c)のコーティングが、追加的に、エンボス加工された表面起伏微細構造を含み、
金属が、CuおよびAgからなる群から選択され、
金属粒子/結合剤の比は、10:1〜1:100であり、
偽造防止素子が、見る際に角度依存性のある色変化を示す、偽造防止素子。 - エンボス加工された表面起伏微細構造は光学的変化像(optically variable device、OVD)である、請求項1に記載の偽造防止素子。
- 前記金属が、Agである、請求項1または2に記載の偽造防止素子。
- 偽造防止素子は、形づけられた遷移金属粒子が8〜20nmの高さおよび15〜40nmの直径を有する時、オレンジ色から青色までの角度依存性のある色変化、形づけられた遷移金属粒子が8〜20nmの高さおよび30〜70nmの直径を有する時、赤色から緑色までの角度依存性のある色変化、および形づけられた遷移金属粒子が7〜17nmの高さおよび50〜120nmの直径を有する時、青色から金色までの角度依存性のある色変化を示す、請求項3に記載の偽造防止素子。
- 構成要素c)のコーティングが、ニトロセルロース、エチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートブチレート(CAB)、アルコール可溶性プロピオネート(ASP)、塩化ビニル、酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル、ビニル、アクリル、ポリウレタン、ポリアミド、ロジンエステル、炭化水素、アルデヒド、ケトン、ウレタン、ポリエチレンテレフタレート、テルペンフェノール、ポリオレフィン、シリコーン、セルロース、ポリアミド、ポリエステル、およびロジンエステル樹脂からなる群から選択される結合剤を含むか、または少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーおよび/またはオリゴマーおよび少なくとも1つの光開始剤を含む光重合性組成物である、請求項1から4までのいずれか1項に記載の偽造防止素子。
- 構成要素b)の記録材料が、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーおよび/またはオリゴマーおよび少なくとも1つの光開始剤を含む光重合性組成物である、請求項1から5までのいずれか1項に記載の偽造防止素子。
- 構成要素b)の記録材料および構成要素c)のコーティングが、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーおよび/またはオリゴマーおよび少なくとも1つの光開始剤を含む光重合性組成物である、請求項1から6までのいずれか1項に記載の偽造防止素子。
- 前記光開始剤が、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシケトン型化合物、α−アルコキシケトン型化合物、α−アミノケトン型化合物、モノアシルホスフィンオキシド化合物およびビスアシルホスフィンオキシド化合物、フェニルグリオキサレート化合物、オキシムエステル化合物、およびオニウム塩化合物(スルホニウム塩化合物およびヨードニウム塩化合物)およびそれらの混合物から選択される、請求項5、6または7に記載の偽造防止素子。
- 前記光開始剤が、アリールボレートおよび染料を増感剤として含む、請求項5、6または7に記載の偽造防止素子。
- 透明または半透明基材が、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、またはポリスチレンから選択される、請求項1から9までのいずれか1項に記載の偽造防止素子。
- 請求項1に記載の偽造防止素子を形成するための方法であって、
a) 基材上に記録材料を堆積させる段階、
b) 前記記録材料を、ホログラフィー情報を有する変調された化学線に露光して、体積ホログラムを製造する段階、
c) エンボス加工された表面起伏微細構造を施与し、辺長の最長寸法15〜600nm、および厚さ2〜40nmを有する小板状に形づけられた遷移金属粒子を含むコーティングで、前記体積ホログラムの少なくとも一部を被覆する段階
を含む、前記方法。 - 構成要素b)の記録材料が、乾燥または硬化状態で、0.1μm〜100μmの厚さを有する、請求項11に記載の方法。
- 構成要素c)のコーティングが、乾燥または硬化状態で、0.5μm〜50μmの厚さを有する、請求項11に記載の方法。
- 請求項1から10までのいずれか1項に記載の偽造防止素子を含む偽造防止製品であって、銀行券、クレジットカード、パスポートのような身分証明書類、身分証明カード、運転免許証、または他の照合書類、薬事用の衣服、ソフトウェア、コンパクトディスク、タバコの包装、および偽造または模倣されやすい他の製品または包装を含む、前記製品。
- 有価書類、権利、身分証明、偽造防止ラベルまたはブランド品における偽造または複製防止のための、請求項1から10までのいずれか1項に記載の偽造防止素子の使用。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261701738P | 2012-09-17 | 2012-09-17 | |
EP12184660 | 2012-09-17 | ||
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