JP6346551B2 - 流路ブロック及び流体供給制御装置 - Google Patents

Description

本発明は、流体の流路によって互いに接続された複数の流体制御機器（例えば流体制御弁や流量制御器等）を備えた流体供給制御装置に関する。また、本発明は、かかる流体供給制御装置を構成するための、流路ブロックに関し、より詳細には、複数の前記流体制御機器を所定の配列方向に配列しつつ装着することで前記流体供給制御装置を形成可能に構成された、流路ブロックに関する。

この種の流体供給制御装置は、例えば、半導体製造工程におけるガス供給装置として用いられている。具体的には、例えば、下記特許文献１に開示されたガス供給ユニットにおいては、内部にガス流路が形成された流路ブロックに、複数の流体制御機器が、ボルトにより固定されている。また、これら複数の流体制御機器は、流路ブロックの長手方向に沿って一列に配置されている。

ところで、半導体製造工程に用いられる上述のガス供給装置は、多数種類のガスを供給するように構成される場合がある。この場合、上述のようなガス供給ユニットが、複数並列して設けられている（例えば下記特許文献２参照）。

特開２００１−２２７６５７号公報 特開２００６−４６４９４号公報

この種の流体供給制御装置（特に、上述のような、半導体製造工程に用いられるガス供給装置）において、良好なメンテナンス性（maintainability）を保持しつつ、装置をさらに小型化あるいは集積化する、という要求がある。本発明は、上記に例示した事情等に鑑みてなされたものである。

本発明の流体供給制御装置は、所定の配列方向に配列された複数の流体制御機器と、これらの流体制御機器を装着可能な流路ブロックと、を備えている。本発明の前記流路ブロックの内部には、流体の流路が形成されている。また、前記流路ブロックは、複数の前記流体制御機器を前記配列方向に配列しつつ装着可能に構成されている。すなわち、前記流路ブロックは、複数の前記流体制御機器を前記配列方向に配列した状態で装着することで、前記流路によって互いに接続された複数の前記流体制御機器を備えた流体供給制御装置を形成可能に構成されている。

ここで、前記流路ブロックは、前記配列方向に配列された複数の前記流体制御機器の組について分離不能に一体的に形成されている。前記流路としては、第一流路と、第二流路と、が形成されている。前記第一流路は、前記組を構成する複数の前記流体制御機器（これらは前記配列方向に配列されている）を互いに接続するように、前記配列方向に沿って設けられている。前記第二流路は、前記配列方向と直交する幅方向に沿って設けられている。

本発明の前記流体供給制御装置及び前記流路ブロックにおける第１の構成の特徴は、前記流路ブロックが、接続部を備えたことにある。この接続部は、２つの当該流路ブロックを前記幅方向に並列に隣接配置した状態で、両者の前記第二流路同士を接続可能に形成されている。

かかる第１の構成においては、前記配列方向に配列された複数の前記流体制御機器（これらは前記第一流路によって前記流体を授受可能に接続される）を備えた前記組が、前記流路ブロックに装着される。すると、前記組を構成する前記流体制御機器の各々は、前記第一流路及び前記第二流路を介して前記流体を授受可能となる。

ここで、かかる第１の構成においては、複数の前記流体制御機器の前記組が少なくとも１つ装着された１つの前記流路ブロックと、同様のもう１つの前記流路ブロックとが、前記幅方向に並列に隣接配置された状態で、前記接続部によって互いに接続される。これにより、両者の前記第二流路同士が、前記流体を授受可能に接続される。

このように、かかる第１の構成によれば、複数の前記流路ブロックを並列に隣接配置して、前記接続部により両者の前記第二流路同士を接続することで、前記流体の種類の増加に伴って並列に多数の前記組を設ける要求に良好に対応することが可能となる。したがって、かかる構成によれば、前記流体供給制御装置を、良好なメンテナンス性を保持しつつ、良好に小型化あるいは集積化することが可能となる。

本発明の第２の構成においては、前記流路ブロックは、複数の前記組を前記配列方向と直交する幅方向に複数配列しつつ装着可能に、且つ前記組の各々について分離不能に一体的に形成されている。そして、前記第二流路は、前記組の各々を互いに接続するように設けられている。

かかる第２の構成においては、前記配列方向に配列された複数の前記流体制御機器（これらは前記第一流路によって前記流体を授受可能に接続される）を備えた前記組が、前記幅方向に複数配列された状態で、前記流路ブロックに装着される。すると、複数の前記組が、前記流路ブロックの内部に設けられた前記第二流路によって、前記流体を授受可能に接続される。

ここで、かかる第２の構成においては、複数の前記組が装着された１つの前記流路ブロックと、他の複数の前記組が装着されたもう１つの前記流路ブロックとが、前記幅方向に並列に隣接配置された状態で、前記接続部によって互いに接続される。これにより、両者の前記第二流路同士が、前記流体を授受可能に接続される。

このように、かかる第２の構成によれば、複数の前記流路ブロックを並列に隣接配置して、前記接続部により両者の前記第二流路同士を接続することで、前記流体の種類の増加に伴って並列に多数の前記組を設ける要求に良好に対応することが可能となる。したがって、かかる構成によれば、前記流体供給制御装置を、良好なメンテナンス性を保持しつつ、良好に小型化あるいは集積化することが可能となる。また、かかる構成によれば、前記流体供給制御装置の製造時の取扱い易さが向上するとともに、部品点数が削減される。

本発明の第３の構成においては、前記接続部は、第一接続片と第二接続片とを備えている。前記第一接続片は、厚さ方向（前記幅方向及び前記配列方向と直交する方向）における一方側にて、前記幅方向における一方の端部から当該幅方向に（すなわち外側に向けて）突設されている。前記第二接続片は、前記厚さ方向における他方側にて、前記幅方向における他方の端部から当該幅方向に（すなわち外側に向けて）突設されている。具体的には、前記第一接続片と前記第二接続片とは、前記配列方向に沿って見た場合に、対角位置に設けられている。

また、本発明の第３の構成においては、前記第一接続片には、第一接続開口部が形成されている。この第一接続開口部は、前記厚さ方向における前記他方側に開口するように設けられているとともに、前記第二流路に接続されている。また、前記第二接続片には、第二接続開口部が形成されている。この第二接続開口部は、前記厚さ方向における前記一方側に開口するように設けられているとともに、前記第二流路に接続されている。そして、前記接続部は、前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とが互いに対向するように前記第一接続片と前記第二接続片とが前記厚さ方向に重ね合わされることで、互いの前記第二流路同士が接続されるように構成されている。

かかる第３の構成によれば、複数の前記組が装着された１つの前記流路ブロックと、他の複数の前記組が装着されたもう１つの前記流路ブロックとが、一方における前記第一接続片（前記第一接続開口部）と他方における前記第二接続片（前記第二接続開口部）とが互いに対向するように、前記幅方向に並列に隣接配置（接合）される。これにより、両者の前記第二流路同士が接続される。したがって、かかる構成によれば、前記流体の種類の増加に伴って並列に多数の前記組を設ける場合に、前記流体供給制御装置全体の配管長を、可及的に抑制することが可能となる。

本発明の第４の構成においては、前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とが、前記配列方向について同一位置となるように、前記第一接続片及び前記第二接続片が形成されている。かかる構成によれば、前記流体の種類の増加に伴って並列に多数の前記組を設ける場合に、前記流体供給制御装置全体の前記配列方向におけるサイズを、可及的に抑制することが可能となる。

本発明の第５の構成においては、前記接続部は、第一接続片と第二接続片とを備えている。前記第一接続片は、前記幅方向における一方の端部から、当該幅方向に突設されている。前記第二接続片は、前記幅方向における他方の端部から、当該幅方向に突設されている。

また、本発明の第５の構成においては、前記第一接続片には、第一接続開口部が形成されている。この第一接続開口部は、上側表面（前記流路ブロックにおける前記流体制御機器が装着される一表面）側にて開口するように設けられているとともに、前記第二流路に接続されている。また、前記第二接続片には、第二接続開口部が形成されている。この第二接続開口部は、前記上側表面側にて開口するように設けられているとともに、前記第二流路に接続されている。そして、前記接続部は、前記第一接続片と前記第二接続片とを前記配列方向に隣接配置した状態で、バイパス配管（前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とを互いに接続するための配管）を前記第一接続片と前記第二接続片とに跨るように装着することで、隣接配置された２つの当該流路ブロックにおける互いの前記第二流路同士が接続されるように構成されている。

かかる第５の構成によれば、複数の前記組が装着された１つの前記流路ブロックと、他の複数の前記組が装着されたもう１つの前記流路ブロックとが、一方における前記第一接続片と他方における前記第二接続片とを前記配列方向に隣接配置した状態で、前記幅方向に並列に隣接配置される。そして、前記第一接続片に形成された前記第一接続開口部と、前記第一接続片に形成された前記第一接続開口部とが、前記バイパス配管によって接続される。これにより、隣接配置された２つの前記流路ブロックにおける前記第二流路同士が接続される。したがって、かかる構成によれば、前記流体の種類の増加に伴って並列に多数の前記組を設ける場合に、前記流体供給制御装置全体の前記幅方向におけるサイズを、可及的に抑制することが可能となる。

本発明の第６の構成においては、複数の前記流体制御機器の各々に対応して、一対の雌螺子部がそれぞれ設けられている。一対の前記雌螺子部は、複数の前記流体制御機器の各々を前記流路ブロックに対して着脱自在に装着可能に形成されている。そして、前記第一流路と前記雌螺子部とが、前記配列方向に沿って略一直線状に配置されている。

かかる第６の構成によれば、複数の前記流体制御機器は、それぞれ、一対の前記雌螺子部によって、前記流路ブロックに対して着脱自在に装着（固定）される。また、前記配列方向について隣接する前記流体制御機器同士は、前記流路ブロックへの装着により、前記第一流路を介して接続される。

ここで、前記流路ブロックにおいては、一対の前記雌螺子部と前記第一流路とが、前記配列方向に沿って略一直線状に設けられる。このため、かかる構成によれば、前記流体制御機器を着脱自在に装着するための前記雌螺子部を当該流体制御機器の幅からはみ出すように設ける必要性から当該流体制御機器及び前記流路ブロックの幅が大きくなり結果として前記流体供給制御装置の幅が大きくなる、という問題が、良好に解消される。

よって、かかる構成によれば、前記流体制御機器を前記流路ブロックに対して着脱自在としつつ、前記流体供給制御装置の幅を可及的に小さくすることができる。したがって、かかる構成によれば、前記流体供給制御装置における良好なメンテナンス性を保持しつつ、前記流路ブロック及びこれを備えた前記流体供給制御装置におけるさらなる小型化あるいは集積化を図ることが可能となる。

本発明の第７の構成においては、複数の前記流体制御機器は、当該流路ブロックにおける一表面である上側表面側に集約して装着されている。また、前記雌螺子部は、前記上側表面にて開口する非貫通穴として形成されている。そして、前記第一流路は、前記非貫通穴における深さ方向に前記雌螺子部を迂回するように形成されている。したがって、かかる構成によれば、前記流路ブロック及び前記流体供給制御装置の幅を可及的に小さくすることができ、以て、前記流路ブロック及びこれを備えた前記流体供給制御装置におけるさらなる小型化あるいは集積化の要求に良好に対応することが可能となる。

上述した流体制御弁は、次のような構成を有している。

（１）操作流体の圧力によってピストンを摺動させ、弁体を弁座に当接または離間させる流体制御弁において、第１ピストン及び第２ピストンを同軸上に有すること、前記第１ピストンには、前記弁体が前記弁座に当接する方向に付勢する１つの第１圧縮バネが同軸上に取り付けられていること、前記第２ピストンには、前記弁体が前記弁座に当接する方向に付勢する１つの第２圧縮バネが同軸上に取り付けられていること、を特徴とする。

（２）（１）に記載の流体制御弁において、前記第１ピストン及び前記第２ピストンは、同一形状のものであること、前記第１圧縮バネ及び前記第２圧縮バネは、同一形状のものであること、が好ましい。

（３）（１）または（２）に記載の流体制御弁において、前記第１圧縮バネによる付勢力と、前記第２圧縮バネによる付勢力の総和が、前記弁体を前記弁座に当接させる力となること、が好ましい。

（４）（１）乃至（３）のいずれか１つに記載の流体制御弁において、前記弁座が形成されるボディの上部には、ホルダが固定され、前記弁体と前記ホルダの間には、ベローズが配置されていること、が好ましい。

（５）（１）乃至（４）のいずれか１つに記載の流体制御弁において、前記弁座が形成されるボディの上部には、ホルダが溶接により固定されていること、が好ましい。

（６）（５）に記載の流体制御弁において、前記ピストンを備えるアクチュエータ部は、前記ホルダから着脱可能であること、が好ましい。

（７）（１）乃至（６）のいずれか１つに記載の流体制御弁において、チューブ形状の外装部材を有すること、が好ましい。

（８）（７）に記載の流体制御弁において、前記外装部材の先端に取り付けられたキャップの上面にワンタッチ継手を有すること、が好ましい。

上述した流体制御弁は、次のような作用・効果を有する。

上記（１）の態様によれば、第１ピストンに第１圧縮バネが、第２ピストンに第２圧縮バネが、それぞれ同軸上に直列に取り付けられているため、１つの流体制御弁の幅を細くし、小型化することができる。よって、全体の設置面積を減少させることができる。

ここで、近年、半導体製造装置では、多種のガスの切り換えを行うため、設置すべきバルブの数が増加し、全体の設置面積を減少させることが課題となっている。本発明の流体制御弁によれば、２つのピストン（第１ピストン、第２ピストン）だけでなく、閉弁のためのシール力を高めるため、例えば、６つのピストンを積んだとしても、アクチュエータ部の高さが増すだけである。すなわち、シール力を高めつつ、流体制御弁自体の幅は細いままで、設置面積は変化しない。よって、ピストンの数に関わらず、流体制御弁の小型化を実現することができ、全体の設置面積の減少を実現することができる。また、ピストンの数に関わらず、弁体の材質や形状、必要なＣｖ値などに応じて任意の数のピストンを組み合わせるだけで、閉弁のために必要なシール力を容易に設定することが可能となる。さらに、いずれか１つの圧縮バネが劣化したとしても、他の圧縮バネの付勢力により、弁体がバランスを崩して傾きが生じることなく、弁座に対し均一のシール力を確保することができる。

上記（２）の態様によれば、複数のピストンと圧縮バネを組み合わせるとき、それぞれ同一形状のものであるため、部品を共通化することができる。よって、別途、他の形状のピストン、圧縮バネを用意する必要が無い。また、型成形で部品を製造する場合には、製造するためのコストを削減することができる。さらに、部品を共通化することにより、組立の際、作業の効率性を向上させることができる。

上記（３）の態様によれば、第１圧縮バネ、第２圧縮バネのそれぞれの付勢力の総和が、流体制御弁を閉弁するためのシール力となるため、圧縮バネのバネ応力を各々下げることができる。そのため、バネの耐久性が向上する。また、バネの設計の自由度が高まり、設計・製造が容易になる。さらに、公差がばらついたとしても、閉弁に必要なシール力を確保することができる。

上記（４）の態様によれば、弁体とホルダの間にはベローズが設けられているため、ダイアフラム弁体と比較すると、より小径内で長ストロークを得ることができる。

上記（５）の態様によれば、ボディとホルダは溶接により固定され、密封されているため、組立やメンテナンスの際、アクチュエータ部の取り外しを容易に行うことができ、作業の効率性を向上させることができる。また、ボディとホルダは密封されているため、制御流体が漏れることがなく、安全性を高めることができる。

上記（６）の態様によれば、アクチュエータ部をホルダから着脱することができるので、組立やメンテナンスの際、簡単にアクチュエータ部を交換することができ、作業の効率性を向上させることができる。

上記（７）の態様によれば、外装部材がチューブ形状であるため、流体制御弁の組立を容易に行うことができる。

上記（８）の態様によれば、外装部材の先端に取り付けられたキャップの上面にワンタッチ継手を配置し、上面にエアチューブを接続することができるため、設置面積の増加を防ぐことができる。

本発明の流体供給制御装置の一実施形態であるガス供給装置における、流体の通流経路の概略構成を示すフロー図。 図１に示されているガス供給装置の構成の一例を示す平面図。 図２に示されているガス供給装置（本発明の流路ブロックの一実施形態を含む）の正面図。 図３に示されている本発明の流路ブロックの一実施形態を拡大した正面図。 図４に示されている流路ブロックの平面図。 図５に示されている流路ブロックの側面図。 図５における７−７断面図。 本発明の流路ブロックの一変形例の平面図。 図８に示されている流路ブロックの正面図。 図８に示されている流路ブロックの側面図。 本発明の流体供給制御装置の概略構成を示す平面図。 図１１に示されている流体供給制御装置の正面図。 図１１に示されている流体供給制御装置の底面図。 図１１に示されている流路ブロックを拡大した正面図。 本発明の流体供給制御装置の概略構成を示す平面図。 図１５に示されている流体供給制御装置の正面図。 図１５に示されている流体供給制御装置の底面図。 図１５に示されている流路ブロックを拡大した正面図。 本発明の一変形例に係る流体供給制御装置の概略構成を示す斜視図。 本発明の他の変形例に係る流体供給制御装置の分解斜視図。 図２０に示されている第一流路ブロックを拡大した斜視図。 図２１に示されている第一流路ブロックの別の視点からの斜視図。 本発明の一実施形態に係る配管継手の一例を示す平面図。 図２３に示されている配管継手の側面図。 図２３に示されている配管継手の底面図。 本発明の一実施形態に係る配管継手の他の一例を示す平面図。 図２６に示されている配管継手の側面図。 図２６に示されている配管継手の底面図。 図２３〜図２５に示されている配管継手と図２６〜図２８に示されている配管継手とを連結することによって形成された、本発明の一実施形態に係る配管継手構造の概略構成を示す側面図。 図２３〜図２５に示されている配管継手と図２６〜図２８に示されている配管継手とを連結することによって形成された、本発明の一実施形態に係る配管継手構造の概略構成を示す平面図。 比較例としての従来技術の配管継手の構成を示す平面図。 本発明の一実施形態に係る流体供給制御装置の構成の一例を示す平面図。 図３２に示されている流体供給制御装置の側面図。 図３３に示されている流路ブロックを拡大した側面図。 本発明の流体供給制御装置の構成の他の一例を示す側面図。 本発明の配管継手の一変形例の構成を示す平面図。 図３６に示されている配管継手の側面図。 図３６に示されている配管継手の底面図。 本発明の配管継手の他の一変形例の構成を示す平面図。 図３９に示されている配管継手の側面図。 図３９に示されている配管継手の底面図。 流体制御弁の断面図。 図４２のＰＶ部拡大断面図。 弁部の断面図。 ピストンの断面図。 ピストンの斜面図。 流体制御弁の組立の際の分解図。 流体制御弁の一変形例の断面図。 流体制御弁の他の変形例の断面図。 流体制御弁の参考例の断面図。 バルブ取付ブロック内の流路周辺の断面図。 バルブ取付ブロック内の流路周辺の断面図。 従来の流体制御弁の断面図。 従来の流体制御弁の断面図。

以下、本発明を具体化した一実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、変形例は、一実施形態の説明中に挿入されると首尾一貫した実施形態の説明の理解が妨げられるので、末尾にまとめて記載されている。

＜実施形態のガス供給装置の全体構成＞
まず、図１を参照しつつ、本発明に係る流体供給制御装置の一例（一実施形態）であるガス供給装置１０における、流体の通流経路の概略構成について説明する。ガス供給装置１０は、半導体製造工程（例えばエッチングプロセス）に用いられるものであって、複数（図１の図示では８つ）のプロセスガスを利用可能に構成されている。すなわち、ガス供給装置１０は、供給用ガス（複数のプロセスガスを混合した混合ガス、又は単一のプロセスガス）を、図示しない供給先（プロセスチャンバ）に供給可能に構成されている。

具体的には、ガス供給装置１０においては、ガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ，１０Ｇ，及び１０Ｈが、並列に設けられている。ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈは、それぞれ、異なるプロセスガス流入ライン１１（プロセスガス流入ライン１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ，１１Ｄ，１１Ｅ，１１Ｆ，１１Ｇ，及び１１Ｈ）に接続されている。プロセスガス流入ライン１１Ａ〜１１Ｈは、それぞれ、異なる種類のプロセスガスが導入されるようになっている。

また、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈには、パージガス流入ライン１２が接続されている。パージガス流入ライン１２は、不活性ガス（例えば窒素ガス）であるパージガスをガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈに供給するように設けられている。さらに、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈには、プロセスガス供給ライン１３が接続されている。

すなわち、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈは、プロセスガス流入ライン１１を介して図示しないプロセスガス供給源から供給されたプロセスガスと、パージガス流入ライン１２を介して図示しないパージガス供給源から供給されたパージガスとを、択一的に、プロセスガス供給ライン１３に向けて通流させるように構成されている。そして、ガス供給装置１０は、プロセスガスをプロセスガス供給ライン１３に供給するようにガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈを動作させることで、上述の供給用ガスを、プロセスガス供給ライン１３を介して上述の供給先に供給するように構成されている。

なお、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈは、それぞれ、同様の構成を有している。よって、以下、ガス供給ユニット１０Ａの構成を中心として説明する。

ガス供給ユニット１０Ａには、内部メインガス流路１４と、内部パージガス流路１５と、が形成されている。内部メインガス流路１４及び内部パージガス流路１５は、ガス供給ユニット１０Ａの内部に形成されたガス流路である。内部メインガス流路１４は、プロセスガス流入ライン１１とプロセスガス供給ライン１３との間に設けられている。すなわち、プロセスガス流入ライン１１は、内部メインガス流路１４を介してプロセスガス供給ライン１３に接続されている。また、内部パージガス流路１５は、パージガスの流路であって、パージガス流入ライン１２と内部メインガス流路１４とを接続するように設けられている。

ガス供給ユニット１０Ａは、モジュールとしての、流量制御器１６を備えている。流量制御器１６は、内部メインガス流路１４における、内部パージガス流路１５との接続箇所よりも、プロセスガスの通流方向における下流側（プロセスガス供給ライン１３側）に介装されている。なお、ガス供給ユニット１０Ａ等における、プロセスガスの通流方向を、以下、「ガス通流方向」と称する。流量制御器１６は、いわゆる「マスフローコントローラ」と称されるものであって、内部メインガス流路１４におけるガスの質量流量に対応する検出信号を出力可能であるとともに、かかる質量流量を、外部（マイクロコンピュータ等）からの制御信号により制御可能に構成されている。

また、ガス供給ユニット１０Ａは、モジュールとしての、流体制御弁１７（流体制御弁アクチュエータ１７ａを含む）、流体制御弁１８（流体制御弁アクチュエータ１８ａを含む）、及び流体制御弁１９（流体制御弁アクチュエータ１９ａを含む）を備えている。流体制御弁１７は、上述の接続箇所よりもガス通流方向における上流側（プロセスガス流入ライン１１側）にて、内部メインガス流路１４に介装されている。流体制御弁１８は、内部パージガス流路１５に介装されている。流体制御弁１９は、流量制御器１６よりもガス通流方向における下流側にて、内部メインガス流路１４に介装されている。

流体制御弁１７は、いわゆる「エアオペレートバルブ」としての構成を備えた開閉弁であって、流体制御弁アクチュエータ１７ａの端部には開閉制御用のエア配管を接続するための継手部が設けられている（流体制御弁１８及び１９も同様である）。流体制御弁１７は、プロセスガス流入ライン１１から流量制御器１６に向かうプロセスガスの流入とその遮断とを切換可能に設けられている。流体制御弁１８は、内部メインガス流路１４へのパージガスの流入とその遮断とを切換可能に設けられている。流体制御弁１９は、プロセスガス供給ライン１３に向かうガスの流入とその遮断とを切換可能に設けられている。

図２を参照すると、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈにおいては、流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９が、ガス通流方向についてこの順に配置されている。また、流体制御弁１７〜１９及び流量制御器１６は、ガス通流方向に沿って（具体的にはガス通流方向と平行に）略一直線状に配列されている。なお、以下、ガス供給ユニット１０Ａ等における流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９が配列されている方向を、「機器配列方向」と称する。本構成においては、ガス通流方向は、機器配列方向と平行であって、流体制御弁１７から流体制御弁１８及び流量制御器１６を経て流体制御弁１９に向かう一方向（図２における左から右に向かう方向）に設定されている。

また、本構成においては、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄにおける各流量制御器１６は、ガス通流方向について略同じ位置に配置されている（流体制御弁１７〜１９についても同様である）。すなわち、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄにおける各流量制御器１６は、幅方向（ガス通流方向及び後述する流路ブロック２０の厚さ方向と直交する方向：図２における上下方向）に沿って略一直線状に配列されている。同様に、ガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈにおける各流量制御器１６は、ガス通流方向について略同じ位置に配置されている（流体制御弁１７，１８及び１９についても同様である）。

ガス供給装置１０（ガス供給ユニット１０Ａ）は、略平板状の部材である、上述の流路ブロック２０（装着対象）を備えている。本構成においては、流路ブロック２０には、流量制御器１６、並びに流体制御弁１７，１８及び１９が、機器配列方向に配列しつつ着脱自在に装着（固定）されている。流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９は、この順に機器配列方向に配列されつつ流路ブロック２０に装着されることで、当該流路ブロック２０の内部に形成されたガス流路（詳細は後述する）により、ガスを授受可能に接続されるようになっている。すなわち、流路ブロック２０は、機器配列方向に配列した状態で流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９が装着されることで、これらをこの順に接続するように構成されている。

また、流路ブロック２０は、上述の機器配列方向に配列された流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９の組を、幅方向に複数（本具体例においては４つ）装着可能に構成されている。具体的には、本構成においては、１つの流路ブロック２０は、複数のガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄを、幅方向に配列しつつ装着可能に構成されている。この流路ブロック２０は、複数のガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄにわたって、分離不能に一体的（具体的には継ぎ目なく一体）に形成されている。同様に、もう１つの流路ブロック２０は、複数のガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈを、幅方向に配列しつつ装着可能に構成されている。この流路ブロック２０は、複数のガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈにわたって、分離不能に一体的（具体的には継ぎ目なく一体）に形成されている。

すなわち、本構成においては、ガス供給装置１０は、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄに対応する流路ブロック２０（分離不能に一体）と、ガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈに対応する流路ブロック２０（分離不能に一体）と、を備えている。両者は、互いに供給用ガスやパージガスを授受可能に、隣接した状態で互いに結合されるようになっている。

＜実施形態の流路ブロックの概略構成＞
図３〜図７は、本発明の一実施形態に係る流路ブロック２０の構成の詳細を示している。以下、図３〜図７を用い、且つ必要に応じて他の図面をも参照しつつ、本実施形態の流路ブロック２０の具体的構成について詳細に説明する。

図２及び図３を参照すると、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄ及び１０Ｅ〜１０Ｈにおいては、流量制御器１６、並びに流体制御弁１７，１８及び１９は、流路ブロック２０における一表面である上側表面２０ａ（装着面）側に集約して装着されている。なお、流路ブロック２０における、上側表面２０ａとは反対側の一表面を、以下「下側表面２０ｂ」と称する。また、流路ブロック２０における、上側表面２０ａ及び下側表面２０ｂと直交する表面であって、法線方向が幅方向となるものを、以下「端面２０ｃ」と称する。

以下、まず、図２〜図４を参照しつつ、１つの流路ブロック２０における、流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９の間の接続、及びガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄの間の相互接続に関する、内部のガス流路の概略的な構成について説明する。

流路ブロック２０は、ステンレス鋼によって形成された略板状の部材であって、その内部にて、プロセスガスを、上述のガス通流方向すなわち機器配列方向に通流させるように構成されている。具体的には、流路ブロック２０の内部には、略Ｕ字状の接続流路２１が形成されている。本発明の「第一流路」を構成する接続流路２１は、流路ブロック２０のガス通流方向における上流側の位置（ガス通流方向における上流側の端部寄りの位置）に設けられている。

接続流路２１は、プロセスガスを上述のガス通流方向に通流させるように、平面視（流路ブロック２０の厚さ方向に見た場合）にて、ガス通流方向に沿って略一直線状に形成されている。具体的には、接続流路２１は、上側表面２０ａにて開口する入口ポート２１ａ及び出口ポート２１ｂを有している。すなわち、入口ポート２１ａは、プロセスガス流入ライン１１からのプロセスガスの流入口であって、接続流路２１のガス通流方向における上流側の端部に設けられている。同様に、出口ポート２１ｂは、入口ポート２１ａから流入したプロセスガスの流出口であって、接続流路２１のガス通流方向における下流側の端部に設けられている。

入口ポート２１ａから下側表面２０ｂに向かって、入口通路２１ｃが形成されている。同様に、出口ポート２１ｂから下側表面２０ｂに向かって、出口通路２１ｄが形成されている。入口通路２１ｃ及び出口通路２１ｄは、円筒状の穴であって、流路ブロック２０の厚さ方向と平行に設けられている。

入口通路２１ｃ及び出口通路２１ｄにおける下側表面２０ｂ側の端部は、接続路２１ｅによって互いに接続されている。接続路２１ｅは、下側表面２０ｂ側から形成された溝をステンレス鋼により形成された平板状（平面視にて長円状）の蓋部２１ｆによって溶接（例えばレーザー溶接や電子ビーム溶接）等により気密的に閉塞することによって形成された空間であって、ガス通流方向と平行に設けられている。

接続流路２１よりもガス通流方向における下流側であって、流体制御弁１７，１８と流量制御器１６との間には、接続流路２２が設けられている。本発明の「第一流路」を構成する接続流路２２は、上述のガス通流方向にガスを通流させるように、流路ブロック２０の内部にてガス通流方向に沿って形成されたガス流路である。接続流路２２は、上述の接続流路２１と同様の構造を有していて、流体制御弁１７又は１８と流量制御器１６とを接続するように設けられている。

具体的には、接続流路２２は、上述の接続流路２１と同様に、入口ポート２２ａ、出口ポート２２ｂ、入口通路２２ｃ、出口通路２２ｄ、接続路２２ｅ、及び蓋部２２ｆを有している。接続流路２２は、流体制御弁１７又は１８を経て入口ポート２２ａに流入したガスを、入口通路２２ｃ、接続路２２ｅ、及び出口通路２２ｄを介して出口ポート２２ｂに伝達して出口ポート２２ｂから排出することで、当該ガスを流体制御弁１７又は１８から流量制御器１６に向かって通流可能に設けられている。

流路ブロック２０の、ガス通流方向における接続流路２１及び２２よりも下流側の位置には、接続流路２３が設けられている。すなわち、接続流路２３は、流路ブロック２０のガス通流方向における下流側の位置（下流側の端部寄りの位置）に設けられている。本発明の「第一流路」を構成する接続流路２３は、上述のガス通流方向にガスを通流させるように、流路ブロック２０の内部にてガス通流方向に沿って形成されたガス流路であって、上述の接続流路２１及び２２と同様の構造を有している。この接続流路２３は、流量制御器１６と流体制御弁１９とを接続するように設けられている。

具体的には、接続流路２３は、上述の接続流路２１及び２２と同様に、入口ポート２３ａ、出口ポート２３ｂ、入口通路２３ｃ、出口通路２３ｄ、接続路２３ｅ、及び蓋部２３ｆを有している。接続流路２３は、流量制御器１６を経て入口ポート２３ａに流入したガスを、入口通路２３ｃ、接続路２３ｅ、及び出口通路２３ｄを介して出口ポート２３ｂに伝達して出口ポート２３ｂから排出することで、当該ガスを流量制御器１６から流体制御弁１９に向かって通流可能に設けられている。

上述のように、接続流路２１，２２及び２３は、それぞれ、平面視にて、ガス通流方向に沿って略一直線状に形成されている。また、接続流路２１，２２及び２３は、平面視にて、ガス通流方向に沿って略一直線状に配置されている。ここで、接続流路２１，２２及び２３が「略一直線状に配置されている」とは、必ずしも、これらの平面視における中心が正確に特定直線上に位置することまでを要求するものではない。すなわち、例えば、これらが平面視にて特定直線に重なるように配置されていれば、「略一直線状に配置されている」ということができる。

流路ブロック２０の上側表面２０ａにおける、流体制御弁１８に対応する位置には、パージガス供給ポート２４が、流体制御弁１８に向けて開口するように設けられている。パージガス供給ポート２４は、平面視にて、接続流路２２における入口ポート２２ａについて、接続流路２１における出口ポート２１ｂと略点対称の位置に配置されている。すなわち、接続流路２１における出口ポート２１ｂと、パージガス供給ポート２４と、接続流路２２における入口ポート２２ａとは、この順に、平面視にてガス通流方向に沿って略一直線状に配置されている。

パージガス供給ポート２４は、複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・に跨がるように装置幅方向に沿って形成された内部パージガスライン２５と連通することで、流体制御弁１８にパージガスを供給するように形成されている。本発明の「第二流路」を構成する内部パージガスライン２５は、流路ブロック２０の内部に形成されたパージガス流路であって、パージガス流入ライン１２（図１参照）に接続されている。また、パージガス供給ポート２４と内部パージガスライン２５との間には、流路ブロック２０の厚さ方向と平行な短いガス流路が形成されている。すなわち、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄに対応する各パージガス供給ポート２４は、それぞれ、上述の短いガス流路を介して、内部パージガスライン２５に接続されている。

本実施形態においては、内部パージガスライン２５は、流体制御弁１８に対応する位置（流体制御弁１８のほぼ真下）に設けられている。具体的には、内部パージガスライン２５は、平面視における機器配列方向での位置がパージガス供給ポート２４と略一致するように配置されている。

流路ブロック２０の上側表面２０ａにおける、流体制御弁１９に対応する位置には、プロセスガス供給ポート２６が、流体制御弁１９に向けて開口するように設けられている。プロセスガス供給ポート２６は、複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・に跨がるように装置幅方向に沿って形成された供給側内部ガスライン２７と連通することで、流体制御弁１９を通過したガスを供給側内部ガスライン２７に供給するように形成されている。

本発明の「第二流路」を構成する供給側内部ガスライン２７は、流路ブロック２０の内部に形成されたガス流路であって、プロセスガス供給ライン１３（図１参照）に接続されている。また、プロセスガス供給ポート２６と供給側内部ガスライン２７との間には、流路ブロック２０の厚さ方向と平行な短いガス流路が形成されている。すなわち、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄに対応する各プロセスガス供給ポート２６は、それぞれ、上述の短いガス流路を介して、供給側内部ガスライン２７に接続されている。

本実施形態においては、供給側内部ガスライン２７は、流体制御弁１９に対応する位置（流体制御弁１９のほぼ真下）に設けられている。具体的には、供給側内部ガスライン２７は、平面視における機器配列方向での位置がプロセスガス供給ポート２６と略一致するように配置されている。

上述のように、ガス供給ユニット１０Ａ等は、プロセスガス流入ライン１１から接続流路２１における入口ポート２１ａに流入したプロセスガス、又はパージガス流入ライン１２から内部パージガスライン２５に流入したパージガスを、流体制御弁１７及び１８によって択一的に、接続流路２２、流量制御器１６、接続流路２３、及び流体制御弁１９を介して供給側内部ガスライン２７に供給可能に構成されている。すなわち、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄ（１０Ｅ〜１０Ｈ）は、内部パージガスライン２５及び供給側内部ガスライン２７を介して、ガスを授受可能に互いに接続されている。

流路ブロック２０における上側表面２０ａ側には、雌螺子部２８ａ，２８ｂ，２８ｃ及び２８ｄが設けられている。雌螺子部２８ａ，２８ｂ，２８ｃ及び２８ｄは、いわゆる「螺子穴」であって、軸方向（深さ方向）が流路ブロック２０の厚さ方向と平行となるように形成されている。

一対の雌螺子部２８ａは、流入側フランジ３０に対応する位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｂは、流体制御弁１７及び１８に対応する位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｃは、流量制御器１６に対応する位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｄは、流体制御弁１９に対応する位置に設けられている。そして、一対の雌螺子部２８ａと、一対の雌螺子部２８ｂと、一対の雌螺子部２８ｃと、一対の雌螺子部２８ｄとが、この順に、ガス通流方向（機器配列方向）に沿って略一直線状に配列されている。

流入側フランジ３０に対応する一対の雌螺子部２８ａは、接続流路２１における入口ポート２１ａを挟んだ両側にて、機器配列方向に配列されている。流入側フランジ３０は、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈのそれぞれに１つずつ設けられている。ガス供給ユニット１０Ａにおける流入側フランジ３０は、プロセスガス流入ライン１１Ａと入口ポート２１ａとを接続するための配管フランジであって、正面視にて略逆Ｔ字状に形成されている（ガス供給ユニット１０Ｂ〜１０Ｈにおける流入側フランジ３０も同様の構成を有している）。

モジュールに相当するものの１つである流入側フランジ３０は、フランジ部３１と管部３２とから構成されている。フランジ部３１は、平面視にて略Ｉ字状の板状部材であって、流路ブロック２０における上側表面２０ａに対して気密的に接合されるようになっている。管部３２は、フランジ部３１から略垂直に立設されている。フランジ部３１は、その幅（上述の幅方向における寸法：以下同様）が、管部３２及び取付ボルト３３の外径よりも僅かに大きく、且つ、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９の幅（流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａの幅）と略同一となるように形成されている。

フランジ部３１における、雌螺子部２８ａに対応する位置には、取付ボルト３３を挿通するための図示しない貫通孔が形成されている。そして、流入側フランジ３０は、一対の雌螺子部２８ａに取付ボルト３３を螺着することで、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に対して気密的に装着されている（このような装着箇所における気密的シール構造は周知であるので図示や説明は省略する：以下同様）。すなわち、一対の雌螺子部２８ａは、流入側フランジ３０を、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着可能に設けられている。

流体制御弁１７及び１８に対応する一対の雌螺子部２８ｂにおける一方は、接続流路２１における出口ポート２１ｂと、一対の雌螺子部２８ａのうちのガス通流方向における下流側（図４における右側）のものと、の間の位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｂにおける他方は、パージガス供給ポート２４と、接続流路２２における出口ポート２２ｂと、の間の位置に設けられている。

本実施形態においては、流体制御弁１７及び１８は、共通のバルブ取付ブロック４０を介して一体化されつつ、流路ブロック２０に固定されている。すなわち、流体制御弁アクチュエータ１７ａ及び１８ａは、同一のバルブ取付ブロック４０に予め取り付けられている。バルブ取付ブロック４０は、平面視にて略Ｉ字状に形成されている。また、バルブ取付ブロック４０は、その幅が取付ボルト４１の外径よりも僅かに大きく、且つ、流量制御器１６及び流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａの幅と略同一となるように形成されている。このバルブ取付ブロック４０には、接続流路２１における出口ポート２１ｂから流体制御弁アクチュエータ１７ａにおける弁体の近傍部分（かかる近傍部分の構成は周知であるので図示や説明は省略する：以下同様）を介して接続流路２２における入口ポート２２ａに至る内部ガス流路（図示略）と、パージガス供給ポート２４から流体制御弁アクチュエータ１８ａにおける弁体の近傍部分を介して接続流路２２における入口ポート２２ａに至る内部ガス流路（図示略）とが形成されている。そして、流体制御弁１７（１８）は、上述のような構成を有するバルブ取付ブロック４０に流体制御弁アクチュエータ１７ａ（１８ａ）を取り付けることによって構成されている。

また、バルブ取付ブロック４０における、雌螺子部２８ｂに対応する位置には、取付ボルト４１を挿通するための図示しない貫通孔が形成されている。そして、流体制御弁１７及び１８は、一対の雌螺子部２８ｂに取付ボルト４１を螺着することで、共通のバルブ取付ブロック４０を介して、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に対して気密的に装着されている。すなわち、本実施形態においては、流体制御弁１７及び１８を一体に形成したもの、換言すれば、流体制御弁アクチュエータ１７ａ，１８ａ及びこれらが予め取り付けられたバルブ取付ブロック４０が、流路ブロック２０に対して着脱自在な１つのモジュール（着脱モジュール）を構成するようになっている。そして、一対の雌螺子部２８ｂは、流体制御弁１７及び１８（流体制御弁アクチュエータ１７ａ，１８ａが予め取り付けられたバルブ取付ブロック４０）を、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着可能に設けられている。

流量制御器１６に対応する一対の雌螺子部２８ｃにおける一方は、一対の雌螺子部２８ｂのうちのガス通流方向における下流側のものと、接続流路２２における出口ポート２２ｂと、の間の位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｃにおける他方は、接続流路２３における入口ポート２３ａと出口ポート２３ｂとの間の位置に設けられている。

本実施形態においては、流量制御器１６には、ＭＦＣ取付部５０が設けられている。ＭＦＣ取付部５０は、平面視にて略Ｉ字状に形成されている。また、ＭＦＣ取付部５０は、その幅が取付ボルト５１の外径よりも僅かに大きく、且つ、流量制御器１６におけるＭＦＣ取付部５０よりも上側の部分及び流体制御弁１７〜１９（流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａ）の幅と略同一となるように形成されている。このＭＦＣ取付部５０には、接続流路２２における出口ポート２２ｂから流量制御器１６に至る内部ガス流路（図示略）と、流量制御器１６の内部を通過したガスが接続流路２３における入口ポート２３ａに至る内部ガス流路（図示略）とが形成されている。

また、ＭＦＣ取付部５０における、雌螺子部２８ｃに対応する位置には、取付ボルト５１を挿通するための図示しない貫通孔が形成されている。そして、流量制御器１６は、一対の雌螺子部２８ｃに取付ボルト５１を螺着することで、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に対して気密的に装着されている。すなわち、一対の雌螺子部２８ｃは、流量制御器１６（ＭＦＣ取付部５０）を、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着可能に設けられている。

流体制御弁１９に対応する一対の雌螺子部２８ｄにおける一方は、一対の雌螺子部２８ｃのうちのガス通流方向における下流側のものと、接続流路２３における出口ポート２３ｂと、の間の位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｄにおける他方は、プロセスガス供給ポート２６よりもガス通流方向における下流側、すなわち、流路ブロック２０のガス通流方向における下流側の端部に設けられている。

本実施形態においては、流体制御弁１９は、バルブ取付ブロック６０に流体制御弁アクチュエータ１９ａを予め取り付けることによって構成されている。バルブ取付ブロック６０は、平面視にて略Ｉ字状に形成されている。また、バルブ取付ブロック６０は、その幅が取付ボルト６１の外径よりも僅かに大きく、且つ、流量制御器１６及び流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａの幅と略同一となるように形成されている。このバルブ取付ブロック６０には、接続流路２３における出口ポート２３ｂから流体制御弁アクチュエータ１９ａにおける弁体の近傍部分を介してプロセスガス供給ポート２６に至る内部ガス流路（図示略）が形成されている。

また、バルブ取付ブロック６０における、雌螺子部２８ｄに対応する位置には、取付ボルト６１を挿通するための図示しない貫通孔が形成されている。そして、流体制御弁１９は、一対の雌螺子部２８ｄに取付ボルト６１を螺着することで、バルブ取付ブロック６０を介して、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に対して気密的に装着されている。すなわち、一対の雌螺子部２８ｄは、流体制御弁１９（流体制御弁アクチュエータ１９ａが予め取り付けられたバルブ取付ブロック６０）を、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着可能に設けられている。

本実施形態においては、雌螺子部２８ａ、接続流路２１（入口ポート２１ａ、入口通路２１ｃ、接続路２１ｅ、出口通路２１ｄ、及び出口ポート２１ｂを含む）、雌螺子部２８ｂ、接続流路２２（同上）、パージガス供給ポート２４、雌螺子部２８ｃ、接続流路２３（同上）、プロセスガス供給ポート２６、及び雌螺子部２８ｄが、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。また、雌螺子部２８ａ，２８ｂ，２８ｃ及び２８ｄは、上側表面２０ａにて開口する非貫通穴として形成されている。すなわち、接続流路２１，２２及び２３は、雌螺子部２８ａ〜２８ｄにおける深さ方向に当該雌螺子部２８ａ〜２８ｄを迂回するように形成されている。具体的には、雌螺子部２８ａ〜２８ｄは、接続流路２１〜２３と連通しないように形成されている。

なお、図１における内部メインガス流路１４は、接続流路２１〜２３、流体制御弁１７に形成された内部ガス流路（バルブ取付ブロック４０に形成された内部ガス流路であって接続流路２１における出口ポート２１ｂから流体制御弁アクチュエータ１７ａを介して接続流路２２における入口ポート２２ａに至る流路）、流量制御器１６に形成された内部ガス流路、流体制御弁１９に形成された内部ガス流路（バルブ取付ブロック６０に形成された内部ガス流路であって接続流路２３における出口ポート２３ｂから流体制御弁アクチュエータ１９ａを介してプロセスガス供給ポート２６に至る流路）並びにプロセスガス供給ポート２６から供給側内部ガスライン２７に至るガス流路に相当する。また、図１における内部パージガス流路１５は、内部パージガスライン２５からパージガス供給ポート２４に至るパージガス流路、バルブ取付ブロック４０に形成された内部ガス流路であってパージガス供給ポート２４から流体制御弁１８を介して接続流路２２における入口ポート２２ａに至る流路、及び内部パージガスライン２５に相当する。

＜実施形態の流路ブロックの要部構成＞
次に、複数の流路ブロック２０を幅方向に並列に隣接配置した状態での、隣接する流路ブロック２０における内部パージガスライン２５同士及び供給側内部ガスライン２７同士の接続に関する構成について、図５〜図７を参照しつつ説明する。なお、図７は、隣接する流路ブロック２０における内部パージガスライン２５同士の接続部分の拡大断面図のみを示している。もっとも、隣接する流路ブロック２０における供給側内部ガスライン２７同士の接続部分についても同様の構成であるので、かかる部分についての拡大断面図の図示は省略する。

流路ブロック２０は、本発明の「接続部」を構成する、第一接続片２０１及び第二接続片２０２を備えている。第一接続片２０１は、下側表面２０ｂ側にて、幅方向における一方の端部（図６における右側の端部）から、当該幅方向に（すなわち外側に向けて）突設されている。第二接続片２０２は、上側表面２０ａ側にて、幅方向における他方の端部から当該幅方向に突設されている。すなわち、図６に示されているように、第一接続片２０１と第二接続片２０２とは、機器配列方向に沿って見た場合に、対角位置に設けられている。

なお、本実施形態においては、第一接続片２０１及び第二接続片２０２は、流路ブロック２０の本体部分（流路ブロック２０の主要部を構成する直方体状の部分であって蓋部２１ｆ等を除く部分）と継ぎ目無く一体に形成されている。また、第一接続片２０１及び第二接続片２０２は、機器配列方向について、流路ブロック２０の全長にわたって設けられている。内部パージガスライン２５は、第二接続片２０２側から幅方向に沿って形成された非貫通穴の開口部を、ステンレス鋼により形成された略円柱状の閉塞部材で溶接（例えばレーザー溶接や電子ビーム溶接）等により気密的に閉塞することによって形成されている。供給側内部ガスライン２７も同様に形成されている。

第一接続片２０１の表面（下側表面２０ｂとは反対側の面）の、機器配列方向における内部パージガスライン２５及び供給側内部ガスライン２７に対応する位置には、第一接続開口部２１１が形成されている。第一接続開口部２１１は、下側表面２０ｂ側から上側表面２０ａ側に向かう方向に（すなわち図６における上方に向けて）開口するように設けられている。

なお、内部パージガスライン２５に対応する第一接続開口部２１１は、図中「２１１ａ」と表示され且つ以下の説明において「第一接続開口部２１１ａ」と称されることがある。同様に、供給側内部ガスライン２７に対応する第一接続開口部２１１は、図中「２１１ｂ」と表示され且つ以下の説明において「第一接続開口部２１１ｂ」と称されることがある。また、以下の説明において、「第一接続開口部２１１ａ」と「第一接続開口部２１１ｂ」とを「第一接続開口部２１１」と総称することがある。

第一接続開口部２１１ａは、第一接続路２１２を介して、内部パージガスライン２５の幅方向における一方の端部（第一接続片２０１側の端部）に接続されている。すなわち、内部パージガスライン２５は、幅方向について非貫通穴として形成されている。そして、第一接続路２１２は、流路ブロック２０の内部のガス通路であって、内部パージガスライン２５における上述の一方の端部と第一接続開口部２１１ａとを接続するように形成されている。

本実施形態においては、第一接続路２１２は、上述の接続流路２１等と同様に、側断面視にて略Ｕ字状に形成されている。具体的には、第一接続路２１２は、直管部２１３と、直管部２１４と、接続通路部２１５と、を備えている。直管部２１３は、第一接続開口部２１１ａから下側表面２０ｂ側に向かって形成された略円筒形状のガス通路であって、接続通路部２１５における一方の端部に接続されている。直管部２１４は、内部パージガスライン２５における上述の一方の端部から下側表面２０ｂ側に向かって形成された略円筒形状のガス通路であって、接続通路部２１５における他方の端部に接続されている。接続通路部２１５は、下側表面２０ｂ側から形成された溝をステンレス鋼により形成された平板状（平面視にて長円状）の蓋部２１６によって溶接（例えばレーザー溶接や電子ビーム溶接）等により気密的に閉塞することによって形成された空間であって、幅方向に沿って形成されている。

本実施形態においては、第一接続開口部２１１ｂと供給側内部ガスライン２７との間の接続構成は、上述の第一接続開口部２１１ａと内部パージガスライン２５との間の接続構成と同様である。したがって、第一接続開口部２１１ｂは、第一接続路２１２を介して、供給側内部ガスライン２７の幅方向における一方の端部（第一接続片２０１側の端部）に接続されている。すなわち、供給側内部ガスライン２７は、幅方向について非貫通穴として形成されている。そして、第一接続開口部２１１ｂと供給側内部ガスライン２７とを接続する第一接続路２１２は、上述と同様に形成されている。

図５及び図７に示されているように、第一接続開口部２１１の両側には、それぞれ、連結ボルト螺合孔２１７が設けられている。連結ボルト螺合孔２１７は、第一接続片２０１の厚さ方向に沿って設けられた螺子孔（貫通孔）であって、連結ボルトＢを螺合（締結）可能に形成されている。本実施形態においては、一対の連結ボルト螺合孔２１７は、機器配列方向に沿って配列されている。すなわち、一対の連結ボルト螺合孔２１７は、第一接続開口部２１１を挟んで略対称に設けられている。

第二接続片２０２の底面（上側表面２０ａとは反対側の面）の、機器配列方向における内部パージガスライン２５及び供給側内部ガスライン２７に対応する位置には、第二接続開口部２２１が形成されている。第二接続開口部２２１は、上側表面２０ａ側から下側表面２０ｂ側に向かう方向に（すなわち図６における下方に向けて）開口するように設けられている。

なお、内部パージガスライン２５に対応する第二接続開口部２２１は、図中「２２１ａ」と表示され且つ以下の説明において「第二接続開口部２２１ａ」と称されることがある。同様に、供給側内部ガスライン２７に対応する第二接続開口部２２１は、図中「２２１ｂ」と表示され且つ以下の説明において「第二接続開口部２２１ｂ」と称されることがある。また、以下の説明において、「第二接続開口部２２１ａ」と「第二接続開口部２２１ｂ」とを「第二接続開口部２２１」と総称することがある。

第二接続開口部２２１ａは、第二接続路２２２を介して、内部パージガスライン２５の幅方向における他方の端部寄りの位置に接続されている。なお、第二接続路２２２は、内部パージガスライン２５における上述の他方の端部と第二接続開口部２２１ａとを接続するように、流路ブロック２０の内部に形成されたガス通路である。具体的には、本実施形態においては、第二接続路２２２は、略円筒形状のガス通路であって、第二接続開口部２２１ａから内部パージガスライン２５に向かって（すなわち上側表面２０ａ側に向かって）形成されている。

本実施形態においては、第二接続開口部２２１ｂと供給側内部ガスライン２７との間の接続構成は、第二接続開口部２２１ａと内部パージガスライン２５との間の接続構成と同様である。したがって、第二接続開口部２２１ｂは、第二接続路２２２を介して、供給側内部ガスライン２７の幅方向における他方の端部（第二接続片２０２側の端部）に接続されている。そして、第二接続開口部２２１ｂと供給側内部ガスライン２７とを接続する第二接続路２２２は、上述と同様に形成されている。

図５及び図７に示されているように、第二接続開口部２２１の両側には、それぞれ、連結ボルト挿通孔２２７が設けられている。連結ボルト挿通孔２２７は、第二接続片２０２の厚さ方向に沿って設けられた貫通孔であって、上述の連結ボルトＢを挿通可能に形成されている。具体的には、連結ボルト挿通孔２２７は、その内径が連結ボルトＢの外径よりも僅かに大きくなるように形成されている。また、本実施形態においては、一対の連結ボルト挿通孔２２７は、機器配列方向に沿って配列されている。すなわち、一対の連結ボルト挿通孔２２７は、第二接続開口部２２１を挟んで略対称に設けられている。

本実施形態においては、第一接続開口部２１１と第二接続開口部２２１とが、機器配列方向について同一位置となるように、第一接続片２０１及び第二接続片２０２が形成されている。すなわち、２つの流路ブロック２０が機器配列方向について略一致するように幅方向に隣接配置されて一方の第一接続片２０１と他方の第二接続片２０２とが重ね合わせられた状態で、平面視にて、第一接続開口部２１１ａと第二接続開口部２２１ａとが互いに対向し、且つ第一接続開口部２１１ｂと第二接続開口部２２１ｂとが互いに対向するように、第一接続開口部２１１及び第二接続開口部２２１が設けられている。同様に、連結ボルト挿通孔２２７は、上述の状態で、平面視にて連結ボルト螺合孔２１７を囲むように設けられている。

なお、本実施形態においては、第一接続開口部２１１及び第二接続開口部２２１には、それぞれ、両者を対向させつつ気密的に接合する際のシール部材を収容可能な段差部が設けられている。このように、第一接続片２０１及び第二接続片２０２は、第一接続開口部２１１と第二接続開口部２２１とが互いに対向するように厚さ方向に重ね合わされることで、隣接する流路ブロック２０における内部パージガスライン２５同士及び供給側内部ガスライン２７同士を接続するように構成されている。

＜実施形態の構成による作用・効果＞
上述のような本実施形態の構成においては、機器配列方向に配列された流体制御弁１７、流体制御弁１８、流量制御器１６、及び流体制御弁１９（これらは流路ブロック２０に装着されることでガスを授受可能に接続される）を備えたガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄが、幅方向に配列された状態で、流路ブロック２０に装着される。すると、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄが、流路ブロック２０の内部に設けられた内部パージガスライン２５及び供給側内部ガスライン２７によって、ガスを授受可能に接続される。ガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈについても同様である。

ここで、かかる構成においては、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄが装着された流路ブロック２０と、ガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈが装着された流路ブロック２０とが、幅方向に並列に隣接配置される。すると、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｈにおいて、各々の流量制御器１６が、ガス通流方向すなわち機器配列方向について略同一位置に配置される（流体制御弁１７〜１９も同様である）。

この状態で、隣接する２つの流路ブロック２０が、第一接続片２０１及び第二接続片２０２によって互いに接合（接続）される。これにより、両者における内部パージガスライン２５同士及び供給側内部ガスライン２７同士が、ガスを授受可能に接続される。

具体的には、一方の流路ブロック２０における第一接続開口部２１１と他方の流路ブロック２０における第二接続開口部２２１とが上述のシール部材を挟んで互いに対向するように、第一接続片２０１と第二接続片２０２とが厚さ方向に重ね合わされる。そして、連結ボルトＢが、連結ボルト挿通孔２２７に挿通されつつ連結ボルト螺合孔２１７に螺合される。これにより、ガス供給ユニット１０Ａ〜１０Ｄが装着された流路ブロック２０と、ガス供給ユニット１０Ｅ〜１０Ｈが装着された流路ブロック２０とが連結（結合）される。

このように、かかる本実施形態の構成によれば、複数の流路ブロック２０を並列に隣接配置して、第一接続片２０１及び第二接続片２０２により両者を接続することで、プロセスガスの種類の増加に伴って並列に多数のガス供給ユニット１０Ａ等を設ける要求に良好に対応することが可能となる。したがって、かかる構成によれば、ガス供給装置１０を、良好なメンテナンス性を保持しつつ、良好に小型化あるいは集積化することが可能となる。

具体的には、上述のような本実施形態の構成によれば、ガス供給装置１０全体の配管長を、可及的に抑制することが可能となる。また、本実施形態の構成においては、第一接続開口部２１１と第二接続開口部２２１とが、機器配列方向について同一位置に設けられている。したがって、かかる構成によれば、ガス供給装置１０全体の機器配列方向におけるサイズを、従来よりも、よりいっそう低減することが可能となる。

また、本実施形態の構成においては、流入側フランジ３０は、一対の雌螺子部２８ａによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。同様に、流体制御弁１７及び１８は、一対の雌螺子部２８ｂによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。また、流量制御器１６は、一対の雌螺子部２８ｃによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。さらに、流体制御弁１９は、一対の雌螺子部２８ｄによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。

すると、流入側フランジ３０と、流体制御弁１７及び１８とは、接続流路２１によって接続される。同様に、流体制御弁１７及び１８と流量制御器１６とは、接続流路２２によって接続される。さらに、流量制御器１６と流体制御弁１９とは、接続流路２３によって接続される。そして、これらの接続流路２１〜２３は、雌螺子部２８ａ〜２８ｄとほぼ同一直線上に配置され、且つ、これらを深さ方向に迂回するように形成される。

よって、上述の構成によれば、流入側フランジ３０、バルブ取付ブロック４０、ＭＦＣ取付部５０、及びバルブ取付ブロック６０の幅を最小限（具体的には流量制御器１６及び流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａの幅と略同一）に設定しても、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９を、流路ブロック２０に対して良好に着脱自在とすることが可能となる。換言すれば、これらを、取付用ボルトを平面視にて略矩形状に４本ずつ用いることなく、流路ブロック２０に対して良好に着脱自在とすることが可能となる。したがって、かかる構成によれば、各ガス供給ユニット１０Ａ等の幅やガス供給装置１０全体の幅を可及的に小さくすることが可能となり、以て、ガス供給装置１０において、良好なメンテナンス性を保持しつつ、さらなる小型化を図ることが可能となる。

また、本実施形態の構成においては、流入側フランジ３０、流量制御器１６、及び流体制御弁１７〜１９が、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に集約されている。したがって、かかる構成によれば、流入側フランジ３０、流量制御器１６、及び流体制御弁１７〜１９が上側表面２０ａ側に集約して装着された構成（かかる構成によれば、すべての流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９について、メンテナンス（取付ボルト４１等の締めあるいは緩め動作等）の際に、上側表面２０ａ側からアクセスすることが可能となるため、メンテナンス性が極めて良好となる）の、ガス供給ユニット１０Ａ等あるいはガス供給装置１０が、良好なメンテナンス性を損なうことなく、可及的に小さな幅で実現可能となる。

特に、プロセスガスの種類が多くなることで、複数のガス供給ユニット１０Ａ等が集積化される場合、流路ブロック２０の大型化は大きな問題となる。すなわち、流路ブロック２０の大型化は、ガス供給装置１０における重量及び設置面積の増加につながる。すると、大型化した流路ブロック２０及びガス供給装置１０においては、設置に対する自由度が非常に狭められる。

この点、上述のような構成によって流路ブロック２０の小型化が図られることで、ガス供給装置１０の設置に対する自由度が高まり、以て高性能の半導体製造工程を良好に実現することが可能となる。具体的には、例えば、プロセスチャンバの直近にガス供給装置１０を配置することが可能となる。この場合、プロセスガス供給ライン１３の配管長が可及的に短くなる。したがって、プロセスガスの供給が、高頻度且つ高精度（高い応答性及び制御性）で行われ得る。また、プロセスガスの切換時間が削減されることで、スループットが向上する。

また、本実施形態の構成においては、流路ブロック２０毎に、組み立て、在庫、持ち運びが可能である。加えて、ガス供給ユニット１０Ａ等の組数の多様な要求に対しても、流路ブロック２０へのガス供給ユニット１０Ａ等の装着数や複数の流路ブロック２０同士の並列接続等によって柔軟に対応することが可能となる。したがって、本実施形態によれば、ガス供給装置１０の製造時の取扱い易さが向上するとともに、部品点数が削減される。

＜変形例＞
以下、代表的な変形例について、幾つか例示する。以下の変形例の説明において、上述の実施形態にて説明されているものと同様の構成及び機能を有する部分に対しては、上述の実施形態と同様の符号が用いられ得るものとする。そして、かかる部分の説明については、技術的に矛盾しない範囲内において、上述の実施形態における説明が適宜援用され得るものとする。もっとも、言うまでもなく、変形例とて、以下に列挙されたものに限定されるものではない。また、複数の変形例の全部及び一部が、技術的に矛盾しない範囲内において、適宜、複合的に適用され得る。

「上側表面２０ａ」は、各実施形態の説明のために便宜上付与した名称であって、これは必ずしも鉛直方向における上側の表面となるとは限らない。すなわち、ガス供給装置１０の設置態様によっては、上側表面２０ａは、その法線が、水平方向や、鉛直方向における下方を向くように設定され得る。

流体制御弁１７と流体制御弁１８とは、共通のバルブ取付ブロック４０に予め取り付けられていたが、本発明はかかる態様に限定されない。すなわち、流体制御弁１７と流体制御弁１８とは、流体制御弁１９と同様に、それぞれ独立して流路ブロック２０に着脱自在に装着され得る。

１つのガス供給ユニット１０Ａ等に含まれる流体制御弁１７等の数も、上述の実施形態に限定されない。また、流体制御弁１７等は、雌螺子部やボルトによらずに、予め流路ブロック２０と一体化されていてもよい。

流体制御弁１７等は、一部が流路ブロック２０に対して予め取り付けられていて、残部が流路ブロック２０に対して着脱自在であってもよい。また、流体制御弁１７等は、上述のような「エアオペレートバルブ」であってもよいし、電磁弁や圧電式バルブであってもよい。

１つの流路ブロック２０に並列に装着可能なガス供給ユニット１０Ａ等の数は、４つに限定されない。すなわち、例えば、ガス供給ユニット１０Ａ等を２つ並列に装着可能な流路ブロック２０や、ガス供給ユニット１０Ａ等を３つ並列に装着可能な流路ブロック２０等が用意されてもよい。また、流路ブロック２０の並列数も、２つに限定されない。すなわち、３つ以上の流路ブロック２０の連結も、上述の各実施形態の説明と同様に行われる。

図８〜図１０は、本発明の流路ブロック２０の一変形例の構成を示す。図８〜図１０を参照すると、この変形例においては、流路ブロック２０には、第一接続片２０１，２０１’と、第二接続片２０２，２０２’と、が形成されている。なお、この変形例においては、第一接続片２０１，２０１’及び第二接続片２０２，２０２’は、上述の流路ブロック２０の本体部分と同じ厚さに形成されている。また、第一接続開口部２１１ａ，第一接続開口部２１１ｂ，第二接続開口部２２１ａ，及び第二接続開口部２２１ｂは、ともに、上側表面２０ａにて開口するように設けられている。

第一接続片２０１は、第一接続開口部２１１ａに対応して、幅方向に突出するように設けられている。第一接続片２０１’は、第一接続開口部２１１ｂに対応して、幅方向に突出するように設けられている。第二接続片２０２は、第二接続開口部２２１ａに対応して、幅方向に突出するように設けられている。第二接続片２０２’は、第二接続開口部２２１ｂに対応して、幅方向に突出するように設けられている。

第一接続片２０１，２０１’及び第二接続片２０２，２０２’は、突出量が等しくなるように形成されている。すなわち、２つの流路ブロック２０を幅方向に隣接配置した状態で、第一接続片２０１、第二接続片２０２、第一接続片２０１’及び第二接続片２０２’が、この順で機器配列方向に略一直線状に配列しつつ隣接配置される（このとき同時に第一接続開口部２１１ａ、第二接続開口部２２１ａ、第一接続開口部２１１ｂ、及び第二接続開口部２２１ｂが、この順で機器配列方向に略一直線状に配列する）ように、第一接続片２０１，２０１’及び第二接続片２０２，２０２’が形成されている。

図１０に示されているように、第一接続開口部２１１ａは、内部パージガスライン２５の幅方向における第一接続片２０１側の端部と、第一接続路２１２を介して接続されている。すなわち、内部パージガスライン２５は、幅方向について非貫通穴として形成されている。なお、この変形例においては、第一接続路２１２は、上述の第１実施形態における直管部２１３と同様に、第一接続開口部２１１ａから下側表面２０ｂ側に向かって形成された略円筒形状のガス通路であって、内部パージガスライン２５の幅方向における上述の第一接続片２０１側の端部に接続されている。

また、第二接続開口部２２１ａは、第二接続路２２２を介して、内部パージガスライン２５の幅方向における第二接続片２０２側の端部寄りの位置に接続されている。第二接続路２２２は、内部パージガスライン２５における上述の第二接続片２０２側の端部と第二接続開口部２２１ａとを接続するように、流路ブロック２０の内部に形成されたガス通路である。具体的には、第二接続路２２２は、略円筒形状のガス通路であって、第二接続開口部２２１ａから内部パージガスライン２５に向かって（すなわち下側表面２０ｂ側に向かって）形成されている。

第一接続開口部２１１の両側には、上述の第１実施形態における連結ボルト螺合孔２１７（図５参照）と同様に、連結ボルト螺合孔２３０が、それぞれ設けられている。なお、この変形例においては、第二接続開口部２２１ａの両側にも、連結ボルト螺合孔２３０が設けられている。そして、第一接続片２０１、第二接続片２０２、第一接続片２０１’及び第二接続片２０２’を上述のように機器配列方向に隣接配置した状態で、バイパス配管２９０を装着することで、隣接する流路ブロック２０における内部パージガスライン２５同士及び供給側内部ガスライン２７同士が接続されるように、流路ブロック２０が構成されている。

具体的には、バイパス配管２９０は、フランジ部２９１と接続管部２９２とを備えている。フランジ部２９１は、上述の流入側フランジ３０におけるフランジ部３１（図２等参照）と同様に構成されている。そして、このフランジ部２９１は、第一接続開口部２１１や第二接続開口部２２１に対向するように配置された状態で連結ボルトＢを連結ボルト螺合孔２３０に螺着することで、流路ブロック２０に気密的に接合されるようになっている。接続管部２９２は、２つのフランジ部２９１同士を接続するように、正面視にて逆Ｕ字形に形成されている。

かかる変形例の構成においては、第一接続片２０１と第二接続片２０２とが機器配列方向に隣接配置された状態で、第一接続片２０１と第二接続片２０２とに跨るように、バイパス配管２９０が装着される。これにより、隣接配置された流路ブロック２０における互いの内部パージガスライン２５同士が接続される。同様に、第一接続片２０１’と第二接続片２０２’とが機器配列方向に隣接配置された状態で、第一接続片２０１’と第二接続片２０２’とに跨るように、バイパス配管２９０が装着される。これにより、隣接配置された流路ブロック２０における互いの供給側内部ガスライン２７同士が接続される。

ここで、図８に示されているように、２つの流路ブロック２０が隣接配置された状態では、第一接続片２０１と第一接続片２０１’との間の空間に、第二接続片２０２が収容される。同様に、第二接続片２０２と第二接続片２０２’との間の空間に、第一接続片２０１’が収容される。したがって、かかる構成によれば、プロセスガスの種類の増加に伴って並列に多数のガス供給ユニット１０Ａ等を設ける場合に、ガス供給装置１０全体の幅方向におけるサイズを、可及的に抑制することが可能となる。

第一接続片２０１，２０１’及び第二接続片２０２，２０２’は、第一接続開口部２１１や第二接続開口部２２１の近傍のみにて舌片状（片持ち梁状）に形成されていてもよい。特に、本実施形態において、第一接続開口部２１１ａに対応する第一接続片２０１は、第一接続開口部２１１ｂに対応する第一接続片２０１’と同様に、機器配列方向における寸法が必要最小限の狭い範囲で（具体的には第一接続開口部２１１ａの両側に連結ボルト螺合孔２３０が良好に形成可能な範囲で可及的に狭く）形成されていてもよい。第二接続開口部２２１ａに対応する第二接続片２０２も同様である。

＜流体供給制御装置の概略構成の変形例＞
次に、本発明の別例（他の実施形態）に係る構成について説明する。以下の別例の説明において、上述の実施形態にて説明されているものと同様の構成及び機能を有する部分に対しては、上述の実施形態と同様の符号が用いられ得るものとする。そして、かかる部分の説明については、技術的に矛盾しない範囲内において、上述の実施形態における図面や説明が適宜援用され得るものとする。

図１１〜図１４を参照すると、本実施形態においては、流量制御器１６は、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に着脱自在に装着されている。一方、流体制御弁１７〜１９及び流入側フランジ３０は、上側表面２０ａとは反対側の下側表面２０ｂ側に着脱自在に装着されている。また、流体制御弁１８、流体制御弁１７、流入側フランジ３０、及び流体制御弁１９が、この順に、機器配列方向（接続流路２１における接続路２１ｅと平行な方向）に配列されている。これらに起因して、流路ブロック２０の内部の流路構成が、上述の実施形態のものから変更されている。

上記以外は、流量制御器１６、流体制御弁１７〜１９及び流入側フランジ３０は、上述の実施形態と同様にして、流路ブロック２０に装着されている。すなわち、バルブ取付ブロック４０、ＭＦＣ取付部５０、及びバルブ取付ブロック６０の構成は、上述の実施形態とほぼ同様である。

本実施形態における流路ブロック２０の構成について説明すると、上述の実施形態とは異なり、接続流路２１は、入口ポート２１ａ及び出口ポート２１ｂが下側表面２０ｂ側にて開口するように設けられている。また、接続流路２１は、機器配列方向について、接続流路２２と接続流路２３との間に設けられている。具体的には、接続流路２１における入口ポート２１ａは、機器配列方向について、流路ブロック２０の略中央部に設けられている。それ以外は、接続流路２１は、上述の実施形態と同様に略Ｕ字状に形成されている。

接続流路２２における入口ポート２２ａは、接続流路２１における入口ポート２１ａから出口ポート２１ｂに向けて引いた有向線分の延長線上にて、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。一方、出口ポート２２ｂは、上側表面２０ａ側に開口するように設けられている。そして、接続流路２２は、入口ポート２２ａと出口ポート２２ｂとを一直線状に接続するように形成されている。具体的には、本実施形態においては、出口ポート２２ｂは、平面視にて入口ポート２２ａと略一致する位置に配置されている。すなわち、接続流路２２は、流路ブロック２０の厚さ方向と平行に設けられている。

接続流路２３における出口ポート２３ｂは、接続流路２１における出口ポート２１ｂから入口ポート２１ａに向けて引いた有向線分の延長線上にて、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。一方、入口ポート２３ａは、上側表面２０ａ側に開口するように設けられている。そして、接続流路２３は、入口ポート２３ａと出口ポート２３ｂとを一直線状に接続するように形成されている。具体的には、本実施形態においては、出口ポート２３ｂは、平面視にて入口ポート２３ａと略一致する位置に配置されている。すなわち、接続流路２３は、流路ブロック２０の厚さ方向と平行に設けられている。

パージガス供給ポート２４は、接続流路２１における出口ポート２１ｂから接続流路２２における入口ポート２２ａに向けて引いた有向線分の延長線上にて、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。具体的には、パージガス供給ポート２４は、流路ブロック２０の機器配列方向における一方の端部近傍に配置されている。このパージガス供給ポート２４は、上述の実施形態と同様にして、内部パージガスライン２５に接続されている。

また、プロセスガス供給ポート２６は、接続流路２１における入口ポート２１ａから接続流路２３における出口ポート２３ｂに向けて引いた有向線分の延長線上にて、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。具体的には、プロセスガス供給ポート２６は、流路ブロック２０の機器配列方向における他方の端部近傍にて、接続流路２３における出口ポート２３ｂに近接（隣接）するように配置されている。このプロセスガス供給ポート２６は、上述の実施形態と同様にして、供給側内部ガスライン２７に接続されている。

そして、本実施形態においては、パージガス供給ポート２４、接続流路２２、接続流路２１における出口ポート２１ｂ、同入口ポート２１ａ、接続流路２３、及びプロセスガス供給ポート２６が、この順に、機器配列方向に沿って略一直線状に配列されている。

本実施形態においても、接続流路２１〜２３は、雌螺子部２８ａ〜２８ｄを迂回するように形成されている。具体的には、一対の雌螺子部２８ｃは、流路ブロック２０における上側表面２０ａにて開口する非貫通の螺子穴であって、機器配列方向について、接続流路２１〜２３の外側に設けられている。また、一対の雌螺子部２８ｃにおける一方であって、接続流路２２側に配置されたものは、内部パージガスライン２５に連通しないように設けられている。同様に、一対の雌螺子部２８ｃにおける他方であって、接続流路２３側に配置されたものは、供給側内部ガスライン２７に連通しないように設けられている。

雌螺子部２８ａ，２８ｂ及び２８ｄは、非貫通の螺子穴であって、流路ブロック２０における下側表面２０ｂにて開口するように形成されている。一対の雌螺子部２８ａにおける一方、及び一対の雌螺子部２８ｂにおける一方は、接続流路２１における入口ポート２１ａと出口ポート２１ｂとの間の位置にて、接続路２１ｅに連通しないように設けられている。一対の雌螺子部２８ａにおける他方、及び一対の雌螺子部２８ｄにおける一方は、接続流路２１における入口ポート２１ａと接続流路２３との間の、内部流路が形成されていない領域に設けられている。一対の雌螺子部２８ｂにおける他方、及び一対の雌螺子部２８ｄにおける他方は、機器配列方向における両端部の、内部流路が形成されていない領域に設けられている。

このように、本実施形態の構成においては、流量制御器１６は、流路ブロック２０における一表面である上側表面２０ａ側に、着脱自在に装着されている。一方、流体制御弁１７〜１９は、上側表面２０ａとは反対側の下側表面２０ｂ側にて、着脱自在に設けられている。したがって、かかる構成によれば、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９のメンテナンス性が良好な、ガス供給ユニット１０Ａ等あるいはガス供給装置１０が、可及的に小さな幅及び機器配列方向における長さで実現可能となる。

なお、図１２及び図１４を参照すると、実施形態においては、接続流路２１における入口ポート２１ａに供給されたプロセスガスは、接続流路２１内及びバルブ取付ブロック４０内を図中右から左に向かって通流する一方、流量制御器１６及びバルブ取付ブロック６０内を図中左から右に向かって通流する。このため、実施形態においては、「ガス通流方向」は、一方向とはならず、機器配列方向に沿って往復する（あるいは「ループ」を描く）態様となる。

＜流体供給制御装置の概略構成の変形例＞
図１５〜図１８を参照すると、実施形態の構成は、上述の実施形態に対して変更を加えたものである。具体的には、本実施形態においては、流入側フランジ３０が流路ブロック２０における端面２０ｃに装着されている。ここで、端面２０ｃは、流路ブロック２０における一表面であって、上側表面２０ａ及び下側表面２０ｂと直交する表面である。この端面２０ｃは、流路ブロック２０の、機器配列方向における一端側に設けられている。

また、これに起因して、本実施形態においては、機器配列方向における流体制御弁１７と流体制御弁１８との位置関係が、上述の実施形態のものとは逆となっている。すなわち、流体制御弁１７は、流体制御弁１８よりも端面２０ｃ寄りの位置に配置されている。さらに、上述の変更に起因して、流路ブロック２０の内部の流路構成が上述の実施形態のものから変更されている。

接続流路２１における入口ポート２１ａは、端面２０ｃにて開口するように設けられている。一方、出口ポート２１ｂは、下側表面２０ｂの、機器配列方向における中央部よりも端面２０ｃ側の位置（具体的には機器配列方向における上述の一端寄りの位置）にて開口するように設けられている。そして、図１６及び図１８に示されているように、接続流路２１は、入口ポート２１ａと出口ポート２１ｂとを接続するように、直角に折れ曲がった形状（略Ｌ字状）に形成されている。

パージガス供給ポート２４は、下側表面２０ｂの、機器配列方向における中央寄りの位置にて開口するように設けられている。このパージガス供給ポート２４は、上述の第１及び実施形態と同様にして、内部パージガスライン２５に接続されている。

接続流路２２における入口ポート２２ａは、接続流路２１における出口ポート２１ｂと、パージガス供給ポート２４と、の間の位置で、下側表面２０ｂにて開口するように設けられている。一方、出口ポート２２ｂは、上側表面２０ａの、機器配列方向における中央部よりも端面２０ｃ側の位置にて開口するように設けられている。具体的には、出口ポート２２ｂは、平面視にて接続流路２１における出口ポート２１ｂと略一致する位置に配置されている。そして、接続流路２２は、入口ポート２２ａと出口ポート２２ｂとを一直線状に接続するように形成されている。より詳細には、本実施形態においては、接続流路２２は、流路ブロック２０の厚さ方向と交差するように、正面視にて斜めに設けられている。

接続流路２３は、上述の実施形態と同様に、流路ブロック２０の、機器配列方向における他端寄りの位置に設けられている。すなわち、接続流路２３における入口ポート２３ａは、機器配列方向における端面２０ｃとは反対側の端部寄りの位置にて、上側表面２０ａ側に開口するように設けられている。一方、出口ポート２３ｂは、接続流路２１における出口ポート２１ｂから、接続流路２２における入口ポート２２ａ及びパージガス供給ポート２４に向けて引いた有向線分の延長線上にて、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。具体的には、出口ポート２３ｂは、上述の実施形態と同様に、平面視にて入口ポート２３ａと略一致する位置にて、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。そして、接続流路２３は、入口ポート２３ａと出口ポート２３ｂとを一直線状に接続するように形成されている。

プロセスガス供給ポート２６は、パージガス供給ポート２４と、接続流路２３における出口ポート２３ｂと、の間の位置で、下側表面２０ｂ側に開口するように設けられている。具体的には、プロセスガス供給ポート２６は、接続流路２３における出口ポート２３ｂに近接（隣接）するように配置されている。このプロセスガス供給ポート２６は、上述の実施形態と同様にして、供給側内部ガスライン２７に接続されている。

一対の雌螺子部２８ａは、端面２０ｃ側にて開口する非貫通穴として、接続流路２１及び２２に連通しないように形成されている。雌螺子部２８ｂ及び２８ｄは、非貫通の螺子穴であって、流路ブロック２０における下側表面２０ｂにて開口するように形成されている。

一対の雌螺子部２８ｂにおける一方は、接続流路２１における出口ポート２１ｂよりも端面２０ｃ側にて、接続流路２１に連通しないように形成されている。一対の雌螺子部２８ｂにおける他方、及び一対の雌螺子部２８ｄにおける一方は、パージガス供給ポート２４及び内部パージガスライン２５と、プロセスガス供給ポート２６及び供給側内部ガスライン２７と、の間の、内部流路が形成されていない領域に設けられている。

一対の雌螺子部２８ｃは、流路ブロック２０における上側表面２０ａにて開口する非貫通の螺子穴であって、機器配列方向について、接続流路２２における出口ポート２２ｂ及び接続流路２３における入口ポート２３ａの外側に設けられている。具体的には、一対の雌螺子部２８ｃにおける一方は、接続流路２２における出口ポート２２ｂよりも端面２０ｃ側にて、接続流路２１に連通しないように形成されている。一対の雌螺子部２８ｃにおける他方は、一対の雌螺子部２８ｄにおける他方と同様に、機器配列方向における端面２０ｃとは反対側の端部の、内部流路が形成されていない領域に設けられている。

このように、実施形態においては、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側にて、一対の雌螺子部２８ｃと、接続流路２２における出口ポート２２ｂと、接続流路２３における入口ポート２３ａとが、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。また、流路ブロック２０における下側表面２０ｂ側にて、雌螺子部２８ｂ及び２８ｄと、接続流路２１における出口ポート２１ｂと、接続流路２２における入口ポート２２ａと、パージガス供給ポート２４と、プロセスガス供給ポート２６と、接続流路２３における出口ポート２３ｂとが、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。

すなわち、本実施形態においても、接続流路２１〜２３及び雌螺子部２８ａ〜２８ｄは、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。そして、接続流路２１〜２３は、雌螺子部２８ａ〜２８ｄを迂回するように設けられている。

かかる本実施形態の構成によれば、流入側フランジ３０を流路ブロック２０における端面２０ｃに設けたことにより、上述の実施形態の構成と比較して、流路ブロック２０の機器配列方向における寸法が小型化されている。

また、図１９に示されているように、流体制御弁１７等は、流路ブロック２０における端面（上側表面２０ａ及び下側表面２０ｂとは異なる表面）に装着されてもよい。

ガス供給装置１０に複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・が設けられる場合、本発明は、上述の各実施形態のように、１つの流路ブロック２０が複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・にわたって共通（一体）のものである構成に限定されない。すなわち、流路ブロック２０は、複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・のそれぞれに対応して分割可能に構成されていてもよい。

また、１つのガス供給ユニット１０Ａ等に含まれる流体制御弁１７等の数も、上述の実施形態に限定されない。また、流体制御弁１７等は、雌螺子部やボルトによらずに、予め流路ブロック２０と一体化されていてもよい。

図２０〜２２は、これらの変形例に対応した構成を示している。図２０〜２２に示されている本変形例においては、ガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・は、互いに別体に構成されているとともに、互いに幅方向に連結可能に構成されている。なお、図２０においては、図示の簡略化のため、２つのガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂのみが示されているが、本変形例においては、任意の数のガス供給ユニット１０Ａ等を連結することが可能である。

本変形例の各ガス供給ユニット１０Ａ等においては、上述の各実施形態と同様に、流量制御器１６は、流路ブロック２０における上側表面２０ａに対して着脱自在に装着されている。一方、流体制御弁１７等は、上述のような取付ボルトによらずに、予め流路ブロック２０と一体化されている。すなわち、流体制御弁アクチュエータ１７ａ等は、流路ブロック２０に対して直接的に固定されている。なお、本変形例においては、流体制御弁１７等は、流路ブロック２０における下側表面２０ｂ側に設けられている（但し、図２０においては、下側表面２０ｂ側が図中上側となるように図示されている。）。

ここで、並列して設けられた複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・における、隣接するユニット同士の連結は、隣接する流路ブロック２０における側面（幅方向と平行な法線を有する表面）である連結面２０ｄを介して形成されるようになっている。以下、隣接する流路ブロック２０同士を連結するための構成の詳細について説明する。なお、上述の連結体同士を連結するための構成については後述する。

本変形例のガス供給装置１０においては、２種類の流路ブロック２０、すなわち、第一流路ブロック２０１Ａと、第二流路ブロック２０２Ａと、が設けられている。並列して設けられた複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・の連結体においては、第一流路ブロック２０１Ａと第二流路ブロック２０２Ａとが交互に配置されている。すなわち、例えば、第一流路ブロック２０１Ａは、ガス供給ユニット１０Ａに設けられている一方、第二流路ブロック２０２Ａは、ガス供給ユニット１０Ｂに設けられている。

第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａにおいては、パージガス供給ポート２４及びプロセスガス供給ポート２６は、一対の連結面２０ｄのそれぞれにて開口するように設けられている。第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａには、連結用螺子孔２１１Ｈ及び連結ボルト挿通孔２１２Ｈが設けられている。連結用螺子孔２１１Ｈは、幅方向に沿って貫通した螺子孔であって、連結ボルトＢを螺着可能に形成されている。連結ボルト挿通孔２１２Ｈは、連結ボルトＢの頭部を収容可能な段部を備えた貫通孔であって、連結ボルトＢの雄螺子部を挿通可能に形成されている。

本変形例においては、一対の連結用螺子孔２１１Ｈが、パージガス供給ポート２４を挟んだ対角位置に設けられている。また、一対の連結ボルト挿通孔２１２Ｈが、パージガス供給ポート２４を挟んだ対角位置に設けられている。そして、一対の連結用螺子孔２１１Ｈと一対の連結ボルト挿通孔２１２Ｈとが、正面視にて（すなわち幅方向と平行に見た場合に）略矩形状に配設されている。同様にして、プロセスガス供給ポート２６の周囲にも、一対の連結用螺子孔２１１Ｈと一対の連結ボルト挿通孔２１２Ｈとが、正面視にて略矩形状に配設されている。

本変形例においては、第二流路ブロック２０２Ａは、連結用螺子孔２１１Ｈ及び連結ボルト挿通孔２１２Ｈの位置関係が第一流路ブロック２０１Ａと異なる以外は、第一流路ブロック２０１Ａと同一の構成を備えている。具体的には、正面視にて、第一流路ブロック２０１Ａにおける連結用螺子孔２１１Ｈが設けられている位置と第二流路ブロック２０２Ａにおける連結ボルト挿通孔２１２Ｈが設けられている位置とが一致するとともに、第一流路ブロック２０１Ａにおける連結ボルト挿通孔２１２Ｈが設けられている位置と第二流路ブロック２０２Ａにおける連結用螺子孔２１１Ｈが設けられている位置とが一致するように、第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａが形成されている。よって、以下、第一流路ブロック２０１Ａの斜視図である図２１及び図２２を参照しつつ、第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａの詳細な構成について説明する。

第一流路ブロック２０１Ａ（第二流路ブロック２０２Ａ）の連結面２０ｄにおけるパージガス供給ポート２４の周囲であって、連結用螺子孔２１１Ｈ及び連結ボルト挿通孔２１２Ｈよりも内側（パージガス供給ポート２４側）には、パージラインシール段部２１３Ａが設けられている。このパージラインシール段部２１３Ａは、隣接する第二流路ブロック２０２Ａ（第一流路ブロック２０１Ａ）とパージガス供給ポート２４の位置にて気密的に接続するための図示しないシール部材を装着可能に形成されている。

同様に、第一流路ブロック２０１Ａ（第二流路ブロック２０２Ａ）の連結面２０ｄにおけるプロセスガス供給ポート２６の周囲であって、連結用螺子孔２１１Ｈ及び連結ボルト挿通孔２１２Ｈよりも内側（プロセスガス供給ポート２６側）には、供給ラインシール段部２１４Ａが設けられている。この供給ラインシール段部２１４Ａは、隣接する第二流路ブロック２０２Ａ（第一流路ブロック２０１Ａ）とプロセスガス供給ポート２６の位置にて気密的に接続するための図示しないシール部材を装着可能に形成されている。

第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａには、下側表面２０ｂにて開口する略円筒形状の非貫通穴である、アクチュエータ取付穴２１５Ａ，２１６Ａ及び２１７Ａが設けられている。本変形例においては、アクチュエータ取付穴２１５Ａ，２１６Ａ及び２１７Ａは、この順に、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。すなわち、アクチュエータ取付穴２１５Ａは、第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａの機器配列方向における一方（図２１における左側）の端部寄りの位置に設けられている。一方、アクチュエータ取付穴２１７Ａは、第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａの機器配列方向における他方（図２１における右側）の端部寄りの位置に設けられている。

アクチュエータ取付穴２１５Ａ，２１６Ａ及び２１７Ａは、流体制御弁アクチュエータ１８ａ，１７ａ及び１９ａをそれぞれ固定可能に形成されている。また、アクチュエータ取付穴２１５Ａ，２１６Ａ及び２１７Ａは、深さ方向における端部が、流体制御弁アクチュエータ１８ａ，１７ａ及び１９ａの取付後に流体制御弁１８，１７及び１９における弁室を構成するように設けられている。

以下、第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａにおける、内部の流路構成について説明する。本実施形態においては、接続流路２３における入口ポート２３ａは、上側表面２０ａにて開口するように、平面視にてアクチュエータ取付穴２１７Ａと重なる位置（より詳細にはアクチュエータ取付穴２１７Ａの中心軸と同軸の位置）に設けられている。接続流路２３における出口ポート２３ｂは、アクチュエータ取付穴２１７Ａの平面視における略中央部にて開口するように設けられている。そして、接続流路２３は、入口ポート２３ａから出口ポート２３ｂに向かう略円筒状の貫通孔として形成されている。すなわち、接続流路２３は、流量制御器１６を経て入口ポート２３ａから流入したガスが、アクチュエータ取付穴２１７Ａ（流体制御弁１９）を経てプロセスガス供給ポート２６に排出されるように形成されている。

第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａには、流入側フランジ３０と流体制御弁１７（アクチュエータ取付穴２１６A）とを接続するための接続流路２２３が設けられている。接続流路２２３は、入口ポート２２３ａと、出口ポート２２３ｂと、第一入口通路２２３ｃと、第二入口通路２２３ｄと、接続路２２３ｅと、を有している。

入口ポート２２３ａは、下側表面２０ｂ側にて開口するように、流入側フランジ３０を着脱自在に装着するための一対の雌螺子部２８ａの中間位置に設けられている。出口ポート２２３ｂは、アクチュエータ取付穴２１６Aにて開口するように設けられている。第一入口通路２２３ｃは、略円筒状の非貫通穴であって、入口ポート２２３ａから上側表面２０ａ側に向かって延びるように設けられている。第二入口通路２２３ｄは、第一入口通路２２３ｃにおける入口ポート２２３ａとは反対側の端部から、幅方向に沿って延びるように設けられている。

接続路２２３ｅは、第二入口通路２２３ｄの延出先の連結面２０ｄ側から形成された溝をステンレス鋼により形成された平板状（平面視にて長円状）の図示しない蓋部によって溶接（例えばレーザー溶接や電子ビーム溶接）等により気密的に閉塞することによって形成された空間であって、ガス通流方向と平行に設けられている。この接続路２２３ｅにおける一方の端部は、第二入口通路２２３ｄに接続されている。また、接続路２２３ｅにおける他方の端部は、出口ポート２２３ｂに接続されている。

また、第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａには、流体制御弁１７及び１８（アクチュエータ取付穴２１６Ａ及び２１５Ａ）と流量制御器１６を接続するための接続流路２２２Ａが設けられている。本実施形態においては、接続流路２２２Ａは、入口ポート２２２ａと、出口ポート２２２ｂと、第一入口通路２２２ｃと、第二入口通路２２２ｄと、接続路２２２ｅと、出口通路２２２ｇと、合流通路２２２ｈと、を有している。

入口ポート２２２ａは、アクチュエータ取付穴２１６Aの平面視における略中央部にて開口するように設けられている。出口ポート２２２ｂは、上側表面２０ａにて開口するように、平面視にてアクチュエータ取付穴２１５Ａと重なる位置（より詳細にはアクチュエータ取付穴２１５Ａの中心軸と同軸の位置）に設けられている。なお、出口ポート２２２ｂよりも機器配列方向における外側には、一対の雌螺子部２８ｃのうちの一方が、上側表面２０ａ側にて開口するように設けられている。一対の雌螺子部２８ｃのうちの他方は、上側表面２０ａ側にて開口するように、接続流路２３における入口ポート２３ａよりも機器配列方向における外側に設けられている。

第一入口通路２２２ｃは、略円筒状の非貫通穴であって、入口ポート２２２ａから上側表面２０ａ側に向かって延びるように設けられている。第二入口通路２２２ｄは、第一入口通路２２２ｃにおける入口ポート２２２ａとは反対側の端部から、幅方向に沿って延びるように設けられている。

接続路２２２ｅは、第二入口通路２２２ｄの延出先の連結面２０ｄ側から形成された溝をステンレス鋼により形成された平板状（平面視にて長円状）の図示しない蓋部によって溶接（例えばレーザー溶接や電子ビーム溶接）等により気密的に閉塞することによって形成された空間であって、ガス通流方向と平行に設けられている。この接続路２２２ｅにおける一方の端部は、第二入口通路２２２ｄに接続されている。また、接続路２２２ｅにおける他方の端部は、出口通路２２２ｇに接続されている。

出口通路２２２ｇは、幅方向に沿って、接続路２２２ｅにおける上述の他方の端部から第二入口通路２２２ｄとは反対側に向かって延びるように設けられている。この出口通路２２２ｇは、合流通路２２２ｈに接続されている。合流通路２２２ｈは、略円筒状の貫通孔であって、アクチュエータ取付穴２１５Ａの平面視における略中央部と出口ポート２２２ｂとを接続するように設けられている。

本変形例においては、接続流路２２２Ａは、接続流路２２３における出口ポート２２３ｂを介してアクチュエータ取付穴２１６A（流体制御弁１７）に流入したプロセスガスを、入口ポート２２２ａから、第一入口通路２２２ｃ、第二入口通路２２２ｄ、接続路２２２ｅ、出口通路２２２ｇ、及び合流通路２２２ｈを介して出口ポート２２２ｂから排出することで、かかるプロセスガスを流量制御器１６に供給可能に形成されている。また、接続流路２２２Ａは、パージガス供給ポート２４から流入したパージガスを、アクチュエータ取付穴２１５Ａ（流体制御弁１８）及び合流通路２２２ｈを介して出口ポート２２２ｂから排出することで、かかるパージガスを流量制御器１６に供給可能に形成されている。

なお、本変形例においては、一対の連結面２０ｄのうちの一方に設けられたパージガス供給ポート２４と、アクチュエータ取付穴２１５Ａ（流体制御弁１８）と、一対の連結面２０ｄのうちの他方に設けられたパージガス供給ポート２４と、を結ぶパージガス流路によって、上述の実施形態における内部パージガスラインに相当するものが形成されている。同様に、一対の連結面２０ｄのうちの一方に設けられたプロセスガス供給ポート２６と、アクチュエータ取付穴２１７Ａ（流体制御弁１９）と、一対の連結面２０ｄのうちの他方に設けられたプロセスガス供給ポート２６と、を結ぶプロセスガス供給流路によって、上述の実施形態における供給側内部ガスラインに相当するものが形成されている。

そして、本変形例においては、雌螺子部２８ａ及び２８ｃと、接続流路２３と、接続流路２２３における入口ポート２２３ａ及び第一入口通路２２３ｃと、接続流路２２２Ａにおける入口ポート２２２ａ、出口ポート２２３ｂ、第一入口通路２２２ｃ及び接続路２２３ｅとが、平面視にてガス通流方向に沿って略一直線状に配置されている。そして、接続流路２２３及び２２２Ａは、雌螺子部２８ａ及び２８ｃと連通しないように設けられている。

このように、並列して設けられた複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・の連結体においては、隣接する第一流路ブロック２０１Ａ及び第二流路ブロック２０２Ａが連結ボルトＢ及び上述の図示しないシール部材を用いて接合されることで、対向するパージガス供給ポート２４同士及び対向するプロセスガス供給ポート２６同士が、それぞれ気密的に接続される。これにより、複数のパージガス供給ポート２４及び複数のアクチュエータ取付穴２１５Ａ（流体制御弁１８）を通る内部パージガスラインが形成される。また、同様に、複数のプロセスガス供給ポート２６及び複数のアクチュエータ取付穴２１７Ａ（流体制御弁１９）を通る供給側内部ガスラインが形成される。

かかる構成においては、流体制御弁１７等が一体的に設けられた流路ブロック２０に対して、流量制御器１６が着脱自在に装着される。したがって、かかる構成によれば、ガス供給ユニット１０Ａ等あるいはガス供給装置１０の、図２０における高さ方向の小型化が良好に図られる。また、組み立てが容易で且つ流量制御器１６のメンテナンス性が良好なガス供給ユニット１０Ａ等あるいはガス供給装置１０が、可及的に小さな幅で実現可能となる。また、複数のガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ・・・が並列に設けられることで複数種類のプロセスガスを供給可能なガス供給装置１０が、可及的に小さな幅で実現可能となる。

なお、流体制御弁１７等は、一部が流路ブロック２０に対して予め取り付けられていて、残部が流路ブロック２０に対して着脱自在であってもよい。

上述の各実施形態及び変形例に記載の構成によれば、上述のように、複数種類のプロセスガスを供給可能なガス供給装置１０を、可及的に小型化することが可能となる。特に、上述の各実施形態及び変形例に記載の構成によれば、本体部分の幅寸法が可及的に小さく設計された流体制御弁１７等の流体制御機器（例えば、後述する設置面積を可及的に減少した構成のエアオペレートバルブ）を備えたガス供給ユニット１０Ａ等において、かかる流体制御機器を流路ブロック２０に着脱自在に装着するための取付構造や、複数の流体制御機器同士を接続するための流路構造に起因する幅寸法の増加が良好に抑制される。

＜配管継手及び配管接続構造の構成＞
図２３〜図３０を参照しつつ、本発明の一実施形態に係る配管継手１及び１Ａ、並びに、本発明の一実施形態に係る配管接続構造ＰＪについて説明する。配管継手１と配管継手１Ａとは、ほぼ同様の構成を有している。そこで、まず、図２３〜図２５を用いて、配管継手１の構成の詳細について説明する。なお、図３１は、比較例としての従来技術に係る配管継手構造１Ｃを示すものである。

配管継手１は、本体部２を備えている。本体部２は、図２３〜図２５における左右方向と平行な長手方向を有する略直方体状の外形形状に形成されている。すなわち、配管継手１は、接合面２ａ、頂面２ｂ、第一端面２ｃ、第二端面２ｄ、第一側面２ｅ、及び第二側面２ｆの６つの平面状の表面を有している。

接合面２ａ（具体的には底面）は、長手方向及び幅方向（図２３における上下方向）の双方と直交する高さ方向を法線とする平面である。この接合面２ａは、配管継手１の装着対象に対して接合されるように設けられた平面であって、略長方形状に形成されている。頂面２ｂは、接合面２ａと平行に設けられている。

第一端面２ｃ及び第二端面２ｄは、長手方向を法線とする本体部２の端面であって、互いに平行に設けられている。第一側面２ｅ及び第二側面２ｆは、幅方向を法線とする本体部２の側面であって、互いに平行に設けられている。

接合面２ａには、第一開口部２ｇ及びシール段差部２ｈが形成されている。すなわち、第一開口部２ｇは、接合面２ａにて開口するように設けられている。本実施形態においては、第一開口部２ｇは、接合面２ａの、幅方向における略中央部に設けられている。シール段差部２ｈは、第一開口部２ｇの周囲にて、図示しないシール部材を収容可能に形成されている。ここで、シール部材とは、配管継手１を装着対象に対して装着（接合及び固定）した場合に、かかる装着対象に形成された流体通路と配管継手１の内部に形成された流体通路（詳細は後述）とを気密的又は液密的に接続するための部材である。なお、かかるシール部材の構成については周知であるので、本明細書においては、かかる構成についての図示やこれ以上の詳細な説明は省略する。

本体部２には、第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍが、高さ方向に沿って形成されている。本実施形態においては、第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍは、配管継手１を装着対象に対して装着する際に螺子（ボルト：例えば図２９に示されているボルトＢ等）を挿通するための、螺子部を有しない貫通孔であって、接合面２ａ及び頂面２ｂにて開口するように設けられている。

本発明の「流路側螺子挿通孔」に相当する第一ボルト挿通孔２ｋは、第一開口部２ｇよりも第一端面２ｃに設けられている。すなわち、第一ボルト挿通孔２ｋは、本体部２の長手方向における、後述する第二開口部２ｐが設けられた側の端部寄りの位置に設けられている。一方、第二ボルト挿通孔２ｍは、本体部２の長手方向における第二端面２ｄ側の端部に配置されている。具体的には、第一ボルト挿通孔２ｋと第二ボルト挿通孔２ｍとは、平面視にて、第一開口部２ｇを挟んで対称の位置に設けられている。

第一端面２ｃには、第二開口部２ｐが形成されている。すなわち、第二開口部２ｐは、本体部２の長手方向における第一端面２ｃ側の端部にて開口するように設けられている。本実施形態においては、第二開口部２ｐは、本体部２の、幅方向における略中央部（すなわち幅方向について第一開口部２ｇと略同じ位置）に設けられている。なお、本実施形態においては、第二開口部２ｐは、管部３によって覆われている。管部３は、第一端面２ｃから当該第一端面２ｃの法線方向に向かって外側に突出するように設けられた略円筒状の部材であって、その外径が本体部２の幅（幅方向における寸法：以下同様）よりも若干小さくなるように形成されている。

本体部２の内部には、第一開口部２ｇと第二開口部２ｐ（管部３）とを連通する流体通路（典型的にはガス通路）が形成されている。具体的には、本体部２の内部には、第一通路４と第二通路５とが設けられている。

第一通路４は、第一開口部２ｇから高さ方向に沿って設けられている。本実施形態においては、第一通路４は、非貫通穴として形成されている。第二通路５は、第二開口部２ｐを通るとともに第一通路４に接続するように、長手方向に沿って設けられている。具体的には、本実施形態においては、第二通路５は、第一通路４における第一開口部２ｇよりも接合面２ａから離隔した位置と第二開口部２ｐとを接続するように、長手方向に沿って設けられている。すなわち、第二通路５は、第一通路４における第一開口部２ｇとは反対側の端部と第二開口部２ｐとを接続するように設けられている。

第二通路５は、第一ボルト挿通孔２ｋ側に（すなわち第二ボルト挿通孔２ｍとは干渉しない位置に）設けられている。特に、第二通路５は、第一ボルト挿通孔２ｋを迂回するように形成されている。具体的には、本実施形態においては、第二通路５は、開口側通路６と中間通路７とを有している。

開口側通路６は、第二開口部２ｐから長手方向に沿って設けられた非貫通穴であって、第一ボルト挿通孔２ｋに達しないように形成されている。中間通路７は、第一ボルト挿通孔２ｋには連通せずその側方を通過するように、長手方向に沿って形成されている。すなわち、中間通路７は、幅方向について、第一ボルト挿通孔２ｋよりも、本体部２における第一側面２ｅ寄りの位置に設けられている。具体的には、中間通路７は、第一側面２ｅ側から形成された溝をステンレス鋼により形成された平板状（平面視にて長円状）の蓋部７ａによって溶接（例えばレーザー溶接や電子ビーム溶接）等により気密的又は液密的に閉塞することによって形成された空間であって、長手方向と平行に設けられている。

中間通路７は、その一端が、第一通路４における頂面２ｂ側の端部と、極めて短い流体通路である連通部８ａを介して連通するように設けられている。同様に、中間通路７は、その他端が、開口側通路６における第一ボルト挿通孔２ｋ側の端部と、極めて短い流体通路である連通部８ｂを介して連通するように設けられている。このように、本体部２の内部には、第二開口部２ｐから第一開口部２ｇに至る流体通路が、第一ボルト挿通孔２ｋを迂回しつつ、長手方向に沿って略Ｌ字状に形成されている。

配管継手１Ａは、第一ボルト挿通孔２ｋに代えて第一ボルト挿通孔９ａを有するとともに、第二ボルト挿通孔２ｍに代えて第二ボルト挿通孔９ｂを有する以外は、配管継手１と（ほぼ）同一の構成を有している。したがって、図２６〜図２８に示されている配管継手１Ａの構成における、第一ボルト挿通孔９ａ及び第二ボルト挿通孔９ｂ以外の部分の説明については、上述の配管継手１についての説明が援用される。

第一ボルト挿通孔９ａは、第一ボルト挿通孔２ｋに挿通される上述の螺子を螺着可能な螺子部を有している。本実施形態においては、この第一ボルト挿通孔９ａは、接合面２ａのみにて開口する非貫通穴として形成されている。同様に、第二ボルト挿通孔９ｂは、第二ボルト挿通孔２ｍに挿通される上述の螺子を螺着可能な螺子部を有している。本実施形態においては、この第二ボルト挿通孔９ｂも、接合面２ａのみにて開口する非貫通穴として形成されている。

配管継手１及び１Ａは、長手方向に沿った（具体的には長手方向と平行な）第二開口部２ｐの中心軸線Ｃ１が、高さ方向に沿った（具体的には高さ方向と平行な）第一開口部２ｇの中心軸線Ｃ２と、本体部２の幅方向における略中央部にて交わる（具体的には直交する）ように構成されている。

図２９に示されている配管接続構造ＰＪは、配管継手１と配管継手１Ａとを備えている。配管継手１における管部３は、ステンレス鋼により形成されたチューブ状の配管Ｐ１１と溶接（例えばＴＩＧ溶接）等により気密的又は液密的に接続されている。同様に、配管継手１Ａにおける管部３は、ステンレス鋼により形成されたチューブ状の配管Ｐ１２と溶接（例えばＴＩＧ溶接）等により気密的又は液密的に接続されている。配管継手１と配管継手１Ａとは、互いの第一開口部２ｇが重なるように、互いの接合面２ａにて接合されている。そして、配管接続構造ＰＪは、上述のようにして配管継手１の接合面２ａと配管継手１Ａの接合面２ａとを互いに接合し、１本のボルトＢを第一ボルト挿通孔２ｋに挿通しつつ第一ボルト挿通孔９ａに螺着し、且つもう１本のボルトＢを第二ボルト挿通孔２ｍに挿通しつつ第二ボルト挿通孔９ｂに螺着することによって形成されている。

図３０に示されている配管接続構造ＰＪは、配管Ｐ１１と配管Ｐ１２とを接続し、配管Ｐ２１と配管Ｐ２２とを接続し、配管Ｐ３１と配管Ｐ３２とを接続し、及び配管Ｐ４１と配管Ｐ４２とを接続するために、図２９に示されている配管接続構造ＰＪを４組備えている。

＜作用・効果＞
上述の実施形態の構成においては、第一ボルト挿通孔２ｋ（９ａ）と第二ボルト挿通孔２ｍ（９ｂ）との間にて高さ方向に沿って設けられた第一通路４と、第二開口部２ｐ（管部３）と、の間の流体通路が、第一ボルト挿通孔２ｋ（９ａ）を迂回するように、長手方向に沿って形成されている。かかる構成の配管継手１は、高さ方向に沿って螺子（ボルトＢ等）を第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍに挿通することで、装着対象に対して固定（装着）される。

ここで、第一通路４と第二通路５とを幅方向について可及的に近接させ、且つ第一ボルト挿通孔２ｋ（９ａ）と第二通路５とを互いに連通しない程度で幅方向について可及的に近接させることで、本体部２の幅方向における寸法が、可及的に小さくされ得る。したがって、かかる構成によれば、幅方向にて、装置構成を良好に小型化あるいは集積化することが可能となる。

さらに、配管継手１及び１Ａにおいては、長手方向に沿った第二開口部２ｐの中心軸線Ｃ１が、高さ方向に沿った第一開口部２ｇの中心軸線Ｃ２と、本体部２の幅方向における略中央部にて交わる（具体的には同一面で直交する）。かかる構成においては、配管継手１における中心軸線Ｃ１と、配管継手１Ａにおける中心軸線Ｃ１とが、幅方向について略一致することとなる。したがって、かかる構成によれば、配管設計が容易となる。具体的には、２つの配管Ｐ１１，Ｐ１２を、幅方向について略一直線上に配置しつつ接続することが可能となる。また、配管継手１を何らかの装着対象に対して螺子を用いて装着する際に、管部３及びこれに接続される配管と上述の螺子やその締結用工具との干渉の発生が、良好に回避される。

特に、配管継手１と配管継手１Ａとを接続（連結）することによって形成された配管接続構造ＰＪにおいては、図２９及び図３０に示されているように、配管継手１と配管継手１Ａとの締結（連結）又は分離の作業を、配管継手１における頂面２ｂ側から、高さ方向に沿って棒状の六角レンチ等を差し入れて、ボルトＢを操作することで行うことができる。したがって、かかる構成によれば、配管継手１及び配管継手１Ａの幅を可及的に小さくしても、良好なメンテナンス性（上述の作業の作業性）が確保される。

また、図３０に示されているように、並列に設けられた複数の配管Ｐ１１，Ｐ２１，…と、並列に設けられた複数の配管Ｐ１２，Ｐ２２，…とを、それぞれ互いに接続する場合、かかる接続を形成するための配管接続構造ＰＪは、従来技術に係る配管継手構造１Ｃ（図３１参照）と比較して、幅方向に良好に集積化され得る。

すなわち、図３０に示されている「ｄ」は、上述のように、ボルトＢを配管継手１における頂面２ｂ側から高さ方向に沿って操作する場合に必要な、隣り合う配管同士の間隔を示す。ここで、図３０においては、並列に設けられた４本の配管Ｐ１１〜Ｐ４１と、並列に設けられた４本の配管Ｐ１２〜Ｐ４２と、が接続されているので、Ｐ１１とＰ４１との中心間距離（Ｐ１２とＰ４２との中心間距離）Ｄは、３ｄとなる。

これに対し、従来技術に係る配管継手構造１Ｃ（図３１参照）においては、締結や分離のためのメンテナンス作業は、スパナを配管Ｐ１１等と直交する方向から差し入れて配管Ｐ１１等における軸方向を中心に回転させることによって行われる。このため、従来技術に係る配管継手構造１Ｃを用いた場合、図３０と同様に配管Ｐ１１〜Ｐ４１と配管Ｐ１２〜Ｐ４２とを接続する場合においても、図３１に示されているように、隣り合う配管同士の間隔ｄ１が図３０における間隔ｄよりもはるかに大きくなり、Ｐ１１とＰ４１との中心間距離（Ｐ１２とＰ４２との中心間距離）Ｄ１も図３０における中心間距離Ｄよりもはるかに大きくなる。

次に、図３２〜図３４を参照しつつ、上述の配管継手１（図２３〜図２５参照）が、本発明の「流体供給制御装置」としてのガス供給装置１０に適用される場合の具体例について説明する。

一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２は、配管継手１に対応する位置に設けられている。具体的には、配管継手１に対応する一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２は、接続流路２１における入口ポート２１ａを挟んだ両側にて、機器配列方向に配列されている。すなわち、雌螺子部２８ａ１（ガス通流方向における上流側のもの）は、流路ブロック２０のガス通流方向における最上流側の位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｂは、流体制御弁１７及び１８に対応する位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｃは、流量制御器１６に対応する位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｄは、流体制御弁１９に対応する位置に設けられている。

本実施形態においては、一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２と、一対の雌螺子部２８ｂと、一対の雌螺子部２８ｃと、一対の雌螺子部２８ｄとが、この順に、ガス通流方向（機器配列方向）に沿ってほぼ一直線上に配列されるように設けられている。具体的には、雌螺子部２８ｂ，２８ｃ及び雌螺子部２８ｄは、平面視におけるこれらの中心がガス通流方向と平行な直線である中心線Ｃ（図３２における１点鎖線参照）上に位置するように設けられている。また、一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２は、平面視における内径を構成する円が中心線Ｃと重なるように設けられている。

なお、本実施形態においては、雌螺子部２８ａ１は、その中心が上述の中心線Ｃよりも装置幅方向における一方側（ガス供給ユニット１０Ｂ〜１０Ｄとは反対側）にオフセットするように設けられている。同様に、雌螺子部２８ａ２は、その中心が上述の中心線Ｃよりも装置幅方向における他方側（ガス供給ユニット１０Ｂ〜１０Ｄ側）にオフセットするように設けられている。

配管継手１は、ガス供給ユニット１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ及び１０Ｄのそれぞれに１つずつ設けられている。ガス供給ユニット１０Ａにおける配管継手１は、接続流路２１における入口ポート２１ａ（本発明の「出入口」に相当する）に接続されるように構成されている。すなわち、この配管継手１は、入口ポート２１ａに対向する位置にて流路ブロック２０における上側表面２０ａに対して気密的に接合されることで、プロセスガス流入ライン１１Ａと入口ポート２１ａとを接続するようになっている（ガス供給ユニット１０Ｂ，１０Ｃ及び１０Ｄにおける配管継手１も同様の構成を有している）。

配管継手１は、本体部２における長手方向が機器配列方向に沿った方向（具体的には平行）となり、本体部２における幅方向が上述の装置幅方向に沿った方向（具体的には平行）となり、本体部２における高さ方向が流路ブロック２０の厚さ方向に沿った方向（具体的には平行）となるように、流路ブロック２０に装着されている。また、本体部２においては、第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍは、配管継手１を流路ブロック２０に対して装着した状態で、ボルトＢが平面視にて上述の中心線Ｃと交差するように形成されている。本体部２における接合面２ａは、流路ブロック２０における上側表面２０ａに対して接合されている。

配管継手１は、第一端面２ｃがガス通流方向における上流側に位置するように、流路ブロック２０に対して装着されている。この第一端面２ｃから略水平方向に突出するように、プロセスガス流入ライン１１と接続するための管部３が設けられている。

第一側面２ｅは、配管継手１が流路ブロック２０に装着された状態で、雌螺子部２８ａ２側に設けられている。第二側面２ｆは、配管継手１が流路ブロック２０に装着された状態で、雌螺子部２８ａ１側に設けられている。

配管継手１は、一対のボルトＢを第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍに挿通して一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２に螺着することで、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着されている。ここで、本実施形態においては、本体部２は、その幅が、管部３及びボルトＢの外径よりも僅かに大きく、且つ、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９の幅（流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａの幅）と略同一となるように形成されている。

第一ボルト挿通孔２ｋは、雌螺子部２８ａ１に対応するように、平面視にて管部３側に配置されている。一方、第二ボルト挿通孔２ｍは、雌螺子部２８ａ２に対応するように、上述の長手方向における第二端面２ｄ側の端部に配置されている。第一開口部２ｇは、配管継手１が流路ブロック２０に装着された状態で、流路ブロック２０におけるプロセスガスの入口に対応する接続流路２１における入口ポート２１ａに対向する位置に配置されている。

シール段差部２ｈは、ガスシール部材を収容可能に形成されている。このガスシール部材は、配管継手１を流路ブロック２０に装着した状態で、流路ブロック２０における上側表面２０ａと本体部２における接合面２ａとの接合箇所において、接続流路２１における入口ポート２１ａと第一開口部２ｇとを気密的に接続するようになっている。第二開口部２ｐは、配管継手１が流路ブロック２０に装着された状態で、本体部２の、ガス通流方向における上流側の端部にて開口するように設けられている。

流体制御弁１７及び１８に対応する一対の雌螺子部２８ｂにおける一方は、接続流路２１における出口ポート２１ｂと、雌螺子部２８ａ２と、の間の位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｂにおける他方は、パージガス供給ポート２４と、接続流路２２における出口ポート２２ｂと、の間の位置に設けられている（より厳密にいえば、一対の雌螺子部２８ｂにおける他方は、パージガス供給ポート２４と、一対の雌螺子部２８ｃにおける後述の一方と、パージガス供給ポート２４と、の間に設けられている。しかしながら、この説明段階では、一対の雌螺子部２８ｃの位置は未だ確定されていない。よって、一対の雌螺子部２８ｃの位置については、後述の説明を参照されたい。）。

流量制御器１６に対応する一対の雌螺子部２８ｃにおける一方は、一対の雌螺子部２８ｂのうちのガス通流方向における下流側のものと、接続流路２２における出口ポート２２ｂと、の間の位置に設けられている。一対の雌螺子部２８ｃにおける他方は、接続流路２３における入口ポート２３ａと出口ポート２３ｂとの間の位置に設けられている（より厳密にいえば、一対の雌螺子部２８ｃにおける他方は、入口ポート２３ａと、一対の雌螺子部２８ｄにおける後述の一方と、の間に設けられている。しかしながら、この説明段階では、一対の雌螺子部２８ｄの位置は未だ確定されていない。よって、一対の雌螺子部２８ｄの位置については、後述の説明を参照されたい。）。

また、ＭＦＣ取付部５０における、雌螺子部２８ｃに対応する位置には、取付ボルト５１を挿通するための図示しない貫通孔が形成されている。そして、流量制御器１６は、一対の雌螺子部２８ｃに取付ボルト５１を螺着することで、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に対して気密的に装着されている。すなわち、一対の雌螺子部２８ｃは、流量制御器１６（ＭＦＣ取付部５０）を、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着可能に設けられている。なお、流量制御器１６（ＭＦＣ取付部５０）を流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に対して気密的に接合する構成については周知であるので、本明細書においては、かかる構成についての図示やこれ以上の詳細な説明は省略する。

上述のように、本実施形態においては、雌螺子部２８ａ１，２８ａ２、接続流路２１（入口ポート２１ａ、入口通路２１ｃ、接続路２１ｅ、出口通路２１ｄ、及び出口ポート２１ｂを含む）、雌螺子部２８ｂ、接続流路２２（同上）、パージガス供給ポート２４、雌螺子部２８ｃ、接続流路２３（同上）、プロセスガス供給ポート２６、及び雌螺子部２８ｄが、機器配列方向に沿って、ほぼ一直線状に配置されている。また、雌螺子部２８ａ１，２８ａ２，２８ｂ，２８ｃ及び２８ｄは、上側表面２０ａにて開口する非貫通穴として形成されている。すなわち、接続流路２１，２２及び２３は、雌螺子部２８ａ１〜２８ｄにおける深さ方向に当該雌螺子部２８ａ１〜２８ｄを迂回するように形成されている。具体的には、雌螺子部２８ａ１〜２８ｄは、接続流路２１〜２３と連通しないように形成されている。

＜作用・効果＞
上述のような本実施形態の構成においては、配管継手１は、一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２によって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。同様に、流体制御弁１７及び１８は、一対の雌螺子部２８ｂによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。また、流量制御器１６は、一対の雌螺子部２８ｃによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。さらに、流体制御弁１９は、一対の雌螺子部２８ｄによって、流路ブロック２０に対して着脱自在に装着される。

すると、配管継手１と、流体制御弁１７及び１８とは、接続流路２１によって接続される。同様に、流体制御弁１７及び１８と流量制御器１６とは、接続流路２２によって接続される。さらに、流量制御器１６と流体制御弁１９とは、接続流路２３によって接続される。そして、これらの接続流路２１〜２３は、雌螺子部２８ａ〜２８ｄとほぼ同一直線上に配置され、且つ、これらを深さ方向に迂回するように形成される。

よって、上述の構成によれば、配管継手１、バルブ取付ブロック４０、ＭＦＣ取付部５０、及びバルブ取付ブロック６０の幅を最小限（具体的には流量制御器１６及び流体制御弁アクチュエータ１７ａ〜１９ａの幅と略同一）に設定しても、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９を、流路ブロック２０に対して良好に着脱自在とすることが可能となる。換言すれば、これらを、取付用ボルトを平面視にて略矩形状に４本ずつ用いることなく、流路ブロック２０に対して良好に着脱自在とすることが可能となる。したがって、かかる構成によれば、各ガス供給ユニット１０Ａ等の幅やガス供給装置１０全体の幅を可及的に小さくすることが可能となり、以て、ガス供給装置１０において、良好なメンテナンス性を保持しつつ、さらなる小型化を図ることが可能となる。

特に、流路ブロック２０に対する配管部分の構成について着目すると、配管継手１においては、平面視にて長手方向を有する外形形状に形成された本体部２の、長手方向における第二開口部２ｐ側とは反対側の端部に、第一ボルト挿通孔２ｋが設けられる。また、第一ボルト挿通孔２ｋと第二ボルト挿通孔２ｍとは、流路ブロック２０に向けて開口する第一開口部２ｇ及び第一通路４を挟んで、略対称の位置に設けられる。かかる第一ボルト挿通孔２ｋと第二ボルト挿通孔２ｍとボルトＢとを用いて、配管継手１が流路ブロック２０に装着される。

ここで、本体部２の内部においては、第一通路４が、第一開口部２ｇから、高さ方向に沿って設けられる。さらに、第二通路５が、第一通路４における第一開口部２ｇから離隔した位置から、長手方向に沿って、第一ボルト挿通孔２ｋを迂回するように設けられる。

すなわち、かかる構成においては、本体部２の内部には、第一開口部２ｇと第二開口部２ｐとの間で、側断面視にて略Ｌ字形のガス通路が形成される。また、第一通路４と第二通路５とを幅方向にて可及的に近接させ、且つ第二ボルト挿通孔２ｍと第二通路５とを互いに連通しない程度で幅方向にて可及的に近接させることで、本体部２の幅方向における寸法が、可及的に小さくされ得る。

また、かかる構成においては、流路ブロック２０に対する配管部分の構成が可及的に小型化される。すなわち、配管継手１が、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９並びにこれらを流路ブロック２０に装着するための構成（雌螺子部２８ｂ等及び取付ボルト４１等）とともにガス通流方向に沿って略一直線状に配列された、雌螺子部２８ａ１，２８ａ２と一対のボルトＢとによって、流路ブロック２０に装着される。

このとき、配管継手１からは、プロセスガス流入ライン１１に接続するためのガス通路構成（本体部２の内部のガス通路及び管部３）が、本体部２から略水平に、ガス通流方向における上流側に向かって延出するように設けられる。このため、図３２及び図３３に示されているように、プロセスガス流入ライン１１における配管継手１の近傍の部分は、装置幅方向や高さ方向に屈曲することなく設けられる。

また、配管継手１を流路ブロック２０に着脱する際に、第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍが、プロセスガス流入ライン１１における配管継手１の近傍の部分に干渉しない位置となる。このため、第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍの上側に、ボルトＢの締結作業用の比較的大きなスペースを、配管設計によって敢えて作出（確保）する必要がなくなる。すなわち、かかる配管部分を、配管継手１の着脱作業用スペースの確保のためにわざわざ迂回させる必要がなくなる。よって、かかる配管部分を可及的に短くすることができる。

また、本実施形態の構成においては、配管継手１、流量制御器１６、及び流体制御弁１７〜１９が、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側に集約されている。したがって、かかる構成によれば、配管継手１、流量制御器１６、及び流体制御弁１７〜１９が上側表面２０ａ側に集約して装着された構成（かかる構成によれば、すべての配管継手１、流量制御器１６及び流体制御弁１７〜１９について、メンテナンス（ボルトＢ及び取付ボルト４１の締めあるいは緩め動作等）の際に、上側表面２０ａ側からアクセスすることが可能となるため、メンテナンス性が極めて良好となる）の、ガス供給ユニット１０Ａ等あるいはガス供給装置１０が、良好なメンテナンス性を損なうことなく、可及的に小さな幅で実現可能となる。

図２９及び図３０に示されている構成は、例えば、図３２に示されているプロセスガス流入ライン１１（プロセスガス流入ライン１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ及び１１Ｄ）における流路ブロック２０に到達する前の配管部分における配管接続構造に対して、良好に適用され得る。

流体制御弁１７〜１９は、下側表面２０ｂ側に着脱自在に装着されてもよい。図３５は、かかる変形例に対応するものである。本変形例においては、配管継手１は、上述の実施形態と同一の構成を有していて、管部３が下側（下側表面２０ｂ側）に突出するように、流路ブロック２０における端面２０１Ｂに装着されている。ここで、端面２０１Ｂは、流路ブロック２０における一表面であって、上側表面２０ａ及び下側表面２０ｂと直交する表面である。この端面２０１Ｂは、流路ブロック２０の、機器配列方向における一端側に設けられている。

また、本変形例においては、流体制御弁１７，１８及び１９が、端面２０１Ｂ側からこの順に、機器配列方向に配列されている。これらの変更に起因して、流路ブロック２０の内部の流路構成が、上述の実施形態のものから変更されている。上記以外は、流量制御器１６、流体制御弁１７〜１９及び配管継手１は、上述の実施形態と同様にして、流路ブロック２０に装着されている。すなわち、バルブ取付ブロック４０、ＭＦＣ取付部５０、及びバルブ取付ブロック６０の構成は、上述の実施形態とほぼ同様である。

接続流路２１における入口ポート２１ａは、端面２０１Ｂの、厚さ方向における略中央部にて開口するように設けられている。一方、出口ポート２１ｂは、下側表面２０ｂの、機器配列方向における中央部よりも端面２０１Ｂ側の位置にて開口するように設けられている。そして、接続流路２１は、入口ポート２１ａと出口ポート２１ｂとを接続するように、直角に折れ曲がった形状（略Ｌ字状）に形成されている。

一対の雌螺子部２８ａ１，２８ａ２は、端面２０１Ｂ側にて開口する非貫通穴として、接続流路２１及び２２に連通しないように形成されている。具体的には、雌螺子部２８ａ１は、接続流路２１における入口ポート２１ａよりも上方（上側表面２０ａ側）に設けられている。一方、雌螺子部２８ａ２は、接続流路２１における入口ポート２１ａよりも下方（下側表面２０ｂ側）に設けられている。そして、雌螺子部２８ａ１、接続流路２１における入口ポート２１ａ、及び雌螺子部２８ａ２は、この順に上方から下方に配列されている。

雌螺子部２８ｂ及び２８ｄは、非貫通の螺子穴であって、流路ブロック２０における下側表面２０ｂにて開口するように形成されている。一対の雌螺子部２８ｂにおける一方は、接続流路２１における出口ポート２１ｂよりも端面２０１Ｂ側にて、接続流路２１に連通しないように形成されている。一対の雌螺子部２８ｂにおける他方、及び一対の雌螺子部２８ｄにおける一方は、パージガス供給ポート２４及び内部パージガスライン２５と、プロセスガス供給ポート２６及び供給側内部ガスライン２７と、の間の、内部流路が形成されていない領域に設けられている。

このように、本変形例においては、流路ブロック２０における上側表面２０ａ側にて、一対の雌螺子部２８ｃと、接続流路２２における出口ポート２２ｂと、接続流路２３における入口ポート２３ａとが、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。また、流路ブロック２０における下側表面２０ｂ側にて、雌螺子部２８ｂ及び２８ｄと、接続流路２１における出口ポート２１ｂと、接続流路２２における入口ポート２２ａと、パージガス供給ポート２４と、プロセスガス供給ポート２６とが、機器配列方向に沿って略一直線状に配置されている。

また、本変形例の構成においては、配管継手１における管部３は、下側（下側表面２０ｂ側）に突出するように設けられている。このため、プロセスガス流入ライン１１における配管継手１の近傍の部分は、装置幅方向に屈曲することなく設けられる。よって、かかる配管部分を可及的に短くすることができる。

さらに、本変形例の構成によれば、配管継手１を流路ブロック２０における端面２０１Ｂに設けたことにより、流路ブロック２０の機器配列方向における寸法が小型化されている。これにより、流路ブロック２０をよりいっそう軽量化することが可能となる。

なお、図３５を参照しつつ、本変形例におけるプロセスガスの通流状態について説明する。まず、プロセスガスは、流路ブロック２０に対して、その端面２０１Ｂに設けられた、接続流路２１における入口ポート２１ａに供給される。かかるプロセスガスは、接続流路２１内にて、図中右方向に移動した後で下方に移動する。その後、プロセスガスは、接続流路２１における出口ポート２１ｂから流体制御弁１７を経て接続流路２２における入口ポート２２ａまで、バルブ取付ブロック４０内を通流する。ここまでのプロセスガスの流れは、機器配列方向については、図中左から右へと向かうこととなる。

一方、接続流路２２における出口ポート２２ｂは、機器配列方向については、入口ポート２２ａよりも図中左側となる。このため、接続流路２２におけるプロセスガスの流れは、機器配列方向については、図中右から左へと向かうこととなる。その後、プロセスガスは、流量制御器１６（ＭＦＣ取付部５０を含む）内を機器配列方向について図中左から右に向かって通流する。

さらに、流量制御器１６（ＭＦＣ取付部５０を含む）を経て接続流路２３における入口ポート２３ａに供給されたプロセスガスは、接続流路２３内にて下方に通流しつつ、バルブ取付ブロック６０に達する。このバルブ取付ブロック６０においても、プロセスガスは、流体制御弁１９を経てプロセスガス供給ポート２６に向かう間に、機器配列方向について図中右から左へと向かうこととなる。このように、本変形例においては、「ガス通流方向」は、機器配列方向について一方向とはならず、機器配列方向に沿って往復する（あるいは「ループ」を描く）態様となる。

本発明は、上述した実施形態や変形例のような配管構成に限定されない。このため、配管継手１の構成も、装置全体の配管構成に応じて適宜変更され得る。

例えば、図３６〜図３８に示されているように、第一通路４は、接合面２ａから頂面２ｂに至る貫通孔として形成され得る。この場合、頂面２ｂにも管部３が設けられ得る。さらに、図３９〜図４１に示されているように、第二端面２ｄ側にも、管部３及び第二開口部２ｐが設けられ得る。この場合、第二通路５は、平面視にて、第一開口部２ｇ（第一通路４）を挟んで一対形成される。典型的には、この場合、一対の第二通路５は、第一開口部２ｇ（第一通路４）を挟んで略点対称に設けられ得る。

管部３は、適宜省略され得る。

第一ボルト挿通孔２ｋと第二ボルト挿通孔２ｍとは、平面視にて、第一開口部２ｇを挟んで対称の位置に設けられていなくてもよい。すなわち、第一開口部２ｇにおけるシールが良好に確保可能な範囲で、第一ボルト挿通孔２ｋ及び第二ボルト挿通孔２ｍの位置は適宜変更され得る。

本発明は、流路ブロック２０への流体の供給箇所への適用に限定されない。すなわち、本発明は、流路ブロック２０からの流体の流出箇所（流出側継手）への適用も可能である。

従来、操作エアの圧力によって２つ以上のピストンを摺動させるエアオペレートバルブにおいて、弁体を弁座に当接または離間させるため、弁体が弁座に当接する方向に付勢する圧縮バネが使用されている。半導体製造プロセスでは、危険なガスを扱うため、半導体製造用のエアオペレートバルブからガスが少しでも漏れることを阻止する必要がある。そのため、エアオペレートバルブの閉弁時に高いシール性が求められている。例えば、特許文献１（特開平０４−２４８０８５号公報）には、図５３に示すようなエアオペレートバルブ１００がある。

しかし、エアオペレートバルブ１００Ｖには、以下のような問題点があった。

すなわち、エアオペレートバルブ１００Ｖにはピストン１０１ＡＶ、１０１ＢＶ、１０１ＣＶがある。それぞれのピストンには、８つのコイルバネ１０２ＡＶ〜１０２ＡＶ、１０２ＢＶ〜１０２ＢＶ、１０２ＣＶ〜１０２ＣＶが円周状に取り付けられ、使用されている。８つのコイルバネのうち、例えば、いずれか１つのコイルバネが劣化すると、弁体がバランスを崩して傾き、エアオペレートバルブ１００Ｖの閉弁時に必要なシール力が、悪化する恐れがあった。

上記問題を解決するために、特許文献２（特開２００８−１４４８１９号公報）に記載のエアオペレートバルブ２００Ｖでは、図５４に示すように、第１ピストン２０１Ｖと第２ピストン２０２Ｖのうち、第１ピストン２０１Ｖには、閉弁時にシール力を得るために、２つのコイルバネ２０３Ｖ、２０４Ｖを同一平面上に２つ備えている。

しかしながら、特許文献２に記載のエアオペレートバルブ２００Ｖには、次のような問題があった。

（１）閉弁に必要なシール力を得るために、エアオペレートバルブ２００Ｖのように、第１ピストン２０１Ｖに、同一平面上に２つのコイルバネ２０３Ｖ、２０４Ｖを取り付けると、バルブが大型化してしまう恐れがある。近年、半導体製造装置では、半導体ウエハの製造プロセスが複雑化するにつれ、多種のガスの切り替えが必要とされている。これに伴い、設置すべきバルブの数が増加している。そのため、エアオペレートバルブを複数設置すると、全体の設置面積が増加するという問題が生じる。そこで、１つ１つのバルブを小型化する要請が高まっている。

（２）また、バルブを小型化すると、設置面積が限定され、バネの線径やバネの径の自由度がなくなる。その理由は、設置面積が限定されると、バネの線径を細くせざるをえず、また、バネの径が小さいものを用いるしかないためである。そのため、１つのバネに加わる応力が上がることになり、バネの耐久性に問題が生じる。特に、半導体製造プロセスでは、危険なガスを扱うため、半導体製造用の流体制御弁の閉弁に必要なシール力の確保や弁の性能、耐久性等は大きな課題である。

本発明は、上記問題点を解決するためのものであり、バルブを小型化し、全体の設置面積の減少を実現しつつ、圧縮バネの設計の自由度を向上させ、閉弁に必要なシール力を確保することのできる流体制御弁を提供することを目的とする。

＜流体制御弁の構成＞
流体制御弁１Ｖ（上述した流体制御弁１７〜１９）は、図４２に示すように、流体を制御する弁部ＹＶと、弁部ＹＶに駆動力を与えるアクチュエータ部ＸＶを備える。流体制御弁１Ｖは、アクチュエータ部ＸＶを、アダプタ１５Ｖを介してボディ１４Ｖに連結する。流体制御弁１Ｖは、鉛筆と同程度の直径を有し、円柱状の外観を構成する。

弁部ＹＶは、図４４に示すように、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを備える。ボディ１４Ｖの下面には、制御流体が流入する入口流路１４ｂＶと、制御流体が流出する出口流路１４ｃＶが形成されている。ボディ１４Ｖの上面には、取付孔１４ｄＶが円柱状に形成されている。ボディ１４Ｖの中央部には、弁座１４ａＶが形成され、弁座１４ａＶ内の弁孔を介して入口流路１４ｂＶと出口流路１４ｃＶが連通している。

ボディ１４Ｖの上部には、ホルダ１６Ｖが溶接部２９Ｖにおいて、溶接により固定されている。これにより、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖは一体化し、密封されている。ホルダ１６Ｖの上部には、図４２に示すように、アダプタ１５Ｖが取り付けられている。ホルダ１６Ｖの上方外周面には雄ネジ部１６ａＶが設けられ、アダプタ１５Ｖの内周面には、雌ネジ部１５ａＶが設けられている。ホルダ１６Ｖの内周面には、円筒状のステム２４Ｖが摺動可能に保持されている。ホルダ１６Ｖの上面には、開口部が形成され、圧縮バネ１９Ｖが収納されている。また、ホルダ１６Ｖの下面には、ベローズ１７Ｖの上端面が取り付けられている。ベローズ１７Ｖの下端面は、ステム２４Ｖの下面に形成されている弁体保持部２４ａＶに取り付けられている。弁体保持部２４ａＶには、弾性体からなる弁体１８Ｖが取り付けられている。すなわち、弁体１８Ｖとホルダ１６Ｖの間にベローズ１７Ｖが配置している。

弁体１８Ｖは、弁座１４ａＶに対して当接または離間する。弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接すると、入口流路１４ｂＶと出口流路１４ｃＶは遮断され、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに離間すると、入口流路１４ｂＶと出口流路１４ｃＶは連通する。ステム２４Ｖには、バネ取付板２８Ｖが付設されており、圧縮バネ１９Ｖの上端面は、バネ取付板２８Ｖの下面側に当接している。圧縮バネ１９Ｖの下端面は、ホルダ１６Ｖの開口部上面に当接している。圧縮バネ１９Ｖは、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶから離間させる方向に付勢している。図４３に示すように、ステム２４Ｖの上方外周部と、内装部品２３ＡＶの内周面の間には、エアの漏れを防ぐためのＯリング２７Ｖが取り付けられている。

アクチュエータ部ＸＶは、図４３に示すように、第１ピストン１１ＡＶと、第２ピストン１１ＢＶを同軸上に直列に備える。同軸上とは、軸心が同じであることをいう。また、第１ピストン１１ＡＶには、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接する方向に付勢する１つの第１圧縮バネ１２ＡＶが同軸上に取り付けられ、第２ピストン１１ＢＶには、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接する方向に付勢する１つの第２圧縮バネ１２ＢＶが同軸上に取り付けられている。それぞれ同軸上に直列に取り付けられているため、バルブの幅を細くし、小型化することができる。また、第１ピストン１１ＡＶと第２ピストン１１ＢＶ、第１圧縮バネ１２ＡＶと第２圧縮バネ１２ＢＶ、及び内装部品２３ＡＶと内装部品２３ＢＶは各々同一形状のものである。そのため、部品を共通化することができ、製造コストを削減することができる。また、組立の際には、作業の効率性が向上する。

さらに、アクチュエータ部ＸＶは、内装部品２３ＡＶと内装部品２３ＢＶ、外装部材２２Ｖ、キャップ２０Ｖとを備える。

なお、同一形状である各々の部品のうち、１つの部品を説明することにより、他の部品の説明を割愛する。また、説明文が煩雑となるため、同一形状である部品の「Ａ」「Ｂ」を適宜省略する。

図４３に示すように、アクチュエータ部ＸＶは、チューブ形状の外装部材２２Ｖに、２つの内装部品２３ＡＶ、２３ＢＶを装填している。内装部品２３Ｖは、側面が円筒形状に形成されている。内装部品２３Ｖの上方内部には、シリンダ２３ａＶが形成されている。内装部品２３Ｖの外径寸法は、外装部材２２Ｖの内径寸法とほぼ同径にされている。内装部品２３Ｖの下方内部には、外装部材２２Ｖの内径寸法よりも小さな開口部が形成されている。外装部材２２Ｖの先端には、キャップ２０Ｖが取り付けられ、他端にはアダプタ１５Ｖが取り付けられている。これにより、アダプタ１５Ｖとキャップ２０Ｖとの間で、内装部品２３ＡＶ、２３ＢＶが挟み込まれて保持されている。内装部品２３ＡＶ、２３ＢＶは、外装部材２２Ｖの内部において重ね合わされた状態で固定され、第１ピストン１１ＡＶ、第２ピストン１１ＢＶをそれぞれ収納する第１ピストン室１３ＡＶと第２ピストン室１３ＢＶを形成する。

ピストン１１Ｖは、ピストン室１３Ｖに摺動可能に装填され、ピストン室１３Ｖを、加圧室１３ａＶと背圧室１３ｂＶとに区画している。背圧室１３ｂＶには、圧縮バネ１２Ｖが、ピストン１１Ｖを弁座１４ａＶに近付く方向に付勢した状態で、ピストン１１Ｖと同軸上に配置されている。

ピストン１１Ｖは、図４５及び図４６に示すように、ピストン部１１ａＶにピストンロッド１１ｂＶを一体的に成形されたものである。ピストン部１１ａＶは、円柱状であり、外径寸法が内装部品２３Ｖの内径寸法よりやや小さな径にされている。ピストン部１１ａＶには、ゴムなどの弾性体からなるＯリング２５Ｖを装着するための装着溝１１ｃＶが外周面に沿って環状に設けられている。ピストン１１Ｖの下面には、凹部１１ｅＶが形成されている。また、ピストン１１Ｖの内部には、内部流路１１ｄＶが形成されている。内部流路１１ｄＶの下方には、加圧室１３ａＶと連通するための流路１１ｆＶが形成されている。流路１１ｆＶは、内部流路１１ｄＶと連通している。すなわち、キャップ２０Ｖの内周面に形成された給排気ポート２０ａＶは、ピストン１１Ｖの内部流路１１ｄＶ、流路１１ｆＶを介してピストン１１Ｖの加圧室１３ａＶと連通する。

流体制御弁１Ｖでは、２つあるピストン１１Ｖのうち、下端にある第１ピストン１１ＡＶの凹部１１ｅＶには、ステム２４Ｖが配置されている。一方、上端にある第２ピストン１１ＢＶの凹部１１ｅＶには、第１ピストン１１ＡＶのピストンロッド１１ｂＶの上端が配置されている。また、２つあるピストン１１Ｖのうち、下端にある第１ピストン１１ＡＶのピストンロッド１１ｂＶの外周面と内装部品２３ＢＶの下方内周部には、エアの漏れを防ぐためのＯリング２６ＡＶが配置されている。一方、上端にある第２ピストン１１ＢＶのピストンロッド１１ｂＶの外周面とキャップ２０Ｖの下方内周部との間には、Ｏリング２６ＢＶが配置されている。

第１ピストン１１ＡＶ、第２ピストン１１ＢＶのピストン部１１ａＶの上面には、それぞれ弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接する方向に付勢する圧縮バネ１２ＡＶ、１２ＢＶの下端面が当接している。内装部品２３ＢＶの下面には、第１圧縮バネ１２ＡＶの上端面が当接し、キャップ２０Ｖの下面には、第２圧縮バネ１２ＢＶの上端面が当接している。

ここで、第１圧縮バネ１２ＡＶによる付勢力（Ｆ１）と、第２圧縮バネ１２ＢＶによる付勢力（Ｆ２）の総和（Ｆ１＋Ｆ２）が、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接させる力（Ｆ＝Ｆ１＋Ｆ２）、すなわち流体制御弁１Ｖを閉弁するためのシール力となる。なお、圧縮バネ１９Ｖの抗力は、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接させる力（Ｆ）と比較して小さな力であるため、説明では圧縮バネ１９Ｖの抗力を省略している。なお、後述する他の実施形態に係る流体制御弁２Ｖ、３Ｖにおいて、同様に、圧縮バネ１９Ｖの抗力の説明を省略している。

また、第１圧縮バネ１２ＡＶと第２圧縮バネ１２ＢＶは、同一形状であるため、同程度の付勢力を有する（Ｆ１＝Ｆ２）。すなわち、１つのバネに必要な付勢力は、２つのピストンを重ねる場合、Ｆ／２＝Ｆ１＝Ｆ２となる。よって、各々のバネの付勢力を下げることができる。すなわち、１つのバネに加わる応力を下げることができ、バネの耐久性が向上する。また、バネの設計の自由度が高まる。

また、後述する他の実施形態に係る流体制御弁２Ｖでは、６つの第１圧縮バネ１２ＡＶ〜第６圧縮バネ１２ＦＶを有するが、各々の圧縮バネ１２Ｖの付勢力の総和（Ｆ１＋Ｆ２＋Ｆ３＋Ｆ４＋Ｆ５＋Ｆ６）は、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接させる力（Ｆ＝Ｆ１＋Ｆ２＋Ｆ３＋Ｆ４＋Ｆ５＋Ｆ６）となる。また、バネ１つに必要な付勢力は、Ｆ／６＝Ｆ１＝Ｆ２＝Ｆ３＝Ｆ４＝Ｆ５＝Ｆ６となる。なお、後述する他の実施形態に係る流体制御弁３Ｖは、他の実施形態に係る流体制御弁２Ｖとピストンの数が同じであるため、説明を割愛する。

流体制御弁１Ｖは、キャップ２０Ｖの内周面に形成された給排気ポート２０ａＶを介してエアを給排気させる。キャップ２０Ｖの外周面は、外装部材２２Ｖにより覆われ、キャップ２０Ｖの上面には、ワンタッチ継手２１Ｖが装着されている。ワンタッチ継手２１Ｖには、図示しないが、エアチューブが接続されている。このように、エアチューブは上面で接続できるため、設置面積の増加を防ぐことができる。

（流体制御弁の組立）
次に、本実施形態に係る流体制御弁１の組立を、図４７を用いて説明する。アクチュエータ部ＸＶと弁部ＹＶは、各々別個に組み立てられる。そのため、アクチュエータ部ＸＶは、弁部ＹＶを構成するホルダ１６Ｖから着脱可能である。

まず、アクチュエータ部ＸＶの組立について説明する。第１ピストン１１ＡＶと第２ピストン１１ＢＶの装着溝１１ｃＶにシール部材２５ＡＶを装着する。外装部材２２Ｖの一端開口部にアダプタ１５Ｖを圧入する。内装部品２３ＡＶ、ピストン１１ＡＶ、圧縮バネ１２ＡＶ、内装部品２３ＢＶ、ピストン１１ＢＶ、圧縮バネ１２ＢＶを外装部材２２Ｖに装填する。このとき、ピストン１１Ｖのピストンロッド１１ｂＶが内装部品２３Ｖの貫通孔とキャップ２０Ｖの貫通孔を貫き通される。内装部品２３Ｖの貫通孔から外向きに飛び出すピストンロッド１１ｂＶを貫き通すようにキャップ２０Ｖを外装部材２２Ｖの開口端部に嵌め合わせる。この段階で内装部品２３Ｖとピストン１１Ｖと圧縮バネ１２Ｖとが外装部材２２Ｖ内に仮保持される。外装部材２２Ｖの両端部を、アダプタ１５Ｖとキャップ２０Ｖのかしめ溝に沿ってかしめて固定する。

次に、弁部ＹＶの組立について説明する。図４７に示すように、ボディ１４Ｖの取付孔１４ｄＶにホルダ１６Ｖを挿入し、ステム２４Ｖを嵌め込んだホルダ１６Ｖを取付孔１４ｄＶの内部に配置する。ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを、溶接部２９Ｖにおいて溶接することにより固定する。これにより、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを一体的に形成し、密封する。なお、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを固定する方法は、金属ガスケット等を挟み、圧入や螺合により塞いでも良い。

次に、アクチュエータ部ＸＶを、弁部ＹＶに連結する。ボディ１４Ｖに螺設したアダプタ１５Ｖの雌ネジ部１５ａＶを、ホルダ１６Ｖの雄ネジ部１６ａＶにねじ込む。このとき、ホルダ１６Ｖから突出するステム２４Ｖがピストン１１Ｖの凹部１１ｅＶに突き当たり、ピストン１１Ｖに作用する圧縮バネ１２Ｖの弾性力を、ステム２４Ｖを介して弁体１８Ｖに伝達し、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接させる。以上で組立が完了する。

近年、流体制御弁の小型化の要請が高まっている。しかし、小型化に伴い、流体制御弁の構成部品は各々小さくなっているため、十分な強度を保つのが困難となる。そのため、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを固定するために圧入すると、構成部品を破損させてしまう恐れがある。

鉛筆と同程度の直径（例えば、約１０ｍｍの直径）を有する本発明の流体制御弁１Ｖでは、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを溶接により固定することで、圧入や螺合による破損の恐れがなく、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖを密封することができる。よって、流体制御弁の小型化を実現しつつ、弁部Ｙの強度を確保することができる。組立やメンテナンスの際、アクチュエータ部Ｘを弁部Ｙから容易に取り外しすることができるため、作業の効率性を向上させることができる。また、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖは密封されているため、制御流体が漏れることがなく、安全性を高めることができる。

（流体制御弁の動作説明）
次に、本実施形態に係る流体制御弁１Ｖの動作を説明する。

流体制御弁１Ｖは、給排気ポート２０ａＶにエアが供給されないとき、圧縮バネ１２Ｖの弾性力によって、圧縮バネ１９Ｖの抗力に反してピストン１１Ｖが弁座１４ａＶ方向へ押下げられ、ステム２４Ｖを介して弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接させる。そのため、入口流路１４ｂＶに供給された制御流体は、弁座１４ａＶから出口流路１４ｃＶへ流れない。

給排気ポート２０ａＶよりエアが供給されると、エアは、内部流路１１ｄＶから流路１１ｆＶを介して加圧室１３ａＶに流入する。加圧室１３ａＶに流入するエアが、背圧室１３ｂＶにある圧縮バネ１２Ｖの弾性力に打ち勝つと、圧縮バネ１２Ｖは収縮し始める。これにより、ピストン１１Ｖは上昇する。ピストン１１Ｖが上昇すると、図４２に示すように、ステム２４Ｖに付設される圧縮バネ１９Ｖは、弁座１４ａＶ方向に押圧されなくなり、圧縮バネ１９Ｖの弾性力によりステム２４Ｖは上昇する。伸長していたベローズ１７Ｖは、収縮し、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶから離間する。この状態で入口流路１４ｂＶに制御流体を供給すると、制御流体が入口流路１４ｂＶから弁座１４ａＶ内の弁孔を介して出口流路１４ｃＶへ流れる。

＜流体制御弁の変形例＞
本発明の流体制御弁の他の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図４８は、本発明の他の実施形態に係る流体制御弁２Ｖの断面図である。なお、上述した実施形態と共通する構成については上述した実施形態と同一の符号を図面に付し、説明を割愛する。

本実施形態に係る流体制御弁２Ｖ（上述した流体制御弁１７〜１９）では、図４８に示すように、同一形状の内装部品２３Ｖを６つ重ねて外装部材２２Ｖ内に固定することにより、６つの第１、第２、第３、第４、第５、第６ピストン１１ＡＶ、１１ＢＶ、１１ＣＶ、１１ＤＶ、１１ＥＶ、１１ＦＶ（以下、１１ＡＶ〜１１ＦＶと記載。）と、６つの第１、第２、第３、第４、第５、第６圧縮バネ１２ＡＶ、１２ＢＶ、１２ＣＶ、１２ＤＶ、１２ＥＶ、１２ＦＶ（以下、１２ＡＶ〜１２ＦＶと記載。）を設置することができる。第１〜第６ピストン１１ＡＶ〜１１ＦＶには、それぞれ１つずつ第１〜第６圧縮バネ１２ＡＶ〜１２ＦＶが同軸上に取り付けられている。ピストン１１Ｖを６つ重ねることにより、６つのピストン室１３ＡＶ、１３ＢＶ、１３ＣＶ、１３ＤＶ、１３ＥＶ、１３ＦＶを形成し、６段式の流体制御弁を構成する。

ここで、近年、半導体製造装置では、多種のガスの切り換えを行うため、設置すべきバルブの数が増加し、全体の設置面積の減少が課題となっている。バルブを小型化するために、鉛筆と同程度の直径を有する流体制御弁が開発されている。この場合、ピストン１１Ｖに取り付けられる圧縮バネ１２Ｖのバネ径は小さくなければならない。そのため、閉弁時の一定のシール力を確保するために、ピストン１１Ｖを複数積み重ねる必要がある。

本出願人は、数々の実験を行うことにより、閉弁時の一定のシール力を確保するためには、４つ以上のピストン１１Ｖを積み重ねることが必要であることがわかった。４つ以上のピストン１１Ｖには、それぞれ１つずつ圧縮バネ１２Ｖが同軸上に取り付けられている。なお、流体制御弁２Ｖのように、６つのピストン１１Ｖを積み重ね、６つの圧縮バネ１２Ｖをそれぞれ１つずつ取り付けた場合、確実に一定のシール力を確保し、さらに圧縮バネ１２Ｖの耐久性を向上させることがわかった。

以上、説明したように、本発明の流体制御弁１Ｖ、２Ｖによれば、
（１）操作流体の圧力によってピストン１１Ｖを摺動させ、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接または離間させる流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、第１ピストン１１ＡＶ及び第２ピストン１１ＢＶを同軸上に有すること、第１ピストン１１ＡＶには、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接する方向に付勢する１つの第１圧縮バネ１２ＡＶが同軸上に取り付けられていること、第２ピストン１１ＢＶには、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接する方向に付勢する１つの第２圧縮バネ１２ＢＶが同軸上に取り付けられていること、を特徴とするので、第１ピストン１１ＡＶに第１圧縮バネ１２ＡＶが、第２ピストン１１ＢＶに第２圧縮バネ１２ＢＶが、それぞれ直列に取り付けられているため、流体制御弁１Ｖ、２Ｖの幅を細くし、小型化することができる。よって、全体の設置面積を減少させることができる。

２つのピストン１１Ｖ（第１ピストン１１ＡＶ、第２ピストン１１ＢＶ）だけでなく、閉弁のためのシール力を高めるため、例えば、６つのピストン１１Ｖを積んだとしても、アクチュエータ部Ｘの高さが増すだけである。すなわち、シール力を高めつつ、流体制御弁自体の幅は細いままで、設置面積は変化しない。よって、ピストン１１Ｖの数に関わらず、流体制御弁の小型化を実現することができ、全体の設置面積の減少を実現することができる。また、ピストン１１Ｖの数に関わらず、弁体１８Ｖの材質や形状、必要なＣｖ値などに応じて任意の数のピストン１１Ｖを組み合わせるだけで、閉弁のために必要なシール力を容易に設定することが可能となる。さらに、いずれか１つの圧縮バネ１２Ｖが劣化したとしても、他の圧縮バネ１２Ｖの付勢力により、弁体１８Ｖがバランスを崩して傾きが生じることなく、弁座１４ａＶに対し均一のシール力を確保することができる。

（２）（１）に記載の流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、第１ピストン１１ＡＶ及び第２ピストン１１ＢＶは、同一形状のものであること、第１圧縮バネ１２ＡＶ及び第２圧縮バネ１２ＢＶは、同一形状のものであること、を特徴とするので、複数のピストン１１Ｖと圧縮バネ１２Ｖを組み合わせるとき、それぞれ同一形状のものであるため、部品を共通化することができる。よって、別途、他の形状のピストン、圧縮バネを用意する必要が無く、型成形で部品を製造する場合には、製造するためのコストを削減することができる。さらに、部品を共通化することにより、組立の際、作業の効率性を向上させることができる。

（３）（１）または（２）に記載の流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、第１圧縮バネ１２ＡＶによる付勢力と、第２圧縮バネ１２ＢＶによる付勢力の総和が、弁体１８Ｖを弁座１４ａＶに当接させる力となること、を特徴とするので、第１圧縮バネ１２ＡＶ、第２圧縮バネ１２ＢＶのそれぞれの付勢力の総和が、流体制御弁１Ｖ、２Ｖを閉弁するためのシール力となるため、圧縮バネ１２Ｖのバネ応力を各々下げることができる。そのため、圧縮バネ１２Ｖの耐久性を向上させることができる。また、圧縮バネ１２Ｖの設計の自由度が高まり、設計・製造が容易になる。さらに、公差がばらついたとしても、閉弁に必要なシール力を確保することができる。

（４）（１）乃至（３）のいずれか１つに記載の流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、弁座１４ａＶが形成されるボディ１４Ｖの上部には、ホルダ１６Ｖが固定され、弁体１８Ｖとホルダ１６Ｖの間にはベローズ１７Ｖが配置していること、を特徴とするので、ダイアフラム弁体と比較すると、より小径内で長ストロークを得ることができる。

（５）（１）乃至（４）のいずれか１つに記載の流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、弁座１４ａＶが形成されるボディ１４Ｖの上部には、ホルダ１６Ｖが溶接により固定されていること、を特徴とするので、組立やメンテナンスの際、アクチュエータ部ＸＶの取り外しを容易に行うことができ、作業の効率性を向上させることができる。また、ボディ１４Ｖとホルダ１６Ｖは密封されているため、制御流体が漏れることがなく、安全性を高めることができる。

（６）（５）に記載の流体制御弁において、ピストン１１Ｖを備えるアクチュエータ部ＸＶは、ホルダ１６Ｖから着脱可能であること、を特徴とするので、組立やメンテナンスの際、すぐにアクチュエータ部Ｘを交換することができ、作業の効率性を向上させることができる。

（７）（１）乃至（６）のいずれか１つに記載の流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、チューブ形状の外装部材２２Ｖを有すること、を特徴とするので、組立を容易に行うことができる。

（８）（７）に記載の流体制御弁１Ｖ、２Ｖにおいて、外装部材２２Ｖの先端に取り付けられたキャップ２０Ｖの上面にワンタッチ継手２１Ｖを有すること、を特徴とするので、外装部材の先端に取り付けられたキャップ２０Ｖの上面にワンタッチ継手２１Ｖを配置し、上面でエアチューブを接続することができるため、設置面積の増加を防ぐことができる。

＜流体制御弁の他の変形例＞
本発明の流体制御弁の他の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図４９は、本発明の他の実施形態に係る流体制御弁３Ｖ（上述した流体制御弁１７〜１９）の断面図である。なお、上述した実施形態と共通する構成については上述した実施形態と同一の符号を図面に付し、説明を割愛する。

上述した実施形態では、流体制御弁１の弁部ＹＶに、ベローズ１７Ｖを用いて説明した。しかし、本実施形態に係る流体制御弁３Ｖでは、図４９に示すように、弁部ＹＶは、ベローズ１７Ｖではなく、ダイアフラム弁体３１Ｖを用いて流体制御弁３Ｖを構成する。

弁部Ｙのボディ１４Ｖの下面には、入口流路１４ｂＶと出口流路１４ｃＶが設けられている。ボディ１４Ｖの上面には取付孔１４ｄＶが円柱状に形成されている。取付孔１４ｄＶの底壁中央部には、弁座３２Ｖが環状に設けられ、その弁座３２Ｖを介して入口流路１４ｂＶと出口流路１４ｃＶとが連通している。

弁部ＹＶは、ボディ１４Ｖの取付孔１４ｄＶにダイアフラム弁体３１Ｖを装着し、ダイアフラム弁体３１Ｖの外縁部をホルダ３４Ｖで押さえ、取付孔１４ｄＶの内周面とホルダ３４Ｖの外周面との間に挿入したアダプタ３３Ｖをボディ１４Ｖにねじ込むことにより、ダイアフラム弁体３１Ｖの外縁部をボディ１４Ｖとホルダ３４Ｖとの間で挟持している。ダイアフラム弁体３１Ｖは、樹脂や金属などを薄い膜状に形成し、変形可能にしたものである。そして、ホルダ３４Ｖとアダプタ３３Ｖは、耐熱性や剛性を有する金属を材質としている。ホルダ３４Ｖには、ダイアフラム弁体３１Ｖに接触するように金属製のステム３０Ｖが装填され、ステム３０Ｖを介してダイアフラム弁体３１Ｖにアクチュエータ部ＸＶの駆動力を伝達するようになっている。

以上、説明したように、本発明の流体制御弁３Ｖによれば、
（１）操作流体の圧力によってピストン１１Ｖを摺動させ、ダイアフラム弁体３１Ｖを弁座３２Ｖに当接または離間させる流体制御弁３Ｖにおいて、第１ピストン１１ＡＶ及び第２ピストン１１ＢＶを同軸上に有すること、第１ピストン１１ＡＶには、ダイアフラム弁体３１Ｖが弁座３２Ｖに当接する方向に付勢する１つの第１圧縮バネ１２ＡＶが同軸上に取り付けられていること、第２ピストン１１ＢＶには、ダイアフラム弁体３１Ｖが弁座３２Ｖに当接する方向に付勢する１つの第２圧縮バネ１２ＢＶが同軸上に取り付けられていること、を特徴とするので、第１ピストン１１ＡＶに第１圧縮バネ１２ＡＶが、第２ピストン１１ＢＶに第２圧縮バネ１２ＢＶが、それぞれ直列に取り付けられているため、流体制御弁３Ｖの幅を細くし、小型化することができる。よって、全体の設置面積を減少させることができる。

＜流体制御弁の参考例＞
同一形状のピストン１１Ｖは、ＮＯ型の流体制御弁にも応用可能である。図５０に、参考例に係る流体制御弁４Ｖ（上述した流体制御弁１７〜１９）の断面図を示す。ＮＣ型の流体制御弁１Ｖ、２Ｖ、３Ｖと比較して、圧縮バネ１２Ｖは、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに当接する方向に付勢していない点、及び圧縮バネ１２Ｖは、複数のピストン１１Ｖのうち、ピストンごとに取り付けられていない点で異なる。なお、上述した実施形態と共通する構成については上述した実施形態と同一の符号を図面に付し、説明を割愛する。

流体制御弁４Ｖでは、ＮＣ型の流体制御弁１Ｖ、２Ｖ、３Ｖと比較して、ピストン１１Ｖのピストン部１１ａＶを上部、ピストンロッド１１ｂＶを下部にするように取り付けられている。圧縮バネ１２ＡＶは、一番下に配置された第１ピストン１１ＡＶにのみ取り付けられている。圧縮バネ１２ＡＶの一端は、第１ピストン１１ＡＶに当接し、その他端は、アダプタ１５Ｖに付けられた部品３５Ｖに当接している。圧縮バネ１２ＡＶは、弁体１８Ｖが弁座１４ａＶに離間する方向に付勢している。これにより、同一形状のピストン１１Ｖは、ＮＣ型だけでなく、ＮＯ型にも対応することができる。

なお、ＮＯ型の流体制御弁において、参考例に係る流体制御弁４Ｖでは１つの圧縮バネ１２ＡＶしか用いていないが、複数のピストンを用いる場合、１つのピストン１１Ｖに１つの圧縮バネ１２Ｖを取り付けても良い。例えば、参考例に係る流体制御弁４Ｖでは、ピストン１１ＡＶ〜１１ＦＶにそれぞれ１つずつ圧縮バネ１２Ｖを取り付けても良い。

なお、本実施形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で様々な改良、変形が可能である。

例えば、上述した実施形態では２つのピストン１１Ｖを、他の実施形態では６つのピストン１１Ｖを重ねたが、ピストン１１Ｖはいくつ重ねても良い。

例えば、上述した実施形態では操作流体としてエアを用いているが、操作流体は不活性ガスでも良い。

＜バルブ取付ブロック内の流路＞
図５１は、バルブ取付ブロック６０内の流路周辺を示す断面図である。バルブ取付ブロック６０内には、プロセスガス又はパージガスが流入する入口流路１４ｂＶ、プロセスガス又はパージガスが流出する出口流路１４ｃＶ、入口流路１４ｂＶ及び出口流路１４ｃＶに連通している取付孔１４ｄＶ（弁室）が形成されている。

入口流路１４ｂＶは、出口ポート２３ｂを介して接続流路２３に接続されている。出口流路１４ｃＶは、プロセスガス供給ポート２６を介して供給側内部ガスライン２７に接続されている。そして、流体制御弁１９の弁体１８Ｖは、弁座１４ａＶに対して離間及び当接することで、取付孔１４ｄＶと出口流路１４ｃＶとを連通及び遮断するように駆動される。すなわち、遮断部の上流側に、容積が大きく且つ形状が複雑な取付孔１４ｄＶ及びベローズ１７Ｖを配置している。こうした構成により、弁体１８Ｖが取付孔１４ｄＶと出口流路１４ｃＶとを遮断している状態において、遮断部の下流側の供給側内部ガスライン２７と弁体１８Ｖとの間に滞留するガスの量を少なくすることができる。

図５２は、バルブ取付ブロック４０内の流路周辺を示す断面図である。バルブ取付ブロック４０内（同図において左側）には、プロセスガス（第１流体）が流入する入口流路１４ｂＶ（第１入口流路）、プロセスガスが流出する出口流路１４ｃＶ（第１出口流路）、入口流路１４ｂＶ及び出口流路１４ｃＶに連通している取付孔１４ｄＶ（第１弁室）が形成されている。また、バルブ取付ブロック４０内（同図において右側）には、パージガス（第２流体）が流入する入口流路１４ｂＶ（第２入口流路）、パージガスが流出する出口流路１４ｃＶ（第２出口流路）、入口流路１４ｂＶ及び出口流路１４ｃＶに連通している取付孔１４ｄＶ（第２弁室）が形成されている。

左側の入口流路１４ｂＶは、出口ポート２１ｂを介して接続流路２１に接続されている。出口流路１４ｃＶは、入口ポート２２ａを介して接続流路２２に接続されている。右側の入口流路１４ｂＶは、パージガス供給ポート２４を介して内部パージガスライン２５に接続されている。出口流路１４ｃＶは、入口ポート２２ａを介して接続流路２２に接続されている。２つの出口流路１４ｃＶは互いに連通している。

そして、同図の左側において、流体制御弁１７（一方の流体制御弁）の弁体１８Ｖは、弁座１４ａＶに対して離間及び当接することで、取付孔１４ｄＶ（第１弁室）と出口流路１４ｃＶ（第１出口流路）とを連通及び遮断するように駆動される。また、同図の右側において、流体制御弁１８（他方の流体制御弁）の弁体１８Ｖは、弁座１４ａＶに対して離間及び当接することで、取付孔１４ｄＶ（第２弁室）と出口流路１４ｃＶ（第２出口流路）とを連通及び遮断するように駆動される。

すなわち、遮断部の上流側に、容積が大きく且つ形状が複雑な取付孔１４ｄＶ及びベローズ１７Ｖを配置している。こうした構成により、双方の流体制御弁１７，１８において、弁体１８Ｖが取付孔１４ｄＶと出口流路１４ｃＶとを遮断している状態において、遮断部の下流側に滞留するガスの量を少なくすることができる。したがって、プロセスガスとパージガスとの切り換え時において、滞留していた切り換え前のガスが切り換え後のガスに混入する量を少なくすることができる。

その他、特段に言及されていない変形例についても、本発明の本質的部分を変更しない範囲内において、本発明の技術的範囲に含まれることは当然である。また、本発明の課題を解決するための手段を構成する各要素における、作用・機能的に表現されている要素は、上述の実施形態や変形例にて開示されている具体的構成及びその均等物の他、当該作用・機能を実現可能ないかなる構成をも含む。

１…配管継手、２…本体部、２ａ…接合面、２ｇ…第一開口部、２ｋ…第一ボルト挿通孔、２ｍ…第二ボルト挿通孔、２ｐ…第二開口部、４…第一通路、５…第二通路、６…開口側通路、７…中間通路、１０…ガス供給装置、１０Ａ〜１０Ｈ…ガス供給ユニット、１１…プロセスガス流入ライン、１２…パージガス流入ライン、１３…プロセスガス供給ライン、１４…内部メインガス流路、１５…内部パージガス流路、１６…流量制御器、１７〜１９…流体制御弁、１９ａ，１９ｂ…流体制御弁アクチュエータ、２０…流路ブロック、２０ａ…上側表面、２０ｂ…下側表面、２１〜２３…接続流路、２４…パージガス供給ポート、２５…内部パージガスライン、２６…プロセスガス供給ポート、２７…供給側内部ガスライン、２８ａ〜２８ｄ…雌螺子部、３０…流入側フランジ、３１…フランジ部、３２…管部、３３…取付ボルト、４０…バルブ取付ブロック、４１…取付ボルト、５０…ＭＦＣ取付部、５１…取付ボルト、６０…バルブ取付ブロック、６１…取付ボルト、２０１…第一接続片、２０２…第二接続片、２１１…第一接続開口部、２１２…第一接続路、２２１…第二接続開口部、２２２…第二接続路、２８ａ〜２８ｄ…雌螺子部、２９０…バイパス配管、１Ｖ〜３Ｖ…流体制御弁、１１Ｖ…ピストン、１１ＡＶ…第１ピストン、１１ＢＶ…第２ピストン、１２Ｖ…圧縮バネ、１２ＡＶ…第１圧縮バネ、１２ＢＶ…第２圧縮バネ、１３Ｖ…ピストン室、１４Ｖ…ボディ、１４ａＶ…弁座、１５Ｖ…アダプタ、１６Ｖ…ホルダ、１７Ｖ…ベローズ、１８Ｖ…弁体、２０Ｖ…キャップ、２１Ｖ…ワンタッチ継手、２２Ｖ…外装部材、２３Ｖ…内装部品、３１Ｖ…ダイアフラム弁体、３２Ｖ…弁座、ＸＶ…アクチュエータ部、ＹＶ…弁部。

Claims (29)

1. 流体の流路が内部に形成されていて、複数の流体制御機器を所定の配列方向に配列しつつ装着することで、前記流路によって互いに接続された複数の前記流体制御機器を備えた流体供給制御装置を形成可能に構成された、流路ブロックであって、
   前記配列方向に配列された複数の前記流体制御機器の組について分離不能に一体的に形成されていて、
   前記流路は、前記組を構成する複数の前記流体制御機器を互いに接続するように前記配列方向に沿って設けられた第一流路と、前記配列方向と直交する幅方向に沿って設けられた第二流路と、を有し、
   ２つの当該流路ブロックを前記幅方向に並列に隣接配置した状態で、両者の前記第二流路同士を接続可能に形成された、接続部を備えたことを特徴とする、流路ブロック。
2. 請求項１に記載の流路ブロックであって、
   前記流路ブロックは、複数の前記組を前記配列方向と直交する幅方向に複数配列しつつ装着可能に、且つ前記組の各々について分離不能に一体的に形成されていて、
   前記第二流路は、前記組の各々を互いに接続するように設けられたことを特徴とする、流路ブロック。
3. 請求項１に記載の流路ブロックであって、
   前記接続部は、
   前記幅方向及び前記配列方向と直交する厚さ方向における一方側にて前記幅方向における一方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記厚さ方向における他方側に開口する第一接続開口部が形成された、第一接続片と、
   前記厚さ方向における前記他方側にて前記幅方向における他方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記厚さ方向における前記一方側に開口する第二接続開口部が形成された、第二接続片と、
   を備え、
   前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とが互いに対向するように前記第一接続片と前記第二接続片とが前記厚さ方向に重ね合わされることで、互いの前記第二流路同士が接続されるように構成されたことを特徴とする、流路ブロック。
4. 請求項２に記載の流路ブロックであって、
   前記接続部は、
   前記幅方向及び前記配列方向と直交する厚さ方向における一方側にて前記幅方向における一方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記厚さ方向における他方側に開口する第一接続開口部が形成された、第一接続片と、
   前記厚さ方向における前記他方側にて前記幅方向における他方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記厚さ方向における前記一方側に開口する第二接続開口部が形成された、第二接続片と、
   を備え、
   前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とが互いに対向するように前記第一接続片と前記第二接続片とが前記厚さ方向に重ね合わされることで、互いの前記第二流路同士が接続されるように構成されたことを特徴とする、流路ブロック。
5. 請求項３又は４に記載の流路ブロックであって、
   前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とが、前記配列方向について同一位置となるように、前記第一接続片及び前記第二接続片が形成されたことを特徴とする、流路ブロック。
6. 請求項５に記載の流路ブロックであって、
   前記第一接続片及び前記第二接続片は、前記配列方向において前記流路ブロックの全長にわたって設けられたことを特徴とする、流路ブロック。
7. 請求項１に記載の流路ブロックであって、
   前記接続部は、
   前記幅方向における一方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記流体制御機器が装着される一表面である上側表面側にて開口する第一接続開口部が形成された、第一接続片と、
   前記幅方向における他方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記上側表面側にて開口する第二接続開口部が形成された、第二接続片と、
   を備え、
   前記第一接続片と前記第二接続片とを前記配列方向に隣接配置した状態で、前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とを互いに接続するためのバイパス配管を前記第一接続片と前記第二接続片とに跨るように装着することで、隣接配置された２つの当該流路ブロックにおける互いの前記第二流路同士が接続されるように構成されたことを特徴とする、流路ブロック。
8. 請求項２に記載の流路ブロックであって、
   前記接続部は、
   前記幅方向における一方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記流体制御機器が装着される一表面である上側表面側にて開口する第一接続開口部が形成された、第一接続片と、
   前記幅方向における他方の端部から当該幅方向に突設されていて、前記第二流路に接続されるとともに前記上側表面側にて開口する第二接続開口部が形成された、第二接続片と、
   を備え、
   前記第一接続片と前記第二接続片とを前記配列方向に隣接配置した状態で、前記第一接続開口部と前記第二接続開口部とを互いに接続するためのバイパス配管を前記第一接続片と前記第二接続片とに跨るように装着することで、隣接配置された２つの当該流路ブロックにおける互いの前記第二流路同士が接続されるように構成されたことを特徴とする、流路ブロック。
9. 請求項７又は８に記載の流路ブロックであって、
   前記幅方向において、前記第一接続片の突出量と前記第二接続片の突出量とが等しくなるように構成されたことを特徴とする、流路ブロック。
10. 請求項９に記載の流路ブロックであって、
    前記第一接続片と前記第二接続片とを前記配列方向に隣接配置した状態で、２つの前記第１接続片の間の空間に前記第二接続片が収容されるように構成されたことを特徴とする、流路ブロック。
11. 請求項１〜４、７、８のうちのいずれか１項に記載の流路ブロックであって、
    複数の前記流体制御機器の各々を着脱自在に装着可能に、複数の前記流体制御機器の各々に対応して、一対の雌螺子部がそれぞれ設けられ、
    前記第一流路と前記雌螺子部とが、前記配列方向に沿って略一直線状に配置されたことを特徴とする、流路ブロック。
12. 請求項１１に記載の流路ブロックであって、
    複数の前記流体制御機器は、当該流路ブロックにおける一表面である上側表面側に集約して装着され、
    前記雌螺子部は、前記上側表面にて開口する非貫通穴として形成され、
    前記第一流路は、前記非貫通穴における深さ方向に前記雌螺子部を迂回するように形成されたことを特徴とする、流路ブロック。
13. 複数の流体制御機器と、
    流体の流路が内部に形成されていて、複数の前記流体制御機器を所定の配列方向に配列しつつ装着することでこれらの流体制御機器を前記流路によって互いに接続可能に構成された、流路ブロックと、
    を備えた、流体供給制御装置であって、
    前記流路ブロックは、
    前記配列方向に配列された複数の前記流体制御機器の組について分離不能に一体的に形成されていて、
    前記組を構成する複数の前記流体制御機器を互いに接続するように前記配列方向に沿って設けられた前記流路としての第一流路と、前記配列方向と直交する幅方向に沿って設けられた前記流路としての第二流路と、を有し、
    ２つの当該流路ブロックを前記幅方向に並列に隣接配置した状態で、両者の前記第二流路同士を接続可能に形成された、接続部を備えた
    ことを特徴とする、流体供給制御装置。
14. 請求項１３に記載の流体供給制御装置であって、
    複数の前記流体制御機器には、
    前記流体の通流と遮断とを切換可能に構成された、流体制御弁と、
    前記流体の通流量を制御するように構成された、流量制御器と、
    が含まれ、
    ２つの前記流体制御弁のアクチュエータが、共通の取付ブロックを介して前記流路ブロックに装着されたことを特徴とする、流体供給制御装置。
15. 請求項１４に記載の流体供給制御装置であって、
    前記取付ブロックの内部には、第１流体が流入する第１入口流路と、前記第１流体が流出する第１出口流路と、前記第１入口流路及び前記第１出口流路に連通している第１弁室と、第２流体が流入する第２入口流路と、前記第２流体が流出する第２出口流路と、前記第２入口流路及び前記第２出口流路に連通している第２弁室と、が形成されており、
    一方の前記流体制御弁の弁体は、前記第１弁室と前記第１出口流路とを連通及び遮断するように駆動され、他方の前記流体制御弁の弁体は、前記第２弁室と前記第２出口流路とを連通及び遮断するように駆動され、前記第１出口流路と前記第２出口流路とが連通していることを特徴とする、流体供給制御装置。
16. 請求項１４に記載の流体供給制御装置であって、
    前記配列方向と直交する方向において、前記取付ブロックの幅は、前記流体制御弁の幅と略同一となるように形成されたことを特徴とする、流体供給制御装置。
17. 請求項１４に記載の流体供給制御装置であって、
    前記流体制御弁は、
    操作流体の圧力によってピストンを摺動させ、弁体を弁座に当接または離間させること、
    前記ピストンとしての第１ピストン及び第２ピストンを同軸上に有すること、
    前記第１ピストンには、前記弁体を前記弁座に当接させる方向に付勢する１つの第１圧縮バネが同軸上に取り付けられていること、
    前記第２ピストンには、前記弁体を前記弁座に当接させる方向に付勢する１つの第２圧縮バネが同軸上に取り付けられていること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
18. 請求項１７に記載の流体供給制御装置において、
    前記第１ピストン及び前記第２ピストンは、同一形状のものであること、
    前記第１圧縮バネ及び前記第２圧縮バネは、同一形状のものであること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
19. 請求項１７に記載の流体供給制御装置において、
    前記第１圧縮バネによる付勢力と、前記第２圧縮バネによる付勢力とが、前記弁体を前記弁座に当接させる力として作用すること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
20. 請求項１７乃至請求項１９のいずれか１つに記載の流体供給制御装置において、
    チューブ形状の外装部材を有すること、
    前記外装部材の一端にキャップが取り付けられ、前記外装部材の他端にアダプタが取り付けられていること、
    前記外装部材の内部に、円筒状の第１内装部品及び円筒状の第２内装部品が装填されていること、
    前記第１内装部品及び前記第２内装部品は、前記外装部材の内部において重ね合わされた状態で固定されていること、
    前記第１圧縮バネの一端が前記第１ピストンに当接し、前記第１圧縮バネの他端が前記第２内装部品に当接していること、
    前記第２圧縮バネの一端が前記第２ピストンに当接し、前記第２圧縮バネの他端が前記キャップに当接していること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
21. 請求項２０に記載の流体供給制御装置において、
    前記キャップには、前記操作流体の給排気ポートが形成されていること、
    前記第１ピストン及び前記第２ピストンの内部には、前記操作流体の流路がそれぞれ形成されていること、
    前記給排気ポートは、前記流路を介して、前記第２ピストンに前記操作流体の圧力を作用させる加圧室及び前記第１ピストンに前記操作流体の圧力を作用させる加圧室と連通していること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
22. 請求項２０に記載の流体供給制御装置において、
    前記第１ピストン及び前記第２ピストンには、それぞれ凹部が形成されていること、
    一端側に前記弁体が取り付けられ、他端が前記第１ピストンの凹部に配置されたステムを有すること、
    前記第２ピストンの凹部には、前記第１ピストンの一端が配置されていること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
23. 請求項１４に記載の流体供給制御装置であって、
    前記流体制御弁は、
    操作流体の圧力によってピストンを摺動させ、弁体を弁座に当接または離間させること、
    前記ピストンを同軸上に４つ以上有すること、
    前記ピストンには、前記弁体を前記弁座に当接させる方向に付勢する圧縮バネが同軸上にそれぞれ取り付けられていること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
24. 請求項２３に記載の流体供給制御装置において、
    前記圧縮バネによる付勢力の総和が、前記弁体を前記弁座に当接させる力となること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
25. 請求項１７、１８、１９、２３、２４のいずれか１つに記載の流体供給制御装置において、
    前記弁座が形成されるボディの上部には、ホルダが固定され、
    前記弁体と前記ホルダの間には、ベローズが配置されていること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
26. 請求項１７、１８、１９、２３、２４のいずれか１つに記載の流体供給制御装置において、
    前記弁座が形成されるボディの上部には、ホルダが溶接により固定されていること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
27. 請求項２６に記載の流体供給制御装置において、
    前記ピストンを備えるアクチュエータ部は、前記ホルダから着脱可能であること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
28. 請求項１７、１８、１９、２３、２４のいずれか１つに記載の流体供給制御装置において、
    チューブ形状の外装部材を有すること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。
29. 請求項２８に記載の流体供給制御装置において、
    前記外装部材の先端に取り付けられたキャップの上面にワンタッチ継手を有すること、
    を特徴とする、流体供給制御装置。

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