JP6312899B2 - 発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム - Google Patents
発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6312899B2 JP6312899B2 JP2017085863A JP2017085863A JP6312899B2 JP 6312899 B2 JP6312899 B2 JP 6312899B2 JP 2017085863 A JP2017085863 A JP 2017085863A JP 2017085863 A JP2017085863 A JP 2017085863A JP 6312899 B2 JP6312899 B2 JP 6312899B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- layer
- emitting device
- electrode patterns
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 118
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 311
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 112
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 57
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 47
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 47
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 45
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 44
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 description 34
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 12
- SWPMTVXRLXPNDP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,6,6-trimethylcyclohexene-1-carbaldehyde Chemical compound CC1=C(C=O)C(C)(C)CC(O)C1 SWPMTVXRLXPNDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 11
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 10
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 10
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910016525 CuMo Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 229960001296 zinc oxide Drugs 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- -1 AZO Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015363 Au—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002668 Pd-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019897 RuOx Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical compound [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N aluminum gallium Chemical compound [Al].[Ga] RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc Chemical compound [Al].[Zn] FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- YZZNJYQZJKSEER-UHFFFAOYSA-N gallium tin Chemical compound [Ga].[Sn] YZZNJYQZJKSEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- HRHKULZDDYWVBE-UHFFFAOYSA-N indium;oxozinc;tin Chemical compound [In].[Sn].[Zn]=O HRHKULZDDYWVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L iron(ii) gluconate Chemical compound [Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/64—Heat extraction or cooling elements
- H01L33/642—Heat extraction or cooling elements characterized by the shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/3201—Structure
- H01L2224/32012—Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad
- H01L2224/32013—Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad the layer connector being larger than the bonding area, e.g. bond pad
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12032—Schottky diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/64—Heat extraction or cooling elements
- H01L33/644—Heat extraction or cooling elements in intimate contact or integrated with parts of the device other than the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/64—Heat extraction or cooling elements
- H01L33/647—Heat extraction or cooling elements the elements conducting electric current to or from the semiconductor body
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
Description
。
Emitting Diode)やレーザーダイオードなどの発光素子は、薄膜成長技
術及び素子材料の開発によって赤色、緑色、青色及び紫外線などの多様な色を具現するこ
とができ、蛍光物質を用いたり、色を組み合わせることによって効率の良い白色光線も具
現可能であり、蛍光灯及び白熱灯などの既存の光源に比べて低消費電力、半永久的な寿命
、速い応答速度、安全性、環境親和性などの長所を有する。
Display)表示装置のバックライトを構成する冷陰極管(Cold Cathod
e Fluorescence Lamp:CCFL)に取って代わる発光ダイオードバ
ックライト、蛍光灯や白熱電球に取って代わる白色発光ダイオード照明装置、自動車ヘッ
ドライト及び信号灯にまで応用が拡大されている。
ージ本体の底面に発光素子が配置され、第1の電極及び第2の電極と電気的に連結される
。
線反射光がパッケージ本体に接すると、本体に含まれた有機材質が変色又は変質し、パッ
ケージの信頼性が低下するという問題が存在する。したがって、優れた放熱特性を維持し
ながらも発光素子パッケージの信頼性を向上させる必要がある。
0が配置される。パッケージ本体110の下部には放熱部180を配置できるが、放熱部
180と発光素子130は導電性接着層120で固定することができる。
発光素子パッケージ100で発光素子130から熱を放出することができ、パッケージ本
体110と放熱部180との間の材料の差によって生じる熱膨張係数の差により、放熱部
の平坦度が低下し得る。
平らでなく凸凹になり、発光素子130が傾斜して配置されるので、発光素子パッケージ
100の光出射角が傾斜し得る。また、発光素子パッケージ100の下側方向で放熱部1
80が凸凹になると、回路基板などに実装されるときに発光素子パッケージが傾斜し得る
。
むパッケージ本体と、前記キャビティ内に位置する発光素子と、前記パッケージ本体内に
挿入され、前記発光素子の下部に位置する放熱部と、前記放熱部の周囲に位置し、ワイヤ
ボンディングによって前記発光素子と電気的に連結される第2の電極パターンとを備え、
前記第2の電極パターンは、ワイヤがボンディングされる第1の領域と、前記第1の領域
と連結された第2の領域とを有し、前記第1の領域の幅と前記第2の領域の幅が互いに異
なる。
含み、前記拡張パターンは、前記パッケージ本体をなす複数の層のうち少なくとも一つの
層を貫通する少なくとも一つのビアホールと電気的に連結することができる。
することができる。
と垂直方向に重畳することができる。
れて形成され、少なくとも一部は前記キャビティの壁部の下側に位置し得る。
それぞれに対応するように複数配置することができる。
らに備えることができる。
る複数の縁部領域とを有し、隣接した各縁部領域間で前記パッケージ本体が露出し得る。
前記第1の電極パターンとを電気的に連結することができる。
、製造工程で熱による変形が最小化され、光出射角の均衡をなし、発光素子パッケージの
信頼性を向上させることができる。
ッケージの作製工程を簡素化することができる。
性及び耐久性が強く、電極間の短絡の可能性も減少し、UVなどの短い波長帯域での光の
全反射率が相対的に低い金めっきされた電極の面積が減少し、相対的にUV光の全反射率
が高いセラミック層の露出面積が増加するので、光抽出効率が向上し、露出したセラミッ
ク基板とモールディング部内のシリコーン樹脂などとの結合力がより大きいので、構造物
の安定性を向上させることができる。
に機械的に連結するので、環境汚染の心配がなくて環境にやさしく、電線連結不良の発生
が最小化され、光源モジュールの信頼性を向上させることができる。
ダーに拡散部材を締結することによって光源モジュールの構造を簡素化し、拡散部材の付
着不良発生を最小化することができる。
されると記載される場合、「上」又は「下」は、二つの要素が直接接触したり、一つ以上
の他の要素が前記二つの要素間に配置されて形成されることを全て含む。また、「上又は
下」と表現される場合、一つの要素を基準にして上側方向のみならず、下側方向の意味も
含むことができる。
、又は概略的に示した。また、各構成要素の大きさは、実際の大きさを全的に反映するも
のではない。
の発光素子パッケージに含まれる放熱部のみを分離して示した図である。
放熱部220、及び発光素子230を備えることができる。
の層211、第2の層212、第3の層213、及び第4の層214を有する場合を示し
たが、前記本体210は、より多い層又はより少ない層で具現することもできる。また、
前記本体210は、単一層で具現することもできる。
化物の絶縁性物質で具現することができる。また、前記本体210は複数のセラミック層
を含むことができる。例えば、前記本体210は、低温同時焼成セラミック(LTCC:
low temperature co―fired ceramic)方法によって具
現することができる。また、前記本体210は、高温同時焼成セラミック(HTCC:h
igh temperature co―fired ceramic)方法によって具
現することができる。前記本体210の材質は、SiO2、SixOy、Si3N4、S
ixNy、SiOxNy、Al2O3、又はAlNであり得る。例えば、前記本体210
はAlNで形成したり、熱伝導度が140W/mK以上の金属窒化物で具現することがで
きる。
少なくとも一つが異なる厚さであってもよい。前記本体210の各層211、212、2
13、214は、製造工程で区別される個別層であってもよく、焼成完了後に一体に形成
されてもよい。
ンを介して前記発光素子230に電源を提供することができる。また、前記発光素子23
0に印加される電源は、前記本体210に形成可能なビアホール構造を介して提供するこ
ともできる。
は反射物質を提供することができる。前記本体210は、前記発光素子230から発光さ
れる光を反射させて外部に抽出することができる。
230が位置し得る。前記キャビティの側壁は傾斜面からなり得る。
ディング部240は、外部から流入する異物及び水分などを遮断することによって前記発
光素子230を保護することができる。また、前記モールディング部240は、蛍光物質
を含むことができ、前記発光素子230から発光される光を受け、波長変換された光を提
供することもできる。
ホールには前記放熱部220を配置することができる。本実施例によって前記本体210
にキャビティが形成された場合、前記キャビティの底面に貫通ホールを提供することがで
きる。前記発光素子230を前記放熱部220上に配置することができ、前記発光素子2
30は前記放熱部220に接触することができる。前記放熱部220は、前記発光素子2
30から発生する熱を効率的に外部に伝達できるようになる。前記放熱部220は外部に
露出することができる。前記放熱部220は、銅(Cu)を含む合金層221と、前記合
金層221の下側に配置された銅(Cu)層222とを含むことができる。前記銅を含む
合金層221の水平断面積は、前記銅層222の水平断面積より小さく具現することがで
きる。
21と、前記合金層221の下側に配置された銅層222とを有することができる。また
、本実施例によると、前記放熱部220は、図4に示したように、CuMoを含む合金層
221と、前記合金層221の下側に配置された銅層222とを有することができる。前
記合金層221はW及びMoのうち少なくとも一つの元素を含むことができる。
した。銅層の場合、加工性に劣るが、熱伝達に非常に良い特性を示す。しかし、銅層の熱
膨張係数は大きく、前記発光素子230の熱膨張係数と比べるとその差が大きい。これに
よって、温度の上昇及び下降によって前記発光素子230に熱膨張及び収縮によるストレ
スが伝達され、前記発光素子230に損傷が発生し得る。このような問題を解決するため
に、本実施例では、前記放熱部220を具現するにおいて、下部に銅層222を配置し、
前記銅層222上に銅を含む合金層221を配置した。これによって、前記発光素子23
0は、前記銅層222に直接接触するのではなく前記合金層221に接触するようになる
。本実施例では、前記合金層221の例としてCuW合金層とCuMo合金層を提示し、
前記CuW合金層とCuMo合金層は、前記発光素子230と熱膨張係数が類似するので
、前記発光素子230が温度の上昇及び下降によって損傷することを防止できるようにな
る。前記合金層221は、W、Moのうち少なくとも一つの物質を含むことができる。前
記合金層221はCuW、CuMo、CuWMo層などを含むことができる。
放熱部220の上面が上側に突出することを防止できるようになる。これによって、前記
放熱部220上に配置される前記発光素子230を安定的に位置できるようになる。
る。
射電極50を有することができる。
導体層13を有することができる。前記第1の導電型半導体層11の上部表面に凹凸17
を提供することができる。
ントが添加されたn型半導体層に形成し、前記第2の導電型半導体層13は、第2の導電
型ドーパントとしてp型ドーパントが添加されたp型半導体層に形成することができる。
また、前記第1の導電型半導体層11はp型半導体層に形成し、前記第2の導電型半導体
層13はn型半導体層に形成することもできる。
1の導電型半導体層11は、InxAlyGa1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦1、
0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体材料で具現することができる。前記第1の導電
型半導体層11は、例えば、GaN、AlN、AlGaN、InGaN、InN、InA
lGaN、AlInN、AlGaAs、GaP、GaAs、GaAsP、AlGaInP
などから選択することができ、これにはSi、Ge、Sn、Se、Teなどのn型ドーパ
ントをドーピングすることができる。
)と前記第2の導電型半導体層13を介して注入される正孔(又は電子)とが互いに会い
、前記活性層12の形成物質によるエネルギーバンドのバンドギャップの差によって光を
放出する層である。前記活性層12は、単一量子井戸構造、多重量子井戸構造(MQW:
Multi Quantum Well)、量子点構造又は量子線構造のうちいずれか一
つで形成できるが、これに限定されることはない。
、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体材料で具現することができる。前記活性層1
2が前記多重量子井戸構造で具現された場合、前記活性層12は、複数の井戸層と複数の
障壁層を積層して具現することができ、例えば、InGaN井戸層/GaN障壁層の周期
で具現することができる。
記第2の導電型半導体層13は、InxAlyGa1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦
1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体材料で具現することができる。前記第2の
導電型半導体層13は、例えば、GaN、AlN、AlGaN、InGaN、InN、I
nAlGaN、AlInN、AlGaAs、GaP、GaAs、GaAsP、AlGaI
nPなどから選択することができ、これにはMg、Zn、Ca、Sr、Baなどのp型ド
ーパントをドーピングすることができる。
層13がn型半導体層を含むこともできる。また、前記第2の導電型半導体層13の下側
にはn型又はp型半導体層を含む半導体層をさらに形成することもできる。これによって
、前記発光構造物10は、np、pn、npn、pnp接合構造のうち少なくともいずれ
か一つを有することができる。また、前記第1の導電型半導体層11及び前記第2の導電
型半導体層13内の不純物のドーピング濃度は、均一又は不均一であり得る。すなわち、
前記発光構造物10の構造は多様に形成することができ、これに対して限定することはな
い。
GaN/GaNスーパーラティス構造又はInGaN/InGaNスーパーラティス構造
を形成することもできる。また、前記第2の導電型半導体層13と前記活性層12との間
には第2の導電型のAlGaN層を形成することもできる。
第1の導電型半導体層11がGaN層である場合、成長方向及びエッチング方向を考慮す
ると、前記凹凸17が形成された面はN面であり得る。
ができる。前記発光構造物10上に前記電極20を配置することができる。前記電極20
と前記反射電極50は前記発光構造物10に電源を提供することができる。前記オーミッ
ク接触層40は、前記発光構造物10とオーミック接触するように形成することができる
。また、前記反射電極50は、前記発光構造物10から入射する光を反射させ、外部に抽
出される光量を増加させる機能をすることができる。
前記オーミック接触層40は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、
IZO(Indium Zinc Oxide)、AZO(Aluminum Zinc
Oxide)、AGZO(Aluminum Gallium Zinc Oxide
)、IZTO(Indium Zinc Tin Oxide)、IAZO(Indiu
m Aluminum Zinc Oxide)、IGZO(Indium Galli
um Zinc Oxide)、IGTO(Indium Gallium Tin O
xide)、ATO(Antimony Tin Oxide)、GZO(Galliu
m Zinc Oxide)、IZON(IZO Nitride)、ZnO、IrOx
、RuOx、NiOから選択された少なくとも一つの物質で形成することができる。
記反射電極50は、Ag、Ni、Al、Rh、Pd、Ir、Ru、Mg、Zn、Pt、C
u、Au、Hfのうち少なくとも一つを含む金属又は合金で形成することができる。また
、前記反射電極50は、前記金属又は合金と、ITO(Indium―Tin―Oxid
e)、IZO(Indium―Zinc―Oxide)、IZTO(Indium―Zi
nc―Tin―Oxide)、IAZO(Indium―Aluminum―Zinc―
Oxide)、IGZO(Indium―Gallium―Zinc―Oxide)、I
GTO(Indium―Gallium―Tin―Oxide)、AZO(Alumin
um―Zinc―Oxide)、ATO(Antimony―Tin―Oxide)など
の透光性伝導性物質を用いて多層に形成することができる。例えば、一実施例において、
前記反射電極50は、Ag、Al、Ag―Pd―Cu合金、又はAg―Cu合金のうち少
なくともいずれか一つを含むことができる。
rent Blocking Layer)30を配置することができる。前記電流遮断
層30は、前記電極20と垂直方向に少なくとも一部が重畳する領域に形成することがで
き、これによって、前記電極20と前記反射電極50との間の最短距離で電流が集中する
現象を緩和し、実施例に係る発光素子の発光効率を向上させることができる。
触を形成する材質を用いて形成することができる。前記電流遮断層30は、酸化物、窒化
物又は金属で形成することができる。前記電流遮断層30は、例えば、SiO2、SiO
x、SiOxNy、Si3N4、Al2O3、TiOx、Ti、Al、Crのうち少なく
とも一つを含むことができる。
、前記オーミック接触層40は、前記発光構造物10の下側の第2の領域及び前記電流遮
断層30の下側に配置することができる。前記オーミック接触層40は、前記発光構造物
10と前記反射電極50との間に配置することができる。また、前記オーミック接触層4
0は、前記電流遮断層30と前記反射電極50との間に配置することができる。
らに配置することができる。前記アイソレーション層80は、前記発光構造物10の下部
周囲及び前記オーミック接触層40上に配置することができる。前記アイソレーション層
80は、例えば、電気絶縁性を有する材質又は前記発光構造物10に比べて低い電気伝導
性を有する材質で形成することができる。前記アイソレーション層80は、例えば、酸化
物又は窒化物で具現することができる。例えば、前記アイソレーション層80は、SiO
2、SixOy、Si3N4、SixNy、SiOxNy、Al2O3、TiO2、IT
O、AZO、ZnOなどからなる群から少なくとも一つを選択して形成することができる
。前記アイソレーション層80は、前記電流遮断層30と同じ物質で形成することができ
、又は、互いに異なる物質で形成することもできる。前記アイソレーション層80はチャ
ンネル層と称することもできる。
配置することができる。
層60に含まれた物質が前記反射電極50方向に拡散されることを防止する機能をするこ
とができる。前記拡散障壁層55は、前記ボンディング層60に含まれたスズ(Sn)な
どの物質が前記反射電極50などに影響を及ぼすことを防止することができる。前記拡散
障壁層55は、Cu、Ni、Ti―W、W、Pt物質のうち少なくとも一つを含むことが
できる。
i、Au、Sn、Ni、Cr、Ga、In、Bi、Cu、Ag又はTaのうち少なくとも
一つを含むことができる。前記支持部材70は、実施例に係る発光素子を支持し、外部電
極と電気的に連結され、前記発光構造物10に電源を提供することができる。前記支持部
材70は、例えば、Ti、Cr、Ni、Al、Pt、Au、W、Cu、Mo、Cu―W又
は不純物が注入された半導体基板(例:Si、Ge、GaN、GaAs、ZnO、SiC
、SiGeなど)のうち少なくともいずれか一つで形成することができる。また、前記支
持部材70は絶縁物質で形成することもできる。
は酸化物又は窒化物で具現することができる。前記保護層90は、例えば、SiO2、S
iOx、SiOxNy、Si3N4、Al2O3などの透光性及び絶縁性を有する材質で
形成することができる。前記保護層90は、前記発光構造物10の側面に提供することが
できる。また、前記保護層90は、前記発光構造物10の側面のみならず、上部にも設け
ることができる。
0の下部に反射電極50が配置された垂直型構造の発光素子を基準にして説明した。しか
し、本実施例に係る発光素子は、前記発光構造物10をなす第1の導電型半導体層11に
電気的に連結された第1の電極、及び前記発光構造物10をなす第2の導電型半導体層1
3に電気的に連結された第2の電極の位置及び形状は多様に変形可能である。また、本実
施例に係る発光素子は、第1の電極及び第2の電極が同一方向に露出した水平型構造の発
光素子にも適用することができる。
重複する内容は再び説明しない。
220、及び発光素子230を備えることができる。
1、第2の層212、第3の層213、及び第4の層214を有する場合を示したが、前記本体210
は、より多くの層又はより少ない層に具現することもできる。また、前記本体210は単一
層に具現することもできる。
縁性物質で具現することができる。また、前記本体210は複数のセラミック層を含むこと
ができる。例えば、前記本体210は、低温同時焼成セラミック(LTCC:low te
mperature co―fired ceramic)方法によって具現することが
できる。また、前記本体210は、高温同時焼成セラミック(HTCC:high tem
perature co―fired ceramic)方法によって具現することがで
きる。前記本体210の材質は、SiO2、SixOy、Si3N4、SixNy、SiO
xNy、Al2O3、又はAlNであり得る。例えば、前記本体210は、AlNで形成し
たり、熱伝導度が140W/mK以上の金属窒化物で具現することができる。
が異なる厚さであってもよい。前記本体210の各層211、212、213、214は、製造工程で区
別される個別層であってもよく、焼成完了後に一体に形成されてもよい。
を介して前記発光素子230に電源を提供することができる。また、前記発光素子230
に印加される電源は、前記本体210に形成可能なビアホール構造を介して提供することも
できる。
物質を提供することができる。前記本体210は、前記発光素子230から発光される光を
反射させて外部に抽出することができる。
は前記放熱部220を配置することができる。前記発光素子230は前記放熱部220上
に配置することができる。前記発光素子230は、前記放熱部220に接触することがで
きる。前記放熱部220により、前記発光素子230で発生する熱を効率的に外部に伝達
できるようになる。前記放熱部220は外部に露出することができる。
置された銅(Cu)層222とを有することができる。前記銅を含む合金層221の水平
断面積は、前記銅層222の水平断面積より小さく具現することができる。
した。銅層の場合、加工性に劣るが、熱伝達が非常に良い特性を示す。しかし、銅層は、
熱膨張係数が大きいので、前記発光素子230の熱膨張係数に比べるとその差が大きい。
これによって、温度の上昇及び下降によって前記発光素子230に熱膨張及び収縮による
ストレスが伝達され、前記発光素子230に損傷が発生し得る。このような問題を解決す
るために、本実施例では、前記放熱部220を具現するにおいて、下部に銅層222を配
置し、前記銅層222上に銅を含む合金層221を配置した。これによって、前記発光素
子230は、前記銅層222に直接接触するのではなく、前記合金層221に接触するよ
うになる。本実施例では、前記合金層221の例としてCuW合金層とCuMo合金層を
提示し、前記CuW合金層とCuMo合金層は、前記発光素子230と熱膨張係数が類似
するので、前記発光素子230が温度の上昇及び下降によって損傷することを防止できる
ようになる。前記合金層221は、W、Moのうち少なくとも一つの物質を含むことがで
きる。前記合金層221はCuW、CuMo、CuWMo層などを含むことができる。
放熱部220の上面が上側に突出することを防止できるようになる。これによって、前記
放熱部220上に配置される前記発光素子230を安定的に位置できるようになる。
と重複する内容は再び説明しない。
放熱部220、及び発光素子230を備えることができる。
の層211、第2の層212、第3の層213、第4の層214、及び第5の層215を
含む場合を示したが、前記本体210はより多くの層又はより少ない層に具現することも
できる。また、前記本体210は単一層に具現することもできる。
物の絶縁性物質で具現することができる。また、前記本体210は複数のセラミック層を
含むことができる。前記本体210はグリーンシート(green sheet)を含む
ことができる。例えば、前記本体210は、低温同時焼成セラミック(LTCC:low
temperature co―fired ceramic)方法によって具現する
ことができる。また、前記本体210は、高温同時焼成セラミック(HTCC:high
temperature co―fired ceramic)方法によって具現する
ことができる。前記本体210の材質は、SiO2、SixOy、Si3N4、SixN
y、SiOxNy、Al2O3、又はAlNであり得る。例えば、前記本体210は、A
lNで形成したり、熱伝導度が140W/mK以上の金属窒化物で具現することができる
。
は反射物質を設けることができる。前記本体210は、前記発光素子230から発光され
る光を反射させて外部に抽出することができる。前記本体210をなす前記第1の層21
1及び前記第2の層212は拡張層と称することもできる。前記拡張層は、前記放熱部2
30の周囲に積層して位置させることができる。前記本体210は前記拡張層によって形
成され、底及び内側面を有するキャビティを含むことができる。前記キャビティの内側面
は傾斜面を有することができる。前記第3の層213は支持層と称することもできる。前
記第3の層213は前記発光素子230を支持し、前記放熱部220が形成される工程で
支持役割をすることもできる。すなわち、前記第3の層213は、放熱部220が熱によ
って膨張して発光素子230方向に突出することを防止する突出防止層の役割をすること
ができる。
0を支持する支持部から上部方向に設けることができる。例えば、前記支持部は、前記放
熱部220に接した前記第5の層215であり得る。前記本体210のリセスには前記放
熱部220を配置することができる。前記発光素子230は前記放熱部220上に配置す
ることができる。前記発光素子230と前記放熱部220との間に前記第3の層213を
配置することができる。前記発光素子230で発生する熱が前記放熱部220によく伝達
できるように、前記第3の層213は薄い厚さで形成することができる。例えば、前記第
3の層213は40μm〜60μmの厚さで形成することができる。
るようになる。前記放熱部220は外部に露出することができる。前記放熱部220は、
銅(Cu)を含む合金層221と、前記合金層221の下側に配置された銅(Cu)層2
22とを有することができる。前記銅を含む合金層221の水平断面積は、前記銅層22
2の水平断面積より小さく具現することができる。
て、前記放熱部220の上面が上側に突出することを防止できるようになる。前記第3の
層213は、例えば、グリーンシートで形成することができ、上部表面を平坦に形成する
ことができる。これによって、前記発光素子230は共晶接合(eutectic bo
nding)などを通して前記第3の層213上に配置することができる。
、微粉(fine powder)、ペーストなどの形態で充填した後、焼成工程を通し
て形成することもできる。これによって、前記放熱部220上に配置される前記発光素子
230を安定的に位置できるようになる。また、前記放熱部220の下部に別途の薄膜、
例えば、40μm〜60μmの厚さを有するグリーンシートを配置することができる。
と重複する内容は再び説明しない。
20、及び発光素子230を備えることができる。
物質を設けることができる。前記本体210は、前記発光素子230から発光される光を反
射させて外部に抽出することができる。前記本体210をなす前記第1の層211及び前記第2
の層212は拡張層と称することもできる。前記拡張層は、前記放熱部230の周囲に積層
して位置させることができる。前記本体210は、前記拡張層によって形成され、底及び内
側面を有するキャビティを含むことができる。前記キャビティの内側面は階段状を有する
ことができる。前記第3の層213は支持層と称することもできる。前記第3の層213は、前
記発光素子230を支持し、前記放熱部220が形成される工程で支持役割をすることも
できる。
路パターンを形成する方法の一実施例を示した図である。上述した各実施例と重複する内
容は再び説明しない。
部220、及び発光素子230を備えることができる。
。貫通ホールの内側面と、前記内側面と接する放熱部220の外側面とにパターンを形成
して接触面積を広げることによって、放熱効果を増大させることができる。
状に対して制限することはない。
グリーンシート280を作製する。このように作製された複数のグリーンシートのそれぞ
れ281〜284に、本体210全体を考慮して、正確な位置にビアホール290を形成
し、前記ビアホール290と連結される電極パターン294を形成する。このとき、電極
パターン294を形成した後、ビアホール290を形成することもできる。そして、ビア
ホール290の内部に電極物質を充填することによって貫通電極292を形成する。電極
物質は、ビアホール290の内壁のみに充填したり、ビアホール290全体に充填するこ
とができる。
基板の電極と連結されることによって、発光素子230に電流を供給することができる。
ができる。すなわち、放熱部220は、熱伝導性と共に電気伝導性を有する物質からなり
、本体210の電極パターンと電気的に連結され、導電性接着層250を介して発光素子
230が放熱部220にボンディングされるので、発光素子230と放熱部220は別途
のワイヤボンディングがなくても直接通電することができる。導電性接着層250は、例
えば、Agペースト又はAu―Snメタルであり得る。
例と重複する内容は再び説明しない。
部220、及び発光素子230を備えることができる。
を有する。
あるので、放熱ブロック形態の放熱部220を本体210に挿入した後、同時―焼成加工
を経るか、発光素子パッケージの使用中に発光素子230で発生する熱によって放熱部2
20が膨張しながら、発光素子230が実装される放熱部220の上面が凸状に突出し得
る。
性に問題が発生し得る。したがって、発光素子230と放熱部220との間に突出防止層
260を位置させ、放熱部220の上面が発光素子230方向に突出することを防止する
ことができる。
成して本体210の一部をなすこともできる。
止層260とを電気的に連結することができる。
部に形成することもできる。
例と重複する内容は再び説明しない。
部220、及び発光素子230を備えることができる。
と、放熱部220の下部に位置する突出防止層270とを有する。
の全てに突出防止層を形成することができる。
一体に形成して本体210の一部をなすこともできる。
例と重複する内容は再び説明しない。
ミック層310a、310b、310c、310dからなる。パッケージ本体310は、
高温同時焼成セラミック(High Temperature Cofired Cer
amics、HTCC)又は低温同時焼成セラミック(Low Temperature
Cofired Ceramics、LTCC)技術を用いて具現することができる。
もよく、異なってもよい。パッケージ本体310は窒化物又は酸化物の絶縁性材質からな
り、例えば、SiO2、SixOy、Si3Ny、SiOxNy、Al2O3又はAlN
を含むことができる。
一部のセラミック層310a、310bは発光素子パッケージ300又はキャビティの底
面をなすことができ、他の一部のセラミック層310c、310dはキャビティの側壁を
なすことができる。
ティの底面に発光素子230が配置される。発光素子230は、本実施例では4個配置さ
れるが、少なくとも一つを配置することができる。
たLED(Light Emitting Diode)を含むが、発光素子は、青色、
緑色又は赤色などの光を放出する有色発光素子であるか、UVを放出するUV発光素子で
あり得る。
ているので、約280nm波長を有する深紫外線(Deep UV)LED又は約365
〜405nmの波長を有する近紫外線(Near UV)LEDを含む発光素子230を
使用するとしても、発光素子230から放出された紫外線光によって本体310が変色又
は変質するおそれがなく、発光モジュールの信頼性を維持することができる。
で、図14Aは、図13Aの一部分を詳細に示した図で、図14Bは、図13の発光素子
パッケージを対角線方向に切断して示した側断面図である。
3Aで4個の第1の電極パターン331、332、333、334と第2の電極パターン
341、342、343、344をそれぞれ配置することができる。上述した4個の第1
の電極パターン331、332、333、334は互いに同一の極性であり得るので、一
つのリードフレームに連結することができ、他の極性の4個の電極パターン331、33
2、333、334も互いに同一の極性であり得るので、他の一つのリードフレームに連
結することができる。
dが外郭に示され、キャビティの底面をなすセラミック層310bが中央に露出している
。図13Aの上面図で、図12で最も上側に配置されたセラミック層310dの幅cが最
も広く見え、2番目に上側に配置されたセラミック層310cの幅bはそれより狭く見え
、キャビティの底面をなすセラミック層310bは最も狭い幅aを示している。
41、342、343、344の配置は、キャビティの底面をなすセラミック層310b
の中央に対して対称をなすことができる。以下では、図14を参照して、電極パターン構
造の一部を詳細に説明する。
配置され、第2の電極パターン341、342、343、344がキャビティの底面の縁
部領域に配置されている。上述した第1の電極パターン331、332、333、334
と第2の電極パターン341、342、343、344の配置は互いに取り替えることが
できる。
た第2の電極パターン341の辺の幅が狭く配置された領域dにはセラミック層310b
が露出している。すなわち、第2の電極パターン341は最大パターンの幅と最小パター
ンの幅とが互いに異なり得るが、このような配置は、発光素子から放出された光がセラミ
ック層310bで反射される面積を増加させ、発光素子パッケージの光効率を向上させる
ことができる。
領域341―1と連結された第2の領域341―2とを有し、前記第1の領域341―1
の幅は前記第2の領域341―2の幅と異なり、第1の領域341―1の幅eがより広い
。第2の領域341―2の幅を第1の領域341―1の幅より狭く形成することによって
セラミック層310bを露出させ、光反射効率を向上させることができる。前記第1の領
域341―1は、発光素子230のワイヤボンディング時にワイヤ360がボンディング
される領域である。第2の電極パターン342、343、344に対しても同様である。
らなる第2の電極パターン341と透光層との結合力に比べて、セラミック層310bと
透光層内のシリコーン樹脂などとの結合力がより大きいので、発光素子パッケージの構造
内の安定性を増加させることができる。
部pに対応するパッケージ本体をなすセラミック層310bには上述したビアホールタイ
プの連結電極が配置され、第2の電極パターン341をリードフレームと連結できるので
、第2の電極パターン341の拡張パターンであり得る。上述した突出部p及び拡張パタ
ーンは、パッケージ本体に形成された貫通ホールと電気的に連結され、パッケージ本体の
下部のリードフレームなどと電気的に連結することができる。図14Bを参照すると、第
2の電極パターン341の拡張パターンである突出部pはキャビティの壁部方向に拡張さ
れて形成され、少なくとも一部は前記キャビティの壁部の下側に位置し得る。また、突出
部pと電気的に連結された貫通ホールも、前記キャビティの壁部と垂直方向に重畳するよ
うに配置することができる。貫通ホールが形成されたパッケージ本体上に電極パターンを
形成する場合、貫通ホールによって電極パターン部分が下側方向に凹状になり、信頼性に
影響を与えるおそれがあるので、貫通ホールと突出部pをキャビティの壁部の下側に形成
することによって信頼性の低下を防止することができる。
が狭く配置された領域dが形成されており、上述した第1の電極パターン331〜334
の辺の幅が狭く配置された領域dにはセラミック層310bが露出している。すなわち、
第1の電極パターン331〜334が狭く配置された領域により、セラミック層310b
から反射される面積を増加させ、発光素子パッケージの光効率を向上させることができる
。
ップ実装領域331―1の周囲に配置される複数の縁部領域331―2とを有し、隣接し
た各縁部領域331―2間でセラミック層310bが露出し、光反射効率を向上させるこ
とができる。第1の電極パターン332、333、334に対しても同様である。図13
Bには、一例として、各縁部領域331―2が前記チップ実装領域331―1のコーナー
に位置することを示している。
極パターンが狭く配置された領域dが形成されており、その効果は図13Bで説明した通
りである。
ップ実装領域331―1の周囲に配置される複数の縁部領域331―2とを有し、隣接し
た各縁部領域331―2間でセラミック層310bが露出し、光反射効率を向上させるこ
とができる。第1の電極パターン332、333、334に対しても同様である。図13
Bには、一例として、各縁部領域331―2が前記チップ実装領域331―1の辺に沿っ
て位置することを示している。
る構成は、それぞれ4個の第1の電極パターン331〜334や第2の電極パターン34
1〜344のうち一つ以上で具現することができる。
eが0.45mmであり得る。そして、第2の電極パターン341と第1の電極パターン
331との間の幅は0.1mmであり、第2の電極パターン341の縁部でより幅が広い
領域の幅gは0.45mmであり得る。
した各実施例と重複する内容は再び説明しない。
層410a、410b、410c、410d、410eからなる。パッケージ本体は、高
温同時焼成セラミック(High Temperature Cofired Cera
mics、HTCC)又は低温同時焼成セラミック(Low Temperature
Cofired Ceramics、LTCC)技術を用いて具現することができる。
、異なってもよい。パッケージ本体は窒化物又は酸化物の絶縁性材質からなり、例えば、
SiO2、SixOy、Si3Ny、SiOxNy、Al2O3又はAlNを含むことが
できる。
れ異なってもよく、一部のセラミック層410a、410b、410cは発光素子パッケ
ージ400又はキャビティの底面をなすことができ、他の一部のセラミック層410d、
410eはキャビティの側壁をなすことができる。
なるキャビティの底面に発光素子230が配置される。発光素子230は少なくとも一つ
配置することができる。発光素子230とワイヤ440を取り囲みながら、キャビティの
内部にモールディング部450が配置されるが、モールディング部450は、シリコーン
樹脂や蛍光体460を含むことができ、蛍光体460は、発光素子230から放出された
第1の波長領域の光をより長波長である第2の波長領域の光に変換することができる。例
えば、第1の波長領域が紫外線領域であると、第2の波長領域は可視光線領域であり得る
。
を有する深紫外線(Deep UV)LED又は約365〜395nmの波長を有する近
紫外線(Near UV)LEDを含む発光素子230を使用するとしても、発光素子2
30から放出された紫外線光によってパッケージ本体が変色又は変質するおそれがなく、
発光モジュールの信頼性を維持することができる。
ージ本体をなす複数のセラミック層410a、410b、410c、410d、410e
がキャビティをなすとき、キャビティの底面に配置されるセラミック層410cの表面に
発光素子230を配置することができる。
いる。放熱部480a、480bは、熱伝導性及び電気伝導性に優れた物質からなり、例
えば、銅(Cu)又は銅(Cu)を含む合金からなり得る。前記銅(Cu)を含む合金は
、W又はMoのうち少なくとも一つの物質を含んで構成することができ、例えば、CuW
、CuNo、CuWMoなどを含むことができる。放熱部480a、480bが電気伝導
性を有する物質からなり、発光素子230が導電性接着層445を介して放熱部480a
、480bに付着されるので、発光素子230と放熱部480a、480bは別途のワイ
ヤボンディングがなくても直接通電することができる。
aと同一であってもよく、パッケージ本体の底面に配置された層の幅Wcは、発光素子2
30の幅Waより広くなり得る。すなわち、放熱部480a、480bの幅は、発光素子
230と接触する方向よりも発光素子と反対方向でより広い。
光素子230の幅と同一であれば十分であり、発光素子230から遠ざかるほど放熱部4
80a、480bの幅が広くなり、熱放出効率を増加させることができる。そして、熱が
伝達される放熱部480a、480bの下側方向の面積が相対的に広いので、狭い面積で
熱が放出される場合に比べて熱膨張による放熱部480a、480bの膨張を減少させる
ことができる。
相対的に幅が狭い第1の部分と、発光素子230と反対方向に位置し、前記第1の部分よ
り幅が広い第2の部分とが互いに異なる物質からなることもある。すなわち、前記第1の
部分は銅(Cu)を含む合金層からなり、前記第2の部分は銅層からなり得る。前記銅を
含む合金層は、W又はMoのうち少なくとも一つの物質を含んで構成することができ、例
えば、CuW、CuNo、CuWMoなどを含むことができる。
張係数が大きいので、前記発光素子230の熱膨張係数に比べるとその差が大きい。これ
によって、温度の上昇及び下降によって前記発光素子230に熱膨張及び収縮によるスト
レスが伝達され、前記発光素子230に損傷が発生し得る。このような問題を解決するた
めに、一例として、前記放熱部480a、480bを具現するにおいて、下部の第2の部
分を銅層に形成し、上部の第1部分に銅を含む合金層を形成した。これによって、前記発
光素子230は、前記銅層に直接接触するのではなく、前記合金層に接触するようになる
。CuW合金層とCuMo合金層は、発光素子230と熱膨張係数が類似するので、発光
素子230が温度の上昇及び下降によって損傷することを防止できるようになる。
475cを介して互いに電気的に連結することができる。そして、放熱部480bは、セ
ラミック層410bに形成された電極層475bと電気的に連結され、電極層475bは
、導電性物質が充填された貫通ホール477aを介してセラミック層410aの下部の電
極パターン475aに連結することができる。
71dとワイヤ440でボンディングされている。そして、前記電極パターン471dは
、セラミック層410a、410b、410cにそれぞれ形成された導電性物質が充填さ
れた貫通ホール473a、473c、473dと電極パターン471b、471cを介し
てセラミック層410aの下部の電極パターン471aに連結することができる。上述し
た一対の電極パターン471a、475aは、電極パッドとして作用し、回路基板に電気
的に直接接触することができる。
配置できるが、それぞれの発光素子230と電気的に連結された電極パターン471d、
475dは、互いに同一の極性であるので電気的に連結することができる。
ーンシートは、パッケージ本体の最も下側のセラミック層410aと放熱部480a、4
80bを支持し、放熱部480a、480bの熱膨張を突出防止層490が密封して防止
することができる。
10aの下側に配置されている。そして、電極パターン471aは、セラミック層410
aに形成された導電性物質が充填された貫通ホール491aを介してグリーンシート49
0の下部の電極パッド492aに電気的に連結され、他の電極パターン475aは、セラ
ミック層410bに形成された導電性物質が充填された貫通ホール491bを介してグリ
ーンシート490の下部の他の電極パッド492bに電気的に連結することができる。
支持プレートであって、透光性の薄いフィルムであるか、セラミック層410aと同一の
材質からなり得る。
層410cの上側に配置されている。そして、発光素子230は、突出防止層495の表
面に配置された電極パターン471d、475dとワイヤ440でボンディングされ、電
極パターン471dは、突出防止層495内に形成された導電性物質が充填された貫通ホ
ール496aを介して電極パターン497aに電気的に連結され、複数の電極パターン4
71d、475dは互いに電気的に連結することができる。
パターン498と電気的に連結され、電極パターン498は放熱部480bと電気的に接
触し、放熱部480bは、電極パターン475b、475cと導電性物質が充填された貫
通ホール477a、477bを介してセラミック層410aの下部の電極パターン475
aに電気的に連結されている。そして、2個の放熱層480a、480bも互いに電気的
に連結することができる。
、熱による放熱部480a480bの膨張時に放熱部480a、480bの表面に凹凸が
生じることを防止することができる。そして、発光素子230に対応しない突出防止層4
95の部分は、共にパッケージ本体の高さ均衡を合わせることができる。
410fが位置し、前記セラミック層410f上に電極パターン471d、475dが位
置し得る。セラミック層410f〜410eとキャビティの底面は階段状を有する。モー
ルディング部は形成されなくてもよい。
である。
d)は4個の放熱部480a〜480dを示している。このような複数の放熱部の構成に
より、発光素子パッケージの製造工程で熱による放熱部の変形を最小化することができ、
その結果、発光素子や発光素子パッケージが傾斜しないようにし、光出射角の均衡をなす
ことができる。
0a、480bの上部の幅Wb、Wbより大きくなり得る。そして、各放熱部480a、
480bは距離Wdだけ離隔している。上述した距離Wdは、各放熱部480a、480
b間に配置されたセラミック層の幅であり得る。
配置されているが、4個の発光素子に対応して配置することができ、それぞれの放熱部4
80a、480b、480c、480d間の距離Wdは同一であり、パッケージ本体をな
すセラミック層が配置されている。4個の放熱部480a、480b、480c、480
dは互いに対称をなして配置されている。
容を適用することができ、重複する内容であるので、それについての説明は省略する。
た各実施例と重複する内容は再び説明しない。
形成された本体510と、前記貫通ホール510a内に配置される放熱部520と、前記
放熱部520上に配置されるサブマウント530と、前記サブマウント530上に配置さ
れる少なくとも一つの発光素子230とを備える。
10が多層のセラミック基板である場合、例えば、高温同時焼成セラミック(High
Temperature Cofired Ceramics、HTCC)又は低温同時
焼成セラミック(Low Temperature Cofired Ceramics
、LTCC)技術を用いて具現することができる。
なってもよく、これに制限することはない。
電気的に連結されることによって、発光素子230の駆動に必要な電流を供給することが
できる。
きる。図19に示したように、本体510の側壁512aは傾斜面を含んで構成すること
ができる。前記傾斜面は、発光素子230で発生した光を反射させ、オープン領域である
キャビティ512の上面に進行させることによって、光源モジュールの光抽出効率を向上
させることができる。
ィング、めっき又は蒸着することができる。
ク基板はキャビティを形成し易く、熱に強いという長所を有する。しかし、セラミック基
板は、メタル基板に比べて熱伝導性に劣るので、放熱特性を補償するためにメタルスラッ
グ(metal slug)からなる放熱部520を同時焼成(Co―fired)した
り、又はAgCuでボンディングして熱処理した後、結合又は挿入して使用することがで
きる。
される場合、前記キャビティ512の底面512bに貫通ホール510aを形成すること
ができる。前記貫通ホール510a内には放熱部520が挿入されて配置される。
22とにパターンを形成して接触面積を広げることによって、放熱効果を増大させること
ができる。
に対して制限することはない。
などのCuが含まれた合金、Cu単一金属、Mo、W又はAgのうち少なくとも一つを含
むことができる。
技術を用いて具現される場合、CuWを含む放熱部520を挿入して使用することが熱に
安定的であり、本体510がLTCC技術を用いて具現される場合、Agを含む放熱部5
20を結合又は挿入して使用することが熱に安定的であり得る。
基板又は絶縁性基板であり、例えば、Si、SiC又はAlNなどの熱伝導率と熱膨張係
数を考慮した物質を含むことができる。
して発光素子230を付着することができる。
放出されるので、サブマウント530は熱伝導性に優れた材質からなり得る。
が相対的に熱伝導率に劣る本体510の代わりに、熱伝導性に優れた放熱部520を介し
て外部に放出され、光源モジュールの信頼性を向上させることができる。
る放熱部520の上面が平らでない場合、発光素子230が浮いたり、不安定にボンディ
ングされ、放熱性と信頼性が低下し得るが、サブマウント530上に発光素子230を配
置することによって、このような問題を最小化することができる。
性を維持する役割をするので、放熱部520と発光素子230は互いに垂直的に重畳する
ように配置することができる。
れ以上又はそれ以下の発光素子を含ませることもできる。
外線(Deep UV)LED又は近紫外線(Near UV)LEDを含む発光素子2
30を使用するとしても、発光素子230から放出された紫外線光によって本体510が
変色又は変質するおそれがなく、発光モジュールの信頼性を維持することができる。
を位置させることができる。
うに透明な材質と非反射コーティング膜からなり、例えば、SiO2(Quartz、U
V Fused Silica)、Al2O3(Sapphire)又はLiF、MgF
2、CaF2、Low Iron Transparent Glass、B2O3など
を含むことができる。
ら放出された紫外線光が光源モジュールの外部の有機物を破壊又は変質させることを防止
する役割をすることができる。
、窒素(N2)ガス又はフォーミングガス(forming gas)で充填することも
できる。
、ガラス部550の縁部を支持可能な支持部514を形成することができる。
るように前記本体510のキャビティ512内にモールディング部565を形成すること
もできる。
esin、紫外線に強いSi―Resin、ハイブリッド系樹脂などを含むことができ、
これに対して制限することはない。
70を介して外部に放出されるので、放熱パッド570は、熱伝導性に優れた物質であり
、例えば、Ag、Au又はCuのうちいずれか一つを含む金属であり得る。
との間には熱伝導シート575が位置し得る。熱伝導シート575は、優れた熱伝導性、
電気絶縁性及び難燃性を有し、発熱部位と放熱パッドを密着させることによって熱伝達効
果を極大化させることができる。
と重複する内容は再び説明しない。
と、前記貫通ホール510a内に配置される放熱部520と、前記放熱部520上に配置
される少なくとも一つの発光素子230とを備える。
上に直接配置される点で、上述した第10の実施例と異なっている。
上にボンディングされるので、別途のワイヤボンディング工程がなくても前記発光素子2
30と前記放熱部520とが直接通電することができる。
と重複する内容は再び説明しない。
ィング部580が形成され、前記ツェナーダイオードボンディング部580にツェナーダ
イオード585が配置される。
分して形成することができる。発光素子230の発光時、ツェナーダイオード585によ
って光が乱反射又は吸収され、発光素子230の発光効率が低下し得るので、ツェナーダ
イオード585を発光素子230が位置する空間と区分又は隔離する。
オードボンディング部580は、前記キャビティ512が形成されていない領域に位置し
得る。
ワイヤを保護するためにシリコーン樹脂などが充填されたモールディング部590を形成
することができる。
と重複する内容は再び説明しない。
0と電気的に連結された電極パッド610を含む基板620と、前記基板620上に位置
し、前記電極パッド610に対応する領域にキャビティ632が位置するホルダー630
とを備え、前記電極パッド610は、前記キャビティ632内に配置され、ワイヤ634
、635が電気的に連結された突出電極部631とコンタクトされる。
hip On Board)タイプであり得る。
る。
ラミック基板である場合、例えば、高温同時焼成セラミック(High Tempera
ture Cofired Ceramics、HTCC)又は低温同時焼成セラミック
(Low Temperature Cofired Ceramics、LTCC)技
術を用いて具現することができる。
D又は近紫外線(Near UV)LEDを含むUV LEDである場合、発光素子から
放出される紫外線光によって基板620が変色又は変質しないように、前記基板620は
セラミック基板からなり得る。
位置する。
含む概念で使用することができる。
610の配置は、実施例によって変化させることができ、これに制限することはない。
基板620にリセス614を形成し、前記リセス614内に配置することもできる。
10に対応しない前記基板620の厚さは互いに異なり、一例として、前記電極パッド6
10に対応する前記基板620の厚さがより薄くなり得る。
れたアノード電極パッド611と、前記アノード電極パッド611と離隔して位置し、前
記光源600の第2の電極(図示せず)と電気的に連結されたカソード電極パッド612
とを含む。
列できるが、これに限定することはない。
のように、電極パッド610が二つ設けられた発光モジュールを示しているが、実施例に
よって電極パッド610を一つだけ設けたり、三つ以上設けた発光モジュールも可能であ
る。
ルの位置や方向を変えずに便利な位置の電極パッド610を選択して使用できるという利
点がある。
する領域が開放されたキャビティ632を有し、前記キャビティ632内に配置されたワ
イヤ634、635が前記電極パッド610とコンタクトされる。
イヤ634、635が配置され、前記ワイヤ634、635と電気的に連結された突出電
極部631は、前記アノード電極パッド611及び前記カソード電極パッド612とそれ
ぞれコンタクトされ、光源モジュールに電流を供給することができる。
は、図25及び図26を参照して後で説明する。
色又は変質しないように、前記ホルダー630は無機材質からなり得る。
610aの上部のみにホルダー630を設けることを示したが、第2の電極パッド610
bの上部にもホルダー630を設けることができる。
と重複する内容は再び説明しない。
0と電気的に連結された電極パッド610を含む基板620と、前記基板620上に位置
し、前記電極パッド610に対応する領域にキャビティ632が位置するホルダー630
とを備え、前記電極パッド610は、前記キャビティ632内に配置され、ワイヤと電気
的に連結された突出電極部631とコンタクトされる。
hip On Board)タイプであり得る。
れたアノード電極パッド611と、前記アノード電極パッド611と離隔して位置し、前
記光源600の第2の電極(図示せず)と電気的に連結されたカソード電極パッド612
とを有する。
電極パッド612は同一の方向に並んで配列せず、前記基板620上の区分される領域に
それぞれ配置することができる。
11が位置し、前記アノード電極パッド611と遠く離隔した対角線方向にカソード電極
パッド612が位置することを示した。
12が互いに遠く離隔して位置するので、ホルダー630も前記アノード電極パッド61
1と前記カソード電極パッド612をそれぞれカバーするように分けられて配置され、前
記ホルダー630に形成されたキャビティ632内にも外部電源と連結された一つのワイ
ヤがそれぞれ配置される。
の差は、第13の実施例のホルダー630は、一つのホルダーがアノード電極パッド61
1とカソード電極パッド612を一度に全てカバーするので、キャビティ632内に互い
に異なる極性の二つのワイヤ634、635が配置されるが、第14の実施例のホルダー
630は、アノード電極パッド611をカバーする一つのホルダーと、カソード電極パッ
ド612をカバーするもう一つのホルダーとが存在するので、それぞれのホルダーのキャ
ビティ632内にはそれぞれ異なる極性のワイヤ634又は635が配置される。
ッド611の上部のみにホルダー630を設けることを示したが、カソード電極パッド6
12の上部にもホルダー630を設けることができる。
例に係る発光モジュールに配置されたホルダー630の締結構造を説明する。
0は少なくとも一つの第1の締結部637を有し、締結手段638により、ホルダー63
0の下面に配置される基板620に固定することができる。
結部を形成することができる。
ホールが形成され、締結手段638としてのねじが前記ホルダー630の締結部637と
前記基板620の締結部(図示せず)とを結合し、前記ホルダー630が前記基板620
に固定される構成を示している。
に変形可能であり、これに制限することはない。
ンタクト構造の一実施例を示した断面図である。
に対応してキャビティ632が位置し、前記キャビティ632内に配置され、ワイヤ63
4と電気的に連結された突出電極部631が前記電極パッド610とコンタクトされる。
10を配置することもできる。
る。
ルダリング作業によって電気的に連結したが、ソルダリング作業は鉛などの重金属を使用
するので、環境汚染に致命的であり、コールドソルダリングなどによるワイヤ連結不良が
発生するという問題があった。
介して前記電極パッド610と機械的に互いにコンタクトされるようにし、環境汚染の心
配がなく、電線連結不良などを最小化することによって発光モジュールの信頼性を向上さ
せることができる。
リング部639を備えることもできる。
ッド610とコンタクトされるとき、スプリング部639の復元力により、前記突出電極
部631が前記電極パッド610とより堅固に接触できるようにする。
前記電極パッド610との電気的短絡を防止することができる。
とが一体型で形成された第2の電極部633を介してワイヤ634と電極パッド610を
電気的に連結することもできる。
極部633の一側は、前記支持部615を貫通して支持することができる。
突出部636を備え、前記基板620は、前記突出部636に対応する位置に少なくとも
一つの収容溝618を備えるので、前記ホルダー630と前記基板620とを嵌め合わせ
ることができる。
638と共に、前記ホルダー630と前記基板620とをより堅固に結合することができ
る。
るワイヤ634を示したが、カソード電極パッド612と電気的に連結されるワイヤ63
5に対しても同一に適用することができる。
極パッド611とカソード電極パッド612を全てカバーするように配置された場合、前
記ホルダー630のキャビティ632には互いに異なる極性を有する二つのワイヤ634
、635が配置され、前記ワイヤ634、635は、前記基板620に配置されたアノー
ド電極パッド611及びカソード電極パッド612とそれぞれ電気的に連結することがで
きる。
と重複する内容は再び説明しない。
0と電気的に連結された電極パッド610を有する基板620と、前記基板620上に位
置し、前記電極パッド610に対応する領域にキャビティ632が位置するホルダー63
0とを備え、前記電極パッド610は、前記キャビティ632内に配置され、ワイヤと電
気的に連結された突出電極部631とコンタクトされる。
装されたPOB(Package On Board)タイプであり得る。
光源600の第1の電極(図示せず)と電気的に連結されたアノード電極パッド611と
、前記光源600の第2の電極(図示せず)と電気的に連結されたカソード電極パッド6
12とを有する。
たアノード電極パッド611とカソード電極パッド612の個数と配列には多くの形態が
あり得るが、図27では、一例として、一つのアノード電極パッド611が前記基板62
0の縁部領域の一部に位置し、前記アノード電極パッド611と遠く離隔して配列された
一つのカソード電極パッド612を示した。
て、前記アノード電極パッド611と前記カソード電極パッド612をそれぞれカバーす
るホルダー630が配置される。
、詳細な説明は省略する。
1の上部のみにホルダー630が配置されることを示したが、前記カソード電極パッド6
12の上部にもホルダー630が配置される。
る。
ク基板である場合、例えば、高温同時焼成セラミック(High Temperatur
e Cofired Ceramics、HTCC)又は低温同時焼成セラミック(Lo
w Temperature Cofired Ceramics、LTCC)技術を用
いて具現することができる。
と重複する内容は再び説明しない。
気的に連結された電極パッド610を含む基板620と、前記基板620上に位置し、前
記光源600に対応する領域が開放された開放部710を含むホルダー700と、前記開
放部710内に固定され、前記光源600上に配置される拡散部材720とを備える。
B(Chip On Board)タイプであり得る。
る。
ク基板である場合、例えば、高温同時焼成セラミック(High Temperatur
e Cofired Ceramics、HTCC)又は低温同時焼成セラミック(Lo
w Temperature Cofired Ceramics、LTCC)技術を用
いて具現することができる。
れる支持プレート730と、前記電極パッド610に対応する領域が開放されたキャビテ
ィが備えられた少なくとも一つのカバーユニット800とを含むことができる。
うち一つの縁部領域に対応して配置される第1の支持プレート731と、前記第1の支持
プレート731と向い合って位置した第2の支持プレート732とを有することができる
。
前記開放部710を形成する。
持プレート732の内側面には挿入溝736が形成され、前記挿入溝736には拡散部材
720を挿入して締結することができる。
一部に対応して配置できるが、前記支持プレート730の内側面が前記開放部710を形
成し、前記開放部710の内側面に形成された挿入溝736に拡散部材720が締結され
なければならないので、前記支持プレート730は互いに対称をなすように備えることが
できる。
て配置することができる。
ーするように前記基板620の上部に配置される。
00bを二つ示したが、電極パッド610の個数又は配列位置によって、それ以下又はそ
れ以上のカバーユニットを備えることができる。
することができる。
612が隣接して並んで配列される場合、前記アノード電極パッド611と前記カソード
電極パッド612を全てカバーする一つのカバーユニット800のみを備えることができ
る。
パッド612が二つ以上存在する場合、カバーユニット800は二つ以上備えることがで
きる。
、カソード電極パッド612が前記アノード電極パッド611と遠く離隔して配置される
ので、前記アノード電極パッド611をカバーする第1のカバーユニット800aと、前
記カソード電極パッド612をカバーする第2のカバーユニット800bとがそれぞれ備
えられる。
することもできるが、図28のように一体に形成することもできる。
の一部を下部から見た斜視図である。
42が形成され、前記第1の締結部742に締結される締結手段744を備えることがで
きる。
結手段744としてねじを示したが、これに限定することはない。
結部が形成され、前記締結手段744によって前記ホルダー700を前記基板620に固
定することができる。
多様に変形可能であり、これに制限することはない。
少なくとも一つの突出部746を備えることができる。
成し、これらを嵌め合うことによって前記ホルダー700を前記基板620に固定するこ
とができる。
形可能であり、これに制限することはない。
ート731と前記第2の支持プレート732の内側面には挿入溝736を形成し、前記挿
入溝736に拡散部材720を挿入して締結することができる。
角を最大に広げ、光を均一に拡散できるようにする。
モジュールの光抽出効率を向上できるように透明な材質からなり得る。
前記拡散部材720が変色又は変質しないように、前記拡散部材720は無機材質からな
り、例えば、ガラス材質又は透光性樹脂物を含んで構成することができる。
位置し得る。
出効率を向上させ、周期的又は非周期的に形成することができ、例えば、マイクロレンズ
アレイ(MLA)を配列してパターンを形成することもできる。
き、光源100で発生した多くの波長領域の光のうち選択的な波長領域の光のみを選択的
に透過させることができる。
ムシート、第2のプリズムシート及び保護シートを配置することもでき、これらシートの
配置順序は変更可能である。
体材料で形成されるが、前記重合体は、複数の立体構造が繰り返して形成されたプリズム
層を有することができる。第1のプリズムシートには、山部と谷部が繰り返してストライ
プタイプで備えられてパターンを形成することができる。
ムの一面の山部と谷部の方向と垂直であり得る。
と重複する内容は再び説明しない。
気的に連結された電極パッド610を有する基板620と、前記基板620上に位置し、
前記光源600に対応する領域が開放された開放部710を有するホルダー700と、前
記開放部710内に固定され、前記光源600上に配置される拡散部材720とを備える
。
hip On Board)タイプであり得る。
れる支持プレート730と、前記電極パッド610に対応する領域が開放されたキャビテ
ィが備えられた少なくとも一つのカバーユニット800とを含むことができる。
うち一つの縁部領域に対応して配置される第1の支持プレート731と、前記第1の支持
プレート731と向い合って位置した第2の支持プレート732と、前記第1の支持プレ
ート731の一側と前記第2の支持プレート732の一側とを連結する第3の支持プレー
ト733と、前記第3の支持プレート733と向い合って位置し、前記第1の支持プレー
ト731の他側と前記第2の支持プレート732の他側とを連結する第4の支持プレート
734とを有することができる。
前記開放部710を形成する。
第1の支持プレート731及び前記第2の支持プレート732と同一であるので、それに
ついての詳細な説明は省略する。
ト731〜734の内側面には挿入溝736を形成し、前記挿入溝736に拡散部材72
0を挿入して締結することができる。
角を最大に広げ、光を均一に拡散できるようにする。
モジュールの光抽出効率を向上できるように透明な材質からなり得る。
前記拡散部材720が変色又は変質しないように、前記拡散部材720は無機材質からな
り、例えば、ガラス材質からなり得る。
成することができる。
と重複する内容は再び説明しない。
、前記基板620の上部に位置し、前記光源600に対応する領域が開放された開放部7
10を含むホルダー700と、前記開放部710に締結され、前記光源600の上部に配
置される拡散部材720とを含む。そして、前記基板620の下部には放熱部材1000
が配置される。
hip On Board)タイプであり得る。
れる支持プレート730と、前記電極パッド610に対応する領域が開放されたキャビテ
ィが備えられた少なくとも一つのカバーユニット800とを含むことができる。
域のうち一つの縁部領域に対応して配置される第1の支持プレート731と、前記第1の
支持プレート731と向い合って位置した第2の支持プレート732と、前記第1の支持
プレート731の一側と前記第2の支持プレート732の一側とを連結する第3の支持プ
レート733と、前記第3の支持プレート733と向い合って位置し、前記第1の支持プ
レート731の他側と前記第2の支持プレート732の他側とを連結する第4の支持プレ
ート734とを含むことを示したが、互いに対称をなす二つの支持プレート731及び7
32、又は733及び734のみを含むこともできる。
ト731〜734の内側面には挿入溝736が形成され、前記挿入溝736に拡散部材7
20を挿入して締結することができる。
角を最大に広げ、光を均一に拡散できるようにする。
で、熱伝導性に優れた材質からなり得る。
フィン1010を含むことができる。前記放熱フィン1010は、前記放熱部材1000
が外部空気と接する面積を広げることによって熱放出効果を向上させる。
。前記熱伝導性部材1020は、優れた熱伝導性、電気絶縁性及び難燃性を有して発熱部
位と放熱部材を密着させることによって熱伝達効果を極大化することができる。
つの第2の締結部750を含むことができる。
でき、前記ホルダー700の下部に位置する前記基板620の幅を超えて突出し得る。
1000上の領域にも締結部1015が形成され、締結手段755によって前記ホルダー
700を前記放熱部材1000に固定することができる。
前記第2の支持プレート732に備えられたことを示したが、これに限定することはない
。
に固定できるように、向かい合う二つの支持プレート731及び732、又は733及び
734に対称をなして形成することができる。
もできるが、前記基板620には回路パターンなどが含まれており、締結部を形成するの
に制約が伴うおそれがあるので、前記ホルダー700に別途の第2の締結部750を形成
し、締結手段755によって前記放熱部材1000に固定することができる。
0の全てに結合して固定することもできる。
20を位置させ、前記基板620を前記放熱部材1000に固定することができる。しか
し、熱伝導性部材1020の費用が高価であるので、前記第2の締結手段755を通して
前記ホルダー700と前記放熱部材1000を固定することによって、熱伝導性部材10
20がなくても前記基板620を前記放熱部材1000に固定し、発光モジュールの作製
単価を低下させることができる。
施例に係る光源モジュールを示した図で、図34は、第21の実施例に係る光源モジュー
ルを示した図である。上述した各実施例と重複する内容は再び説明しない。
連結された電極パッド610を有する基板620と、前記基板620上に位置し、前記光
源600に対応する領域が開放された開放部710を有するホルダー700と、前記開放
部710内に固定され、前記光源600上に配置される拡散部材720とを備える。
されるPOB(Package On Board)タイプであり得る。
れる支持プレート730と、前記電極パッド610に対応する領域が開放されたキャビテ
ィが備えられた少なくとも一つのカバーユニット800とを有することができる。
を除いては、それぞれ第16、第17、及び第18の実施例と類似するので、これについ
ての詳細な説明は省略する。
例を示した図である。
及びシェード1103で反射された後、レンズ1104を透過して車体の前方に向かうこ
とができる。
素子が基板上に実装されたCOB(Chip On Board)タイプであるか、発光
素子パッケージが基板上に実装されたPOB(Package On Board)タイ
プであり得る。
実施例に限定されるものではなく、本発明の属する分野で通常の知識を有する者であれば
、このような記載から多様な修正及び変形が可能である。
る特許請求の範囲及び当該特許請求の範囲と均等なものによって定めなければならない。
210 パッケージ本体
220 放熱部
230 発光素子
240 モールディング部
Claims (9)
- 上面が概ね正方形形状のキャビティを備えるパッケージ本体と、
前記キャビティに配置されている複数の発光素子と、
それぞれの上面が前記キャビティの底面から露出されている複数の第1の電極パターン及び複数の第2の電極パターンと、を含み、
前記複数の第1の電極パターンのそれぞれの上面は、前記キャビティの上面の中心点を基準として、他の前記複数の第1の電極パターンのいずれか一つの上面と概ね点対称であり、
前記複数の第2の電極パターンのそれぞれの上面は、前記中心点を基準として、他の前記複数の第2の電極パターンのいずれか一つの上面と概ね点対称であり、
前記複数の第1の電極パターンのそれぞれの上面は、
前記複数の第2の電極パターンの上面に囲まれている概ね正方形形状の中央面と、
前記中央面から連続する面であって、前記キャビティの側壁まで延在する第1側壁延在面と、を含み、
前記複数の第2の電極パターンのそれぞれの上面は、
第1方向に沿って前記複数の第1の電極パターンのいずれか一つの上面と前記キャビティの側壁の間に延在する第1方向延在面と、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って前記複数の第1の電極パターンのいずれか一つの上面と前記キャビティの側壁の間に延在する第2方向延在面と、
前記第1方向延在面と前記第2方向延在面の間の面から連続する面であって、前記キャビティの側壁まで延在する第2側壁延在面と、を含み、
前記第1側壁延在面は、前記第1方向に隣接する2つの前記第1方向延在面の間に配置され、且つ、前記第2方向に隣接する2つの前記第2方向延在面の間には配置されない、発光素子パッケージ。 - 前記中央面の上には前記複数の発光素子のいずれか一つが配置されている、請求項1に記載の発光素子パッケージ。
- 一端が前記複数の発光素子のいずれか一つの上面に連結され、且つ、他端が前記複数の第2の電極パターンのいずれか一つの上面に連結されているワイヤを含む、請求項1又は請求項2に記載の発光素子パッケージ。
- 前記複数の発光素子のそれぞれは、垂直型構造の発光素子である、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
- 前記パッケージ本体は、前記複数の第1の電極パターン及び前記複数の第2の電極パターンの下に複数のセラミック層を含む、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
- 前記複数のセラミック層のそれぞれには、それぞれが前記複数の第1の電極パターン及び前記複数の第2の電極パターンの少なくとも一つに電気的に接続されている複数の貫通電極が設けられている、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
- 前記複数のセラミック層のうち隣接する2つのセラミック層の界面には、それぞれが前記複数の第1の電極パターン及び前記複数の第2の電極パターンの少なくとも一つ、及び、前記複数の貫通電極の少なくとも一つに電気的に接続されている複数の第3の電極パターンが設けられ、
前記複数のセラミック層のうち最下層のセラミック層の下面には、それぞれが前記複数の第1の電極パターン及び前記複数の第2の電極パターンの少なくとも一つ、前記複数の貫通電極の少なくとも一つ、及び、前記複数の第3の電極パターンの少なくとも一つに電気的に接続されている複数の第4の電極パターンが設けられている、請求項6に記載の発光素子パッケージ。 - 前記隣接する2つのセラミック層の一方に設けられている前記複数の貫通電極のそれぞれは、前記隣接する2つのセラミック層の他方に設けられている前記複数の貫通電極と重畳しない位置に設けられている、請求項6又は請求項7に記載の発光素子パッケージ。
- 前記パッケージ本体は、AlNを含む、請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
Applications Claiming Priority (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110083721A KR20130021298A (ko) | 2011-08-22 | 2011-08-22 | 발광소자 패키지, 라이트 유닛 및 표시장치 |
KR10-2011-0083721 | 2011-08-22 | ||
KR10-2011-0084718 | 2011-08-24 | ||
KR1020110084718A KR20130022053A (ko) | 2011-08-24 | 2011-08-24 | 발광소자 패키지, 발광소자 패키지 제조방법, 라이트 유닛, 표시장치 |
KR1020110131466A KR101902393B1 (ko) | 2011-12-09 | 2011-12-09 | 발광소자 패키지 |
KR10-2011-0131466 | 2011-12-09 | ||
KR1020110139806A KR101976531B1 (ko) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 발광 모듈 |
KR10-2011-0140236 | 2011-12-22 | ||
KR1020110140236A KR101891717B1 (ko) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명시스템 |
KR10-2011-0139806 | 2011-12-22 | ||
KR1020110143152A KR20130074991A (ko) | 2011-12-27 | 2011-12-27 | 발광 모듈 |
KR10-2011-0143152 | 2011-12-27 | ||
KR10-2011-0147361 | 2011-12-30 | ||
KR1020110147361A KR101894353B1 (ko) | 2011-12-30 | 2011-12-30 | 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명시스템 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012183660A Division JP2013046072A (ja) | 2011-08-22 | 2012-08-22 | 発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017126803A JP2017126803A (ja) | 2017-07-20 |
JP6312899B2 true JP6312899B2 (ja) | 2018-04-18 |
Family
ID=46690439
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012183660A Pending JP2013046072A (ja) | 2011-08-22 | 2012-08-22 | 発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム |
JP2017085863A Active JP6312899B2 (ja) | 2011-08-22 | 2017-04-25 | 発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012183660A Pending JP2013046072A (ja) | 2011-08-22 | 2012-08-22 | 発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8773006B2 (ja) |
EP (1) | EP2562832B1 (ja) |
JP (2) | JP2013046072A (ja) |
CN (1) | CN103078033B (ja) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140039740A (ko) | 2012-09-25 | 2014-04-02 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 패키지 |
KR101373710B1 (ko) | 2012-12-12 | 2014-03-13 | (주)포인트엔지니어링 | 엘이디 금속기판 패키지 및 그 제조방법 |
KR102053408B1 (ko) * | 2013-07-11 | 2019-12-06 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 |
US9887324B2 (en) * | 2013-09-16 | 2018-02-06 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
KR20150039518A (ko) * | 2013-10-02 | 2015-04-10 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 |
DE102013114691A1 (de) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauteil und adaptiver Scheinwerfer für ein Kraftfahrzeug |
JP6171921B2 (ja) * | 2013-12-24 | 2017-08-02 | 日亜化学工業株式会社 | 配線基板及び発光装置 |
KR20160036862A (ko) | 2014-09-26 | 2016-04-05 | 서울바이오시스 주식회사 | 발광 소자 제조 방법 및 그것에 의해 제조된 발광 소자 |
KR101738980B1 (ko) | 2015-02-05 | 2017-05-24 | 주식회사 루멘스 | 발광 모듈 및 조명 장치 |
US10041645B2 (en) * | 2015-07-06 | 2018-08-07 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Light source unit, lighting device, and vehicle |
DE102016107495B4 (de) * | 2016-04-22 | 2022-04-14 | Tdk Electronics Ag | Vielschicht-Trägersystem, Verfahren zur Herstellung eines Vielschicht-Trägersystems und Verwendung eines Vielschicht-Trägersystems |
KR102588807B1 (ko) | 2016-12-15 | 2023-10-13 | 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 | 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법, 자동 초점 장치 |
CN118117024A (zh) * | 2017-03-21 | 2024-05-31 | Lg 伊诺特有限公司 | 半导体元件封装和自动聚焦装置 |
EP3633719A4 (en) * | 2017-05-26 | 2021-03-17 | Kyocera Corporation | SUBSTRATE FOR THE ASSEMBLY OF ELECTRONIC COMPONENTS, ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC MODULE |
KR20200013705A (ko) | 2017-06-27 | 2020-02-07 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 투명 밀봉 부재 및 그 제조 방법 |
EP3528296B1 (en) * | 2018-02-16 | 2020-06-03 | Nichia Corporation | Light emitting element and light emitting device |
CN109031779B (zh) * | 2018-07-25 | 2024-06-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发光二极管基板、背光模组和显示装置 |
KR20200064399A (ko) * | 2018-11-29 | 2020-06-08 | 주식회사 글로우원 | 투명 led 패널 |
CN111384220A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 南昌欧菲生物识别技术有限公司 | 光发射器、深度相机及电子设备 |
US11610935B2 (en) | 2019-03-29 | 2023-03-21 | Lumileds Llc | Fan-out light-emitting diode (LED) device substrate with embedded backplane, lighting system and method of manufacture |
CN110752281A (zh) * | 2019-10-31 | 2020-02-04 | 开发晶照明(厦门)有限公司 | 发光二极管封装结构及其承载座 |
US11621173B2 (en) | 2019-11-19 | 2023-04-04 | Lumileds Llc | Fan out structure for light-emitting diode (LED) device and lighting system |
CN111029896B (zh) * | 2019-12-23 | 2021-02-05 | 常州纵慧芯光半导体科技有限公司 | 一种eel激光器tof模组封装结构及其制作方法 |
US11777066B2 (en) | 2019-12-27 | 2023-10-03 | Lumileds Llc | Flipchip interconnected light-emitting diode package assembly |
US11664347B2 (en) | 2020-01-07 | 2023-05-30 | Lumileds Llc | Ceramic carrier and build up carrier for light-emitting diode (LED) array |
TWI777125B (zh) * | 2020-01-22 | 2022-09-11 | 晶智達光電股份有限公司 | 雷射元件封裝結構 |
US11476217B2 (en) | 2020-03-10 | 2022-10-18 | Lumileds Llc | Method of manufacturing an augmented LED array assembly |
JP7244771B2 (ja) * | 2020-04-02 | 2023-03-23 | 日亜化学工業株式会社 | 面状光源の製造方法 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3531573B2 (ja) * | 2000-03-17 | 2004-05-31 | 株式会社村田製作所 | 積層型セラミック電子部品およびその製造方法ならびに電子装置 |
JP3924481B2 (ja) * | 2002-03-08 | 2007-06-06 | ローム株式会社 | 半導体チップを使用した半導体装置 |
US7242033B2 (en) * | 2002-03-08 | 2007-07-10 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device using LED chip |
JP4773755B2 (ja) * | 2005-07-01 | 2011-09-14 | ローム株式会社 | チップ型半導体発光素子 |
US7550319B2 (en) * | 2005-09-01 | 2009-06-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low temperature co-fired ceramic (LTCC) tape compositions, light emitting diode (LED) modules, lighting devices and method of forming thereof |
US20070063213A1 (en) * | 2005-09-21 | 2007-03-22 | Lighthouse Technology Co., Ltd. | LED package |
JP2007149810A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Kyocera Corp | 発光素子用配線基板および発光装置 |
JP4417906B2 (ja) * | 2005-12-16 | 2010-02-17 | 株式会社東芝 | 発光装置及びその製造方法 |
JP2007242856A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Rohm Co Ltd | チップ型半導体発光素子 |
US7655957B2 (en) * | 2006-04-27 | 2010-02-02 | Cree, Inc. | Submounts for semiconductor light emitting device packages and semiconductor light emitting device packages including the same |
JP2008071955A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
US7808013B2 (en) * | 2006-10-31 | 2010-10-05 | Cree, Inc. | Integrated heat spreaders for light emitting devices (LEDs) and related assemblies |
US20080179618A1 (en) * | 2007-01-26 | 2008-07-31 | Ching-Tai Cheng | Ceramic led package |
JP5167977B2 (ja) * | 2007-09-06 | 2013-03-21 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体装置 |
JP2009071013A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 発光素子実装用基板 |
JP5224802B2 (ja) * | 2007-09-29 | 2013-07-03 | 京セラ株式会社 | 発光素子収納用パッケージ、発光装置ならびに発光素子収納用パッケージおよび発光装置の製造方法 |
JP5340583B2 (ja) * | 2007-11-26 | 2013-11-13 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置 |
US8129742B2 (en) * | 2008-03-25 | 2012-03-06 | Bridge Semiconductor Corporation | Semiconductor chip assembly with post/base heat spreader and plated through-hole |
JP5063555B2 (ja) * | 2008-10-17 | 2012-10-31 | 電気化学工業株式会社 | 発光素子搭載用基板 |
JP5263515B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2013-08-14 | 東芝ライテック株式会社 | 照明装置 |
JP5305950B2 (ja) * | 2009-01-29 | 2013-10-02 | 京セラ株式会社 | 発光装置及びこれを用いた照明装置 |
JP2010274256A (ja) * | 2009-01-29 | 2010-12-09 | Kyocera Corp | 光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法 |
JP5539658B2 (ja) * | 2009-02-26 | 2014-07-02 | 日鉄住金エレクトロデバイス株式会社 | 反射材およびそれを用いた反射体および発光素子搭載用基板 |
TWM362362U (en) * | 2009-03-06 | 2009-08-01 | Acpa Energy Conversion Devices Co Ltd | Heat conduction structure for heating element |
JP2010238972A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 発光体および照明器具 |
DE112010002822T5 (de) * | 2009-07-03 | 2012-06-14 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Gehäuse für licht emittierende dioden |
JP2011023620A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Panasonic Corp | 配線基板 |
US9039216B2 (en) * | 2010-04-01 | 2015-05-26 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package and light unit having the same |
-
2012
- 2012-08-21 US US13/590,832 patent/US8773006B2/en active Active
- 2012-08-22 CN CN201210302014.XA patent/CN103078033B/zh active Active
- 2012-08-22 EP EP12181340.6A patent/EP2562832B1/en active Active
- 2012-08-22 JP JP2012183660A patent/JP2013046072A/ja active Pending
-
2017
- 2017-04-25 JP JP2017085863A patent/JP6312899B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013046072A (ja) | 2013-03-04 |
US8773006B2 (en) | 2014-07-08 |
EP2562832B1 (en) | 2019-12-18 |
CN103078033A (zh) | 2013-05-01 |
JP2017126803A (ja) | 2017-07-20 |
EP2562832A3 (en) | 2016-03-16 |
US20130049563A1 (en) | 2013-02-28 |
CN103078033B (zh) | 2018-04-13 |
EP2562832A2 (en) | 2013-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6437154B2 (ja) | 発光素子パッケージ | |
JP6312899B2 (ja) | 発光素子パッケージ、光源モジュール及びこれを含む照明システム | |
US9620691B2 (en) | Light emitting device package | |
JP6964345B2 (ja) | 発光素子パッケージ及び光源装置 | |
JP2020526004A (ja) | 発光素子パッケージ及び光源装置 | |
TW201909451A (zh) | 發光裝置封裝 | |
KR20190025333A (ko) | 발광소자 패키지 | |
EP2562834B1 (en) | Light emitting diode package | |
KR102358842B1 (ko) | 발광소자 패키지 및 광원 장치 | |
KR20130060638A (ko) | 발광 소자, 이를 포함하는 발광 소자 패키지, 및 이를 포함하는 조명 시스템 | |
KR20190014323A (ko) | 발광소자 패키지 및 그 제조방법 | |
KR20190021989A (ko) | 발광소자 패키지 | |
KR20190025330A (ko) | 발광소자 패키지 | |
KR20190044414A (ko) | 발광소자 패키지 | |
KR20190010352A (ko) | 발광소자 패키지 및 그 제조방법 | |
KR20190010353A (ko) | 발광소자 패키지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170525 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180320 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6312899 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |