JP6275083B2 - 導電性ポリマー材料並びに基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(A)π共役系ポリマー、及び
(B)スルホ基を有する繰り返し単位を含み、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲のものであるドーパントポリマー、
(C)下記一般式(1)で示される両性イオン化合物、
を含む導電性ポリマー材料を提供する。
このように、本発明の導電性ポリマー材料は基板等に塗布・成膜することで導電膜とすることができる。
また、このような導電性ポリマー材料によって形成された導電膜は、導電性、透明性等に優れるため、透明電極層として機能するものとすることができる。
本発明の導電性ポリマー材料は、(A)成分としてπ共役系ポリマーを含む。この(A)成分は、π共役系連鎖(単結合と二重結合が交互に連続した構造)を形成する前駆体モノマー(有機モノマー分子)が重合したものであればよい。
このような前駆体モノマーとしては、例えば、ピロール類、チオフェン類、チオフェンビニレン類、セレノフェン類、テルロフェン類、フェニレン類、フェニレンビニレン類、アニリン類等の単環式芳香族類;アセン類等の多環式芳香族類;アセチレン類等が挙げられ、これらのモノマーの単一重合体又は共重合体を(A)成分として用いることができる。
上記モノマーの中でも、重合の容易さ、空気中での安定性の点から、ピロール、チオフェン、セレノフェン、テルロフェン、アニリン、多環式芳香族化合物、及びこれらの誘導体が好ましく、ピロール、チオフェン、アニリン、及びこれらの誘導体が特に好ましいが、これらに限定されない。
また、(A)成分の分子量としては、130〜5,000程度が好ましい。
本発明の導電性ポリマー材料は、(B)成分としてドーパントポリマーを含む。この(B)成分のドーパントポリマーは、スルホ基を有する繰り返し単位を含み、好ましくはα位がフッ素化されたスルホ基及びフッ素化された芳香族基に結合したスルホ基のいずれかもしくは両方を有するものであり、特には下記一般式(2)で示される繰り返し単位a1〜a4から選ばれる1種以上を含む超強酸性ポリマーであることが好ましい。
また、繰り返し単位a1〜a4、b、cを与えるモノマーを2種類以上用いる場合は、それぞれのモノマーはランダムに共重合されていてもよいし、ブロックで共重合されていてもよい。ブロック共重合ポリマー(ブロックコポリマー)とした場合は、2種類以上の繰り返し単位a1〜a4、b、cからなる繰り返し部分同士が凝集して海島構造を形成することによってドーパントポリマー周辺に特異な構造が発生し、導電率が向上するメリットが期待される。
なお、(B)成分のドーパントポリマーにおいては、分子量分布(Mw/Mn)は1.0〜2.0であることが好ましく、特に1.0〜1.5と狭分散であることが好ましい。狭分散であれば、これを用いた導電性ポリマー材料によって形成した導電膜の透過率が低くなるのを防ぐことができる。
なお、a1+a2+a3+a4+b+c=1であることが好ましい。
本発明の導電性ポリマー材料は、(C)成分として下記一般式(1)で示される両性イオン化合物を含む。
本発明の導電性ポリマー材料は、上述の(A)成分であるπ共役系ポリマーと(B)成分であるドーパントポリマー、及び(C)成分である両性イオン化合物を含むものである。(B)成分のドーパントポリマーは、(A)成分のπ共役系ポリマーに配位することで、複合体を形成する。
本発明の導電性ポリマー材料(溶液)の製造方法としては、特に限定されないが、例えば、上述の(A)成分であるπ共役系ポリマーと(B)成分であるドーパントポリマーを含む複合体溶液に、(C)成分である両性イオン化合物を添加することにより、製造することができる。
細粒化には、高い剪断力を付与できる混合分散機を用いることが好ましい。混合分散機としては、例えば、ホモジナイザ、高圧ホモジナイザ、ビーズミル等が挙げられ、中でも高圧ホモジナイザが好ましい。
高圧ホモジナイザを用いた分散処理としては、例えば、分散処理を施す前の複合体溶液を高圧で対向衝突させる処理、オリフィスやスリットに高圧で通す処理等が挙げられる。
(界面活性剤)
本発明では、基板等の被加工体への濡れ性を上げるため、界面活性剤を添加してもよい。このような界面活性剤としては、ノニオン系、カチオン系、アニオン系の各種界面活性剤が挙げられる。具体的には例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンカルボン酸エステル、ソルビタンエステル、ポリオキシエチレンソルビタンエステル等のノニオン系界面活性剤、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルベンジルアンモニウムクロライド等のカチオン系界面活性剤、アルキル又はアルキルアリル硫酸塩、アルキル又はアルキルアリルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩等のアニオン系界面活性剤、アミノ酸型、ベタイン型等の両性イオン型界面活性剤、アセチレンアルコール系界面活性剤、ヒドロキシ基がポリエチレンオキシド又はポリプロピレンオキシド化されたアセチレンアルコール系界面活性剤等を挙げることができる。
本発明では、導電性ポリマー材料の導電率向上を目的として、主要剤とは別に有機溶剤を添加してもよい。このような添加溶剤としては、極性溶剤が挙げられ、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、スルホラン及びこれらの混合物を挙げることができる。添加量は1.0〜30.0質量%であることが好ましく、特に3.0〜10.0質量%であることが好ましい。
本発明では、導電性ポリマー材料の水溶液中のpHの酸性を中和させるための(C)成分の添加を特徴とするが、これに加えて他の中和剤も添加してもよく、特開2006−96975公報中の段落(0033)〜(0045)記載の窒素含有芳香族性環式化合物、特許5264723記載の段落(0127)記載の陽イオンを添加してpHを中性にコントロールすることも出来る。溶液のpHを中性近くにすることによって印刷機に適用した場合に錆の発生を防止することが出来る。
上述のようにして得られた導電性ポリマー材料(溶液)は、基板等の被加工体に塗布することにより導電膜を形成できる。導電性ポリマー材料(溶液)の塗布方法としては、例えば、スピンコーター等による塗布、バーコーター、浸漬、コンマコート、スプレーコート、ロールコート、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷等が挙げられる。塗布後、熱風循環炉、ホットプレート等による加熱処理、IR、UV照射等を行って導電膜を形成することができる。
また、本発明では上述の本発明の導電性ポリマー材料によって導電膜が形成された基板を提供する。
基板としては、ガラス基板、石英基板、フォトマスクブランク基板、樹脂基板、シリコンウエハー、ガリウム砒素ウエハー、インジウムリンウエハー等の化合物半導体ウエハー、フレキシブル基板等が挙げられる。また、フォトレジスト膜上に塗布して帯電防止トップコートとして使用することも可能である。
また、このような導電性ポリマー材料によって形成された導電膜は、導電性、透明性等に優れるため、透明電極層として機能するものとすることができる。
(合成例1〜15)
窒素雰囲気下、メタノール中64℃で撹拌したモノマーを溶かした溶液に2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチルをメタノールに溶かした溶液を4時間かけて滴下し4時間撹拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下し、生じた固形物を濾過し50℃で15時間真空乾燥して、得られた白色重合体をメタノールに溶解し、イオン交換樹脂を用いてモノマーのカチオンを水素原子に交換してスルホ基に変換した。
このような方法で以下に示すドーパントポリマー1〜15を得た。
(調製例1)
3.82gの3,4−エチレンジオキシチオフェンと、12.5gのドーパントポリマー1を1,000mLの超純水に溶かした溶液とを30℃で混合した。
これにより得られた混合溶液を30℃に保ち、撹拌しながら、100mLの超純水に溶かした8.40gの過硫酸ナトリウムと2.3gの硫酸第二鉄の酸化触媒溶液とをゆっくり添加し、4時間撹拌して反応させた。
得られた反応液に1,000mLの超純水を添加し、限外濾過法を用いて約1,000mLの溶液を除去した。この操作を3回繰り返した。
そして、上記濾過処理が行われた処理液に200mLの10質量%に希釈した硫酸と2,000mLのイオン交換水を加え、限外濾過法を用いて約2,000mLの処理液を除去し、これに2,000mLのイオン交換水を加え、限外濾過法を用いて約2,000mLの液を除去した。この操作を3回繰り返した。
さらに、得られた処理液に2,000mLのイオン交換水を加え、限外濾過法を用いて約2,000mLの処理液を除去した。この操作を5回繰り返し、1.3質量%の青色の導電性ポリマー複合体分散液1を得た。
限外濾過膜の分画分子量:30K
クロスフロー式
供給液流量:3,000mL/分
膜分圧:0.12Pa
なお、他の調製例でも同様の条件で限外濾過を行った。
12.5gのドーパントポリマー1を10.0gのドーパントポリマー2に変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、過硫酸ナトリウムの配合量を5.31g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液2を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を12.0gのドーパントポリマー3に変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.72g、過硫酸ナトリウムの配合量を6.00g、硫酸第二鉄の配合量を1.60gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液3を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を11.8gのドーパントポリマー4に、8.40gの過硫酸ナトリウムを4.50gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.04g、硫酸第二鉄の配合量を1.23gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液4を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を11.0gのドーパントポリマー5に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液5を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を13.0gのドーパントポリマー6に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液6を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を12.8gのドーパントポリマー7に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液7を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を11.0gのドーパントポリマー8に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液8を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を10.8gのドーパントポリマー9に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液9を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を11.5gのドーパントポリマー10に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液10を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を12.8gのドーパントポリマー11に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液11を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を12.0gのドーパントポリマー12に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液12を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を11.9gのドーパントポリマー13に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液13を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を12.8gのドーパントポリマー14に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液14を得た。
12.5gのドーパントポリマー1を10.2gのドーパントポリマー15に、8.40gの過硫酸ナトリウムを5.31gの過硫酸アンモニウムに変更し、3,4−エチレンジオキシチオフェンの配合量を2.41g、硫酸第二鉄の配合量を1.50gに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液15を得た。
3.82gの3,4−エチレンジオキシチオフェンを3.87gの3,4−ジメトキシチオフェンに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液16を得た。
3.82gの3,4−エチレンジオキシチオフェンを4.62gの(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)メタノールに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液17を得た。
3.82gの3,4−エチレンジオキシチオフェンを4.16gの3,4−プロピレンジオキシチオフェンに変更する以外は調製例1と同様の方法で調製を行い、導電性ポリマー複合体分散液18を得た。
(実施例1〜18)
調製例1〜18で得た1.3質量%の導電性ポリマー複合体分散液1〜18を20g、ジフェニルヨードニウム−2−カルボキシラートの1水和物0.5g、ジメチルスルホキシド5g、界面活性剤兼消泡剤のサーフィノール465の0.5gをそれぞれ混合し、その後、孔径0.45μmの再生セルロースフィルター(ADVANTEC社製)を用いて濾過して導電性ポリマー材料を調製し、孔径0.45μmの再生セルロースフィルター(ADVANTEC社製)を用いて濾過し、それぞれ実施例1〜18とした。得られた導電性ポリマー材料のpHを表1に示す。
(比較例1)
調製例15で得た1.3質量%の導電性ポリマー複合体分散液15を20g、ジメチルスルホキシド5g、界面活性剤兼消泡剤のサーフィノール465の0.5gをそれぞれ混合し、その後、孔径0.45μmの再生セルロースフィルター(ADVANTEC社製)を用いて濾過して導電性ポリマー材料を調製し比較例1とした。得られた導電性ポリマー材料のpHは2.0であった。
調製例15で得た1.3質量%の導電性ポリマー複合体分散液15を20g、トリエタノールアミン0.23g、ジメチルスルホキシド5g、界面活性剤兼消泡剤のサーフィノール465の0.5gをそれぞれ混合し、その後、孔径0.45μmの再生セルロースフィルター(ADVANTEC社製)を用いて濾過して導電性ポリマー材料を調製し比較例2とした。得られた導電性ポリマー材料のpHは6.1であった。
調製例15で得た1.3質量%の導電性ポリマー複合体分散液15を20g、水酸化ナトリウム0.06g、ジメチルスルホキシド5g、界面活性剤兼消泡剤のサーフィノール465の0.5gをそれぞれ混合し、その後、孔径0.45μmの再生セルロースフィルター(ADVANTEC社製)を用いて濾過して導電性ポリマー材料を調製し比較例3とした。得られた導電性ポリマー材料のpHは6.2であった。
まず、導電性ポリマー材料を、1H−360S SPINCOATER(MIKASA製)を用いて膜厚が100±5nmとなるように、Siウエハー上に回転塗布(スピンコート)した。次に、精密高温機にて120℃、5分間ベークを行い、溶媒を除去することにより導電膜を得た。この導電膜に対して、入射角度可変の分光エリプソメーター VASE(J.A.ウーラム社製)で波長636nmにおける屈折率(n,k)を求めた。均一膜を形成できたものを○、屈折率の測定はできたが膜にパーティクル由来の欠陥や部分的にストリエーションが発生したものを×として表1に示す。
まず、直径4インチ(100mm)のSiO2ウエハー上に、導電性ポリマー材料1.0mLを滴下後、10秒後にスピンナーを用いて全体に回転塗布した。回転塗布条件は膜厚が100±5nmとなるよう調節した。精密高温機にて120℃、5分間ベークを行い、溶媒を除去することにより導電膜を得た。
また、得られた導電膜に低圧水銀灯の波長254nmの紫外線を、100mJ/cm2の露光量で照射し、100℃で90秒間ベークした。
塗布後の膜と、光照射後の膜の導電率(S/cm)は、Hiresta−UP MCP−HT450、Loresta−GP MCP−T610(いずれも三菱化学社製)を用いて測定した表面抵抗率(Ω/□)と膜厚の実測値から求めた。その結果を表1に示す。
得られた導電性ポリマー材料を溶液の状態で23℃、1ヶ月保存し、凝集物の発生が無いか確認した。また、保存後の導電性ポリマー材料を用い、上記濾過直後の塗布性評価と同様の方法で評価を行った。その結果を表1に示す。
Claims (11)
- 前記(B)成分が、α位がフッ素化されたスルホ基及びフッ素化された芳香族基に結合したスルホ基のいずれかもしくは両方を有するものであることを特徴とする請求項1に記載の導電性ポリマー材料。
- 前記(B)成分が、下記一般式(2)で示される繰り返し単位a1〜a4から選ばれる1種以上を含むものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の導電性ポリマー材料。
- 前記(B)成分が、ブロックコポリマーであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の導電性ポリマー材料。
- 前記(A)成分は、ピロール、チオフェン、セレノフェン、テルロフェン、アニリン、多環式芳香族化合物、及びこれらの誘導体からなる群から選択される1種以上の前駆体モノマーが重合したものであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の導電性ポリマー材料。
- 前記導電性ポリマー材料は、水又は有機溶剤に分散性をもつものであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の導電性ポリマー材料。
- 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の導電性ポリマー材料によって導電膜が形成されたものであることを特徴とする基板。
- 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の導電性ポリマー材料を基板上に塗布し、その後波長140〜400nmの光、又は電子線で露光することによって導電膜を形成することを特徴とする基板の製造方法。
- 前記導電膜が、透明電極層として機能するものであることを特徴とする請求項8に記載の基板。
- 前記導電膜が、透明電極層として機能するものであることを特徴とする請求項9に記載の基板の製造方法。
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