JP6319553B2 - 抵抗変化素子 - Google Patents
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Description
本発明の別の視点においては、抵抗変化素子において、第1電極及び第2電極と、酸素及び第1金属を含む抵抗変化層と、前記第2電極と前記抵抗変化層との間に配されるとともに、酸素及び前記第1金属とは異なる第2金属を含み、かつ、比抵抗が100μΩ・cmより大きくかつ1000μΩ・cm以下である抵抗層と、前記第1電極と前記抵抗変化層との間に配されるとともに、前記抵抗層から前記抵抗変化層へ供給される酸素の前記第1電極への拡散を妨げる特性を有する拡散防止層と、を備えることを特徴とする。
本発明の一視点においては、抵抗変化素子において、第1電極及び第2電極と、酸素及び第1金属を含む抵抗変化層と、前記第2電極と前記抵抗変化層との間に配されるとともに、酸素及び前記第1金属とは異なる第2金属を含み、かつ、比抵抗が1000μΩ・cm以下である抵抗層と、前記第1電極と前記抵抗変化層との間に配されるとともに、前記抵抗層から前記抵抗変化層へ供給される酸素の前記第1電極への拡散を妨げる特性を有する拡散防止層と、を備えることを特徴とする。
1a 溝
2 絶縁膜
3 ゲート絶縁膜
4 ワード線
5 サイドウォール絶縁膜
6a、6b 拡散領域
7 層間絶縁膜
8 コンタクトプラグ
9 ソース線
10 層間絶縁膜
11 コンタクトプラグ(下部電極、第1電極)
12 拡散防止層
13 抵抗変化層
14 抵抗層
15 上部電極(第2電極)
16 層間絶縁膜
17 コンタクトプラグ
18 ビット線
19 MOSトランジスタ
20 半導体記憶装置
21 抵抗変化素子
30 メモリセルアレイ
31 ロウデコーダ
32 センスアンプ
33 ライトアンプ
34 判定レジスタ
35 データレジスタ
36 カラムデコーダ
37 ロウアドレスバッファ
38 アレイコントロール回路
39 フェーズカウンタ
40 制御ロジック回路
41 コマンドレジスタ
42 ステータスレジスタ
43 コマンドディテクタ
44 I/Oコントロール回路
45 カラムアドレスバッファ
46 アドレスレジスタ
47 トランジスタ
WL、WL0〜WL5 ワード線
BL、BL0〜BL2 ビット線
MC メモリセル
Claims (4)
- 第1電極及び第2電極と、
酸素及び第1金属を含む抵抗変化層と、
前記第2電極と前記抵抗変化層との間に配されるとともに、酸素及び前記第1金属とは異なる第2金属を含み、かつ、比抵抗が100μΩ・cmより大きくかつ1000μΩ・cm以下である抵抗層と、
前記第1電極と前記抵抗変化層との間に配されるとともに、前記抵抗層から前記抵抗変化層へ供給される酸素の前記第1電極への拡散を妨げる特性を有する拡散防止層と、
を備えることを特徴とする抵抗変化素子。 - 前記拡散防止層は、前記第1電極の材料よりも共有結合性が強い窒化膜、又は、酸化膜若しくは酸窒化膜であることを特徴とする請求項1記載の抵抗変化素子。
- 前記拡散防止層は、Si3N4、AlN、BN、SiO2、Al2O3、SiON、AlON、SiAlONのいずれか1つ以上の材料よりなることを特徴とする請求項2記載の抵抗変化素子。
- 前記抵抗層は、前記抵抗変化層に対して酸素配給源として機能する金属酸化膜であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の抵抗変化素子。
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