JP6284705B2 - 干渉色のモデル適合による膜厚測定方法およびその装置 - Google Patents
干渉色のモデル適合による膜厚測定方法およびその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6284705B2 JP6284705B2 JP2012271929A JP2012271929A JP6284705B2 JP 6284705 B2 JP6284705 B2 JP 6284705B2 JP 2012271929 A JP2012271929 A JP 2012271929A JP 2012271929 A JP2012271929 A JP 2012271929A JP 6284705 B2 JP6284705 B2 JP 6284705B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- point
- wavelength
- wavelengths
- interference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
まず、測定スポットサイズを小さくできないため、水平方向の分解能が低くなる。次に、基本的に点測定のため、多数点の膜厚値や膜厚分布を得るためには、試料または測定器を機械的に走査する必要があり、時間がかかる。特に、例えば、半導体ウエーハのような広い面積を測定するには膨大な時間がかかっていた。
分光器や偏光光学系など、複雑な光学系を必要とし、コスト高となっていた。
さらに、他の方法の分光法では、試料の分光強度データを分光反射率に換算するために、試料の測定に先立って、分光反射率が既知の試料をリファレンスとして測定する必要があった。
g(i,j)=a(j)[1+b(j)×cos{4πt(i)/λ(j)}]・・(1)
で表される干渉縞モデルを適合することにより、前記未知パラメータを求めることを特徴とする膜厚測定方法、および当該方法を用いる膜厚測定装置である。
ただし、g(i,j)=点iにおける波長番号jの輝度。 a(j)=波長番号jの平均輝度。 b(j)=波長番号jの干渉変調度。 t(i)=点iの膜厚。 λ(j)=波長番号jの波長
である。
φ(k,j)=cos−1[{g(k,j)/a(j)−1}/b(j)]
により求め、得られた複数の位相から前記点kの膜厚t(k)を求めることを特徴とする膜厚測定方法および当該方法を用いる膜厚測定装置である。
n≧2m/(m−1)
となるように設定し、前記波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)、および前記点iの膜厚t(i)のすべてを未知パラメータとする膜厚測定方法および当該方法を用いる膜厚測定装置である。
n≧2
となるように設定し、波長番号jの平均輝度a(j)、点iの膜厚t(i)のすべてと、干渉変調度b(j)の1部を未知パラメータとする膜厚測定方法である。
b(2)=β(2)×b(3)
ここで、β(1)、β(2)は、干渉変調度の波長間の比率であり、透明膜の分光屈折率と基板の分光屈折率に依存する試料定数と考えることができる。よって、同一の膜構造の他の測定対象を利用するなどの手段で、予め求めておくことができる。
a(2)=α(2)×a(3)
b(1)=β(1)×b(3)
b(2)=β(2)×b(3)
ここで、α(1)、α(2)は平均輝度の波長間の比率であるが、これは照明の明るさには依存せず、照明とカメラの分光特性に依存する装置定数と考えることができる。よって、他の測定対象を利用するなどの手段で、予め求めておくことができる。β(1)、β(2)は、前記した干渉変調度の波長間の比率である。なお、本発明の場合、適合点を2個以上選択することもできて、観測データ数が未知パラメータ数より多い最小二乗適合になる。
また、b(1)、b(2)は、試料定数であり、同一膜構造の他の試料の実験値や、物性値からの理論計算で求めておく。
まず、測定スポットサイズがカメラの1画素となるため、水平方向の分解能が高い。また、面一括測定のため、多数点の膜厚値や膜厚分布を短時間に得ることができる。たとえば、半導体ウエーハのような広い面積を一括測定できる。
ただし、g(i,j)は、式(1)で示す干渉縞モデル関数値、 gijは、観測輝度データの値、 ΣΣは、波長番号jと観測点iに関する総和を示す。
m×n≧2m+n
となる。
よって、必要な点nは、
n≧2m/(m−1) ・・・・・・・・・・・・・・・(4)
となる。すなわち、必要条件として、m=2の場合は、n≧4、m=3の場合は、n≧3が成り立つ。
干渉縞のモデルである式(1)の余弦関数内は、点iにおける波長番号jの位相φ(i,j)を表し、
φ(i,j)=4πt(i)/λ(j)・・・・・・・・・・・・・・・(5)
と表される。
すると、式(1)より、
φ(i,j)=cos−1[{g(i,j)/a(j)−1}/b(j)]・・(6)ここで、式(6)の逆余弦関数cos−1の値域は、[0,π]とする。
点iにおける波長番号jの膜厚t(i,j)は、式(5)と逆余弦関数の一般解表現から、
t(i,j)=[±φ(i,j)/4π+N(i,j)/2]×λ(j)・・(7)
で求められる。ただし、N(i,j)は縞次数(整数)である。
t(i)=Σt(i,j)/m ・・(8)
ただし、Σは、波長番号j=1〜mに関する総和であり、右辺は膜厚候補値の平均値に相当する。
<ステップS1> 多波長画像取得
実施例1として、3種類の波長を使用し、測定点として3点を選択して 適合した例を示す。測定対象30の干渉画像は、図3に示すような球面状の膜厚分布を持つ測定対象30を仮定して、干渉理論式(1)から計算した。この仮想的な測定対象30は、サイズが50×50画素、画素サイズが1μm、最小膜厚が4隅の0μm、膜厚曲率半径が1mm、中央の膜厚突起サイズが4μm×4μm、膜厚突起量が50nmである。
また、干渉理論式(1)において、各波長の平均輝度a=100、干渉変調度b=1とした。
図4に示した3種類の波長の干渉画像について、干渉画像の縦軸をY軸、横軸をX軸として、座標が、P1(X1,Y1)=(5,25)、P2(X2,Y2)=(15,25)およびP3(X3,Y3)=(25,25)の3点を選択した。波長の干渉縞画像から、選択した各点P1〜P3の観測値をメモリ21から抽出した。各選択点の膜厚真値と観測値(輝度)を表1に示した。
表1
<ステップS3> 初期値設定
次に、各点(この場合3点)の膜厚初期値を設定する。ただ、初期値が真値から離れている場合、ローカルミニマムに陥って、正しい膜厚が得られなくなる恐れがある。従い、初期値設定においては、できるだけ正しい膜厚を推定し設定する。当実施例では、真値から約5%低く推定された場合を想定し、下記表2−aの様に設定した。
表2−a 膜厚初期値
表2−b パラメータ初期値
次ステップとして、設定した初期値をデータ処理系ユニット2の入力部22から入力し、CPU20にて、最小二乗適合ソフトウエアを用いて適合計算をおこなうことにより、表1に示した輝度観測値から、膜厚と干渉縞パラメータを推定した。その結果、表3に示すように、推定誤差は非常に小さく、正しい膜厚推定値が得られた。
表3 3点適合結果
[実施例2]
次に、適合するために選択した点以外の点(k点)の膜厚を求めるに、実施例1にて適合によって得られたレシピ、すなわち、干渉縞モデルの波形パラメータである波長番号jの時の平均輝度a(j)及び干渉変調度b(j)を用いて、膜厚を求めた。
実施例1と同一の干渉画像から、選択点以外の点として、点P4(X4,Y4)=(1,25)を抽出して例示する。
点P4(X4,Y4)=(1,25)における各波長に対応した位相(単位:ラジアン)を前記式(2)により求める。該結果を表4に示す。
表4 位相計算結果
さらに、上記で得られた各波長の位相値から、前記式(6)および式(7)を用いて膜厚計算をおこなう。この時、前記計算結果の位相から干渉次数を変えて膜厚候補値を計算する。この場合の次数の計算範囲は、予想膜厚に基づき決定する。本実施例では、膜厚範囲が0〜800nmと仮定した。上記のように干渉次数を変えた膜厚候補値計算結果を表5に示す。
表5 膜厚候補値
<ステップS88> 膜厚の推定
次に、干渉次数を変えた膜厚候補値計算結果から、波長間の合致誤差が最も小さい組み合わせを探索する。この場合、合致誤差の指標として、[(最大値)−(最小値)]を用いて、値が最小にある干渉次数を探索した。表5によれば、干渉次数=+1の場合、合致誤差が「0」であるので、この時の膜厚300nmを採用した。結果として、この値は、真値に一致する。以上が、適合に使用した点以外の点P4(X4,Y4)=(1,25)の膜厚を求めた事例である。
次に、実施例2と同様に、実施例1で得られた干渉縞モデルのパラメータを用いて、50点の膜厚を推定した実施例を示す。実施例2と同様に、座標(X=1〜50,Y=25)の50点について合致法を用いて膜厚を求めた。
次に、本願発明により、実試料の膜厚を測定した例を示す。測定対象30は、シリコンウエーハ上に、0,100,200,300,400および500nmの公称膜厚(物理膜厚)のシリコン酸化膜を形成した膜厚標準である。この試料に青色波長λB=470nm、緑色波長λG=560nmおよび赤色波長λR=600nmから構成される3波長照明光を照射し、3板式カラーカメラ(日立国際電気、HV−F22CL、1360×1024画素)で撮像した。得られた画像を図9に示す。この画像上に示すように、各膜厚領域から、1点を選択し、計6点の輝度を求めた。これに、干渉縞モデルを適合し、膜厚を求めた。6点の座標、輝度、膜厚の初期値、推定値、公称値、推定誤差を表6に示す。推定誤差が10nm以下であり、ほぼ正しい膜厚が得られている。
また、この適合で得られたレシピを表7に示す。このレシピを用いて、画像内の全点の輝度から位相、さらに膜厚を求めた結果を図10に示す。膜厚段差がほぼ正しく求められている。
表6 選択した6点の座標、輝度、高さ初期値、高さ推定値
表7 適合により得られたレシピ
[実施例5] ・(請求項4[t未知、2点;モード:m−2と2−3]に対応)
前記実施例1ないし実施例4の変形例として、波長数が3個以上で選択点数が2点、あるいは、波長数が2個で選択点数が3点の場合に、波長番号jの平均輝度a(j)と点iの膜厚t(i)のすべてと、干渉変調度b(j)の1部を未知パラメータとする膜厚測定方法について実施例を示す。
b(2)=β(2)×b(3)
ここで、β(1)、β(2)は、干渉変調度の波長間の比率であり、透明膜の分光屈折率と基板の分光屈折率に依存する試料定数と考えることができる。よって、同一の膜構造の他の測定対象を利用するなどの手段で、予め求めておくことができる。
さらに[実施例5]と同様に、[実施例1]ないし[実施例4]に記載した実施例に対する他の変形例として、波長数が3個以上で選択点数が1点、あるいは、波長数が2個で選択点数が2点の場合に、点iの膜厚t(i)のすべてと、波長番号jの平均輝度a(j)と干渉変調度b(j)の1部を未知パラメータとする膜厚測定方法について実施例を示す。
a(2)=α(2)×a(3)
b(1)=β(1)×b(3)
b(2)=β(2)×b(3)
ここで、α(1)、α(2)は平均輝度の波長間の比率であるが、これは照明の明るさには依存せず、照明とカメラの分光特性に依存する装置定数と考えることができる。よって、他の測定対象30を利用するなどの手段で、予め求めておくことができる。β(1)、β(2)は、前記した干渉変調度の波長間の比率である。なお、本発明の場合、適合点を2個以上選択することもできて、観測データ数が未知パラメータ数より多い最小二乗適合になる。
さらに[実施例5]および[実施例6]と同様に、[実施例1]ないし[実施例4]に記載した実施例に対する他の変形例として、波長数が2個で選択点数が1点の場合に、点1の膜厚t(1)と、波長番号jの平均輝度a(j)の1部と、干渉変調度b(j)のすべてを未知パラメータとする膜厚測定方法について実施例を示す。
また、b(1)、b(2)は、試料定数であり、同一膜構造の他の試料の実験値や、物性値からの理論計算で求めておく。
さらに[実施例5]ないし[実施例7]と同様に、[実施例1]ないし[実施例4]に記載した実施例に対する他の変形例として、2点以上の点iの膜厚t(i)のすべてを既知とし、波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)のすべてを未知パラメータとする膜厚測定方法について実施例を示す。
さらに[実施例5]ないし[実施例8]と同様に、[実施例1]ないし[実施例4]に記載した実施例に対する他の変形例として、1点の膜厚t(1)を既知とし、波長番号jの平均輝度a(j)を未知パラメータとする膜厚測定方法について実施例を示す。
波長数mがm=2の場合とm≧3の場合のがあり、さらに、膜厚が既知の場合と未知の場合で分類すれば、下記のケースがある。それぞれのケースにおいて、有意な点数に応じた測定モードが考えられる。
1)波長数mが2個で、膜厚が未知のケース(下記表8に示す)
・有意点数=1(モード名2−1):設定値は、α、b(j)を与えれば良い。
2)波長数mが2個で膜厚既知のケース(下記表8に示す。)
・有意点数=1(モード名2−1f):設定値は、b(j)を与えれば良い。
・有意点数=3(モード名2−nf):設定値は不要
表8 各種測定モード(波長数m=2個のケース)
・有意点数=1(モード名3−1):設定値は、α、b(j)を与えれば良い。
4)波長数mが3個で膜厚既知のケース(下記表9に示す)
・有意点数=1(モード名3−1f):設定値は、b(j)を与えれば良い。
表9 各種測定モード(波長数m=3個)
表10 各種測定モード(波長数m≧4個)
g(i,j)=a(j)[1−b(j)×cos{4πt(i)/λ(j)}] (1A)
φ(k,j)=cos−1[−{g(k,j)/a(j)−1}/b(j)] (2A)
となる。
また、この方法は、基板上の透明膜の場合で、基板の屈折率が透明膜の屈折率よりも小さい場合にも適用できる。
30・・測定対象
30A・測定対象の表面
30B・測定対象の裏面
40・・保持テーブル
10・・照明装置
11・・コリメートレンズ
13・・ハーフミラー
14・・対物レンズ
18・・結像レンズ
19・・撮像装置
2・・・データ処理系ユニット
20・・CPU
21・・メモリ
22・・入力部
23・・モニタ
Claims (12)
- m個からなる複数の波長の単色光を含む照明光を測定対象である透明膜に照射し、前記透明膜の表面の反射光と裏面の反射光との干渉により生成される干渉画像を1回取得し、前記干渉画像から1点以上の選択点をn点選択し、前記n点の選択点の内のi点に対応する波長番号jの干渉輝度信号に、前記波長番号jの波長λ(j)を既知とし、前記波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)、および前記点iの膜厚t(i)のすべて、あるいは、1部を未知パラメータとし、残りを既知パラメータとして、前記点iに対応する波長番号jの輝度g(i,j)が
g(i,j)=a(j)[1+b(j)×cos{4πt(i)/λ(j)}]
で表される干渉縞モデルを適合することにより、前記未知パラメータを求めることを特徴とする膜厚測定方法。 - 前記干渉画像内の任意の点kに関し、請求項1で得られた、前記既知の波長番号jの平均輝度a(j)および干渉変調度b(j)と、前記点kの各波長の輝度g(k,j)とから、前記点kにおける波長番号jの位相φ(k,j)を
φ(k,j)=cos−1[{g(k,j)/a(j)−1}/b(j)]
により求め、得られた複数の位相から前記点kの膜厚t(k)を求めることを特徴とする請求項1に記載の膜厚測定方法。 - 前記請求項1において、照射する単色光の複数の波長数がm個、選択点数nが、
n≧2m/(m−1)
となるように設定し、前記波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)および前記点iの膜厚t(i)のすべてを未知パラメータとする膜厚測定方法。 - 前記請求項1において、照射する単色光の複数の波長数が3個以上で選択点数が2点、あるいは、波長数が2個で選択点数が3点の場合に、前記波長番号jの平均輝度a(j)、前記点iの膜厚t(i)のすべてと、干渉変調度b(j)の1部を未知パラメータとする膜厚測定方法。
- 前記請求項1において、照射する単色光の複数の波長数が3個以上で選択点数が1点、あるいは、波長数が2個で選択点数が2点の場合に、前記点iの膜厚t(i)のすべてと、前記波長番号jの平均輝度a(j)と干渉変調度b(j)の1部を未知パラメータとする膜厚測定方法。
- 前記請求項1において、波長数が2個で選択点数が1点の場合に、点1の膜厚t(1)と、波長番号jの平均輝度a(j)の1部と、干渉変調度b(j)のすべてを未知パラメータとする膜厚測定方法。
- 前記請求項1において、2点以上の前記点iの膜厚t(i)のすべてを既知とし、前記波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)のすべてを未知パラメータとする膜厚測定方法。
- 前記請求項1において、1点の膜厚t(1)を既知とし、前記波長番号jの平均輝度a(j)を未知パラメータとする膜厚測定方法。
- 前記請求項3〜8のいずれか一つの請求項において、前記波長番号jの平均輝度a(j)、あるいは、干渉変調度b(j)の1部を既知パラメータする場合に、当該パラメータは、平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)のそれぞれの波長間比率を既知として設定することにより求める膜厚測定方法。
- m個からなる複数の波長の単色光を含む照明光を測定対象である透明膜に照射し、前記透明膜の表面の反射光と裏面の反射光との干渉により生成される干渉画像を1回取得し、前記干渉画像から1点以上の選択点をn点選択し、前記n点の選択点の内のi点に対応する波長番号jの干渉輝度信号に、前記波長番号jの波長λ(j)を既知とし、前記波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)、および前記点iの膜厚t(i)のすべて、あるいは、1部を未知パラメータとし、残りを既知パラメータとして、前記点iに対応する波長番号jの輝度g(i,j)が
g(i,j)=a(j)[1+b(j)×cos{4πt(i)/λ(j)}]
で表される干渉縞モデルを適合し、前記未知パラメータを求めることにより膜厚を測定できることを特徴とする膜厚測定装置。 - 前記干渉画像内の任意の点kに関し、請求項10で得られた、既知の波長番号jの平均輝度a(j)および干渉変調度b(j)と、前記点kの各波長の輝度g(k,j)とから、前記点kにおける波長番号jの位相φ(k,j)を
φ(k,j)=cos−1[{g(k,j)/a(j)−1}/b(j)]
により求め、得られた複数の位相から前記点kの膜厚t(k)が測定出来ることを特徴とする請求項10に記載の膜厚測定装置。 - 前記請求項10において、照射する単色光の複数の波長数がm個、選択点数nが、
n≧2m/(m−1)
となるように設定し、前記波長番号jの平均輝度a(j)、干渉変調度b(j)および点iの膜厚t(i)のすべてを未知パラメータとして膜厚測定ができることを特徴とする膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012271929A JP6284705B2 (ja) | 2011-12-16 | 2012-12-13 | 干渉色のモデル適合による膜厚測定方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011275509 | 2011-12-16 | ||
JP2011275509 | 2011-12-16 | ||
JP2012271929A JP6284705B2 (ja) | 2011-12-16 | 2012-12-13 | 干渉色のモデル適合による膜厚測定方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013145229A JP2013145229A (ja) | 2013-07-25 |
JP6284705B2 true JP6284705B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=48612326
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012271929A Expired - Fee Related JP6284705B2 (ja) | 2011-12-16 | 2012-12-13 | 干渉色のモデル適合による膜厚測定方法およびその装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6284705B2 (ja) |
WO (1) | WO2013088871A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6035279B2 (ja) * | 2014-05-08 | 2016-11-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 膜厚測定装置、膜厚測定方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
WO2016147782A1 (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-22 | 東レエンジニアリング株式会社 | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
JP2017044587A (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-02 | 東レエンジニアリング株式会社 | 膜厚分布測定装置 |
JP6750813B2 (ja) * | 2016-07-01 | 2020-09-02 | 株式会社溝尻光学工業所 | 透明板の形状測定方法および形状測定装置 |
JP6959211B2 (ja) * | 2018-11-09 | 2021-11-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 酸化膜厚測定装置および該方法 |
JP7121222B1 (ja) | 2021-05-21 | 2022-08-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
WO2022244309A1 (ja) | 2021-05-21 | 2022-11-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10311708A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-11-24 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 干渉式膜厚計 |
JP3852557B2 (ja) * | 2000-09-08 | 2006-11-29 | オムロン株式会社 | 膜厚測定方法およびその方法を用いた膜厚センサ |
JP4183089B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2008-11-19 | 東レエンジニアリング株式会社 | 表面形状および/または膜厚測定方法およびその装置 |
JP4885154B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2012-02-29 | 国立大学法人東京工業大学 | 複数波長による表面形状の測定方法およびこれを用いた装置 |
JP4939304B2 (ja) * | 2007-05-24 | 2012-05-23 | 東レエンジニアリング株式会社 | 透明膜の膜厚測定方法およびその装置 |
JP2010060420A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Tokyo Institute Of Technology | 表面形状および/または膜厚測定方法およびその装置 |
-
2012
- 2012-11-09 WO PCT/JP2012/079082 patent/WO2013088871A1/ja active Application Filing
- 2012-12-13 JP JP2012271929A patent/JP6284705B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013145229A (ja) | 2013-07-25 |
WO2013088871A1 (ja) | 2013-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6284705B2 (ja) | 干渉色のモデル適合による膜厚測定方法およびその装置 | |
US9958265B2 (en) | Specimen measuring device and computer program product | |
CN109791896B (zh) | 加快在半导体装置制作中的光谱测量 | |
US20080117438A1 (en) | System and method for object inspection using relief determination | |
JP6322939B2 (ja) | 撮像システム及び色検査システム | |
Kim et al. | High-speed color three-dimensional measurement based on parallel confocal detection with a focus tunable lens | |
Gao et al. | High-throughput fast full-color digital pathology based on Fourier ptychographic microscopy via color transfer | |
JP2015230264A (ja) | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 | |
JP5701159B2 (ja) | 干渉縞モデル適合による表面形状測定方法およびその装置 | |
EP4220072A1 (fr) | Procédé et système pour mesurer une surface d'un objet comprenant des structures différentes par interférométrie à faible cohérence | |
JP5997578B2 (ja) | クロストーク補正係数算出方法およびクロストーク補正係数算出機能を備えた透明膜の膜厚測定装置 | |
JP2019184587A (ja) | 視差算出装置、視差算出方法及び視差算出装置の制御プログラム | |
US10274307B2 (en) | Film thickness measurement device using interference of light and film thickness measurement method using interference of light | |
JP2013068489A (ja) | 複数波長による表面形状測定方法およびこれを用いた装置 | |
JP6674619B2 (ja) | 画像生成方法及び画像生成装置 | |
JP2006071316A (ja) | 膜厚取得方法 | |
US9282304B1 (en) | Full-color images produced by white-light interferometry | |
JP2003156314A (ja) | 膜厚測定方法及びその装置 | |
JP2018132390A (ja) | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 | |
JP2007071817A (ja) | 二光束干渉計及び同干渉計を用いた被測定物の形状測定方法 | |
Kim et al. | Generating a true color image with data from scanning white-light interferometry by using a Fourier transform | |
JP6457846B2 (ja) | 透明板の形状測定方法および形状測定装置 | |
JP2018159557A (ja) | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 | |
Plata et al. | Trichromatic red-green-blue camera used for the recovery of albedo and reflectance of rough-textured surfaces under different illumination conditions | |
JP6047427B2 (ja) | 薄膜の膜形状測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151030 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160902 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160916 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161025 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170314 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170606 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170613 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20170825 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180131 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6284705 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |