JP6272131B2 - 光モジュール - Google Patents

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Description

本発明は、光モジュールに関し、光通信用途の光半導体モジュール用パッケージ内における高周波伝送に関する。
近年のインターネット、IP電話、動画のダウンロードなどの利用拡大により、必要とされる通信容量が急速に高まっており、光ファイバや光通信用機器に搭載される光送受信装置(電気信号と光信号を相互に変換する光電変換器)の需要が拡大している。光送受信装置やそれを構成する部品は、プラガブル(pluggable)といった言葉で表現されるように、搭載や交換といった観点から扱いやすいように、仕様に基づくモジュール化が急速に進展している。XFP(10 Gigabit Small Form Factor Pluggable: 10ギガビット・イーサネット(登録商標)(10GbE)の着脱モジュールの業界標準規格の一つ)など光送信器モジュールに搭載される光源もモジュール化が進んでおり、TOSA(Transmitter Optical Sub−Assembly)と呼ばれ、代表的なモジュール形態として、箱型形状のTOSAモジュール(非特許文献1)が開発されている。同様に、受光素子もモジュール化が進んでおり、ROSA(Receiver Optical Sub−Assembly)と呼ばれている。
光送受信モジュールの需要は膨らむ一方である。需要の増加に従って、光モジュールの性能を落とすことなく、低コスト化への要求も大きくなっており、毎秒100ギガビッ伝送用TOSAモジュールの研究開発、毎秒400ギガビットといった超高速化に向けた標準化活動も活発であり、TOSAの高性能への要求は活発化の一途である。
XFP準拠の箱型TOSAの筺体は、焼結セラミックや金属からなっている。図1に典型的な箱型TOSAモジュールの外観を示す。筺体は、セラミック部分103と、金属部分104とを含む。金属台座上の金属部104の開口部にセラミック部分103を挿設して、筺体を構成する。筺体横に挿入されたセラミック部分の一部であるテラス部分101から筺体内部に向けて貫通する変調電気信号給電用配線端子102を少なくとも一つ設けた構造になっている。テラス部分101には、変調電気信号給電用端子102とは別に、DC給電用配線端子も筺体内部に向けて貫通している。
図2は、図1で示した箱型TOSAモジュールの筐体内部を示す図であり、筺体の金属部104を取り除き、筺体内部とともにセラミック部分103を示す図である。この筺体内部の構造は、本願発明の一実装形態を構成する。筺体内部の中央には、サブキャリアと呼ばれる薄板201が筺体から離れた位置に設置してある。このサブキャリア201は、誘電体材料に金属メッキまたは蒸着することにより配線パターンが形成され、レーザダイオード202や光変調器203、コンデンサー204や抵抗205などの光半導体デバイスに必要な素子が搭載される。サブキャリア201は、キャリア206と呼ばれる金属性の小板に載っており、キャリア206の下には筺体下部(金属台座)に接するTEC(Thermo−Electric Cooler、熱電冷却素子)207を搭載しており、サブキャリア201上の素子で発生した熱を吸熱し、筺体下部より排熱している。省電力化と部品点数削減の観点から、このTECを用いないTOSAの開発も行われている。
筺体の側面にはレンズ218または光取り出し用窓がつき、天板とともに抵抗溶接することなどで光半導体デバイスをパッケージ内に封止する。
筺体外部から内部へ貫通している変調電気信号給電用配線208とサブキャリア201(サブキャリアに形成された配線パターン)とは、従来、ワイヤ状金線209やリボン状金線210で導通をとっている。
図4(b)は従来のTOSAモジュールの変調電気信号給電線208を、図1のテラス部分101の方向から見た図である。GSGで示すのは高周波電気信号が通る主線路(主伝送線路)であり、Gはグランド線路、Sはシグナル(信号)線路である。
この方向から見ると、GSGの部分はいわゆるセラミック部上に形成されたコプレーナ型の伝送線路とみることが可能である。シグナルSは、図2におけるリボン状金線210によって、サブキャリア201上の(サブキャリアに形成された配線パターンのうちの)伝送線路211に接続され、グランドGはワイヤ状金線209によってサブキャリア201上の(サブキャリアに形成された配線パターンのうちの)グランドに接続される。
ところで、図3に示すように、駆動用ドライバIC301の信号やDC電源からの給電(ここでは図示しない)はフレキシブルプリント基板302を用いて行われるようになってきた。ここで、フレキシブルプリント基板302は、柔軟性があり大きく変形させることが可能なプリント基板であり、俗に、フレキあるいはFPC(Flexible Printed Circuits)とも呼ばれる。TOSAモジュールの筐体内部への変調用電気信号やDC給電もまたフレキシブル基板302を通して行われる。
Dongchurl Kim et.al., "Design and Fabrication of a Transmitter Optical Subassembly in 10-Gb/s Small-Form-Factor Pluggable Transceiver", IEEE JORNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS. VOL.12, No.4, pp776-782, JULY/AUGUST 2006
上述した通り、変調用電気信号は駆動用ドライバIC301からフレキシブル基板302を経てTOSA筐体のセラミック部を貫通し、筺体内側の伝送線路208、ワイヤ(209,210)、サブキャリア上の伝送線路211を経由して光半導体素子(202,203)へそしてその先の終端抵抗204へと届く。
駆動用ドライバIC301は出力インピーダンス50オームで駆動波形を送出するよう設計されており、したがって終端抵抗205も通常50オームに設定する。こうすることで、駆動ドライバIC301と終端抵抗205の2者に限っては互いにインピーダンス整合がとれた状態になっている。しかしながら、駆動ドライバIC301と終端抵抗205の間には、これまで述べてきたように、異種の伝送線路や素子構造のつなぎ合わせが存在するため、それぞれのつなぎ目では、電気的な不連続点は、インピーダンスが50オームから大きく逸脱した箇所となり得る。
XFP準拠のTOSA光モジュールの動作周波数は10GHzに及び、電気信号は波(マイクロ波)としての振る舞いを強くする。すなわち、インピーダンス整合していない不連続点(反射点)では、そこを起点とする反射波が発生し、この反射波は駆動ドライバIC301に向かって進行する。
駆動ドライバIC301からの電気信号が、変調電気信号の給電先である光半導体素子(202,203)に届くまでには、フレキシブル基板302、変調電気信号給電用配線208、ワイヤ210、サブキャリア上の伝送線路211を通過する必要がある。そのうち、本願で注目するのは、フレキシブル基板302ではなく、TOSAモジュールの線路、すなわち、変調電気信号給電用配線208の部分である。信号線路は、シグナル(信号)線路Sと基準となるグランド線路Gから構成される。理想的には、電気信号が、周波数によらず、より少ない共振による、伝送損失や反射損失、が少ないことが求められる。
そういった損失は、本願で着目する変調電気信号給電用配線208を中心とする部分で起こりやすく、周波数特性の劣化につながる。
図8は従来のTOSAモジュールの周波数特性を説明する図である。破線は、SパラメータのうちのS21(伝送特性)と呼ばれる成分の絶対値で、図4(b)のGSGに外部から入射した任意の周波数のマイクロ波パワーに対して、内部の光半導体素子(202,203)へ供給される程度をdB(デシベル)で表示したものである。図8から分かるように、8GHz付近、23.5GHz付近で大きく特性が劣化している。
一方、実線は、SパラメータのうちのS11(反射特性)と呼ばれる成分の絶対値で、図4(b)のGSGに外部から入射した任意の周波数のマイクロ波パワーに対して、入射方向に反射される程度をdB(デシベル)で表示したものである。図8から分かるように、8GHz付近、23.5GHz付近で大きく特性が劣化している。
上述のように、従来のTOSAモジュールは変調電気信号給電用配線に伝送損失や反射損失があり、周波数特性が劣化する問題があった。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、TOSAモジュールのような光モジュールの筐体を外側から内側へと貫通する電気信号を伝達する伝送線路(例えば、変調電気信号給電用配線端子102から変調電気信号給電用配線へ向かう伝送線路)の特性を向上させ、周波数特性が劣化しない光モジュールを提供することにある。
このような目的を達成するために、本願発明の第1の態様は、光モジュールである。光モジュールは、開口部を有する金属部及び開口部に挿設された誘電体部を有する筐体とを備える。筐体の外部と内部とを結ぶ線路基板が、誘電体部を貫くように設けられており、線路基板には、高周波電気信号を伝達する第1の伝送線路が設けられている。筐体に内部には、第2の伝送線路及び半導体素子が配設されたサブキャリアと設けられている。第1の伝送線路と第2の伝送線路とは電気的に接続され、第2の伝送線路と半導体素子は電気的に接続されている。第1の伝送線路の長手方向に垂直な方向に対する線路基板の厚さのうち、第1の伝送線路の下部の厚さは、第1の伝送線路の下部以外の厚さに比べて薄く構成されている。
一実施形態では、線路基板は、誘電体部からなり、第1の伝送線路の下部の線路基板の厚さが薄い部分に対応する筐体の部分は、金属部からなる。また、第1の伝送線路の下部の線路基板の厚さは、高周波電気信号の出力インピーダンスに対してインピーダンス整合する程度に薄く構成される。
一実施形態では、筐体内部の半導体素子は、光半導体素子であり、光半導体素子との間で入出力する光を筐体外部と光学接続する手段が備えられている。
以上説明したように、本発明によれば、光モジュールの筐体を外側から内側へと貫通する電気信号を伝達する伝送線路の特性を向上させ、周波数特性が劣化しない光モジュールを提供することができる。また、本発明によれば、光モジュールの筺体を貫通する伝送線路と筐体内部の伝送線路の伝送特性が向上し、光半導体素子を高効率で駆動でき、品質の高い(急峻な波形の立ち上がり・立下り、ジッタなどの波形乱れ)、光出力波形を得ることできる。
図1は従来のTOSAモジュールの外観を示す図である。 図2はTOSAモジュールの内部実装構成を示す図である。 図3はフレキシブルプリント基板を用いてTOSAモジュールの変調電気信号端子と駆動用ドライバICとを接続した様子を示す図である。 図4は、TOSAモジュールの構造を説明示す図であり、(a)は本発明の一実施形態に係るTOSAモジュールの構造を示す図であり、(b)は従来例のTOSAモジュールの構造を示す図である。 図5は、本発明の一実施形態に係るTOSAモジュールの構造を説明する為の図であり、図6のTOSAモジュールの構造を矢印の方向から見た図である。 図6は、本発明の一実施形態に係るTOSAモジュール(図5)の3次元透視図である。 図7は、3次元電磁界シミュレーションを用いて本発明の一実施形態に係るTOSAモジュール(図4(a))の構造におけるSパラメータの特性を解析した結果を示す図である。 図8は、3次元電磁界シミュレーションを用いて従来のTOSAモジュール(図4(b))の構造におけるSパラメータの特性を解析した結果を示す図である。 図9は、本発明の一実施形態に係るTOSAモジュールの構造におけるSパラメータ(図7)の位相の周波数依存性を示す図である。 図10は、従来のTOSAモジュールの構造のSパラメータ(図8)の位相の周波数依存性を示す図である。 図11は、TOSAモジュールの周波数8.5GHzでの電界強度の分布を示す図であり、(a)は本発明の一実施形態に係るTOSAモジュールの構造における電界強度の分布を示す図であり、(b)は従来のTOSAモジュールの構造における電界強度の分布を示す図である。 図12は、TOSAモジュールの周波数23.7GHzでの電界強度の分布を示す図であり、(a)は本発明の一実施形態に係るTOSAモジュールの構造における電界強度の分布を示す図であり、(b)は従来のTOSAモジュールの構造における電界強度の分布を示す図である。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。以下の種々の実施形態の説明においては、具体的な数値例を用いるが、本願発明は、このような具体的な数値例に限定されるものではなく、一般性を失うことは他の数値においても実施することもできることは言うまでもない。さらに、以下の種々の実施形態の説明においては、TOSAモジュールを例として説明するが、本願発明は、筐体内に発光素子や光変調の他、受光素子をともにパッケージした光モジュールとして実施することができることは言うまでもない。
図4(a)及び図5は、本願発明の一実施形態に係るTOSAモジュールの概略構成図である。本実施形態に係るTOSAモジュールは、セラミック(誘電体)部分501と、金属部分502とを備える。金属部分502は、金属台座503上に設けられ、開口部を有している。セラミック部分501は、複数の層を積層した構造とすることができ、金属部502の開口部に挿入して設けられている。セラミック部分501の一部の層(テラス部分)には、フレキシブル基板302(図3)との接続用リードピン504が形成されている。リードピン504の一部は、接続用リードピン504が形成された層の面(その上の層と境界面)に金を蒸着して形成された伝送線路(G,S,G)に接続されており、リードピン504の他の一部は、セラミック部分501に形成された金を蒸着した凹部505に接続されている。接続用リードピン504が形成された層の面に形成された伝送線路及びは別の層の面に形成された伝送線路、筐体の外部と内部を貫通する伝送線路を構成する。本実施形態において、セラミック部分501のうち、接続用リードピン504、凹部505、伝送線路が形成された部分を線路基板とも言う。
本実施形態に係るTOSAモジュールにおいては、セラミック部分501の伝送線路が形成された部分のうち、伝送線路(G,S,G)が形成された部分は、伝送線路(G,S,G)の下部の厚み(伝送線路の長手方法に垂直な方向)を薄くしている。従来のTOSAモージュール(図1)ではセラミック部分であったが、本発明の実施形態では、そこをえぐりとって、金属で置き換えた形となっている。本発明の実施形態では、セラミック部が金属部の開口部に挿設されるように、セラミック部分の厚みを薄くした部分に対応する金属部の開口部の幅(伝送線路の長手方法に垂直な方向の幅)が小さくなっている。
図5において、グランド線路G、シグナル線路S、グランド線路Gは高周波電気信号が通る主線路であり、コプレーナ型の伝送線路とみることが可能である。コプレーナ型伝送線路の下部のセラミック誘電体基板(線路基板)の厚さが薄い構造になっている。
薄い部分の厚みは例えば300〜500μmであり、これは例えば50オームにインピーダンス整合が取れるように最適設定される(典型値としては例えば350μmである)。しかしすべてが350μmでは基板としての強度が取れないために、他の部分(コプレーナ型の伝送線路が生成された部分以外の部分)では十分な厚みを持たせる(例えば1,000μm以上である)。
図6は、図5のTOSAモジュールの構造の3次元透視図であり、(a)は斜め前方から見た図であり、(b)は斜め後方から見た図である。以下、本実施形態のTOSAモジュールの構造の効果について以下に説明する。
図7及び図8は、3次元電磁界シミュレーションを用いて本実施形態のTOSAモジュールの構造(図4(a))及び従来のTOSAモジュールの構造(図4(b))の特性を解析した結果をそれぞれした図である。3次元電磁界シミュレーションでは、モデルを構成する物性データ及び構造寸法を厳密に入力し、計算機上に仮想的なマイクロ波伝送構造物を構築する。この仮想的なマイクロ波構造物をメッシュに分割し、そこにマクスウェル方程式を適用し、収束解を得る。数学的には、大規模な未知数を持つ一次元連立方程式を解くことに帰着されるが、電磁場の集中する度合いをメッシュの細かさを適応させることで、現実に起こる現象を精度よく予測・評価できることが特徴である。
図7及び図8は、Sパラメータの周波数応答特性と呼ばれるもので、上述の3次元電磁界シミュレーションから得られる解である。Sパラメータは複素数であり、マイクロ波構造物が入射マイクロ波に対してどのような応答をするか、すなわち、反射か透過かに対する全ての情報を持っている。図7は本実施形態のTOSAモジュールの構造(図4(a))に対するSパラメータである。破線は、SパラメータのうちのS21と呼ばれる成分の絶対値で、図4(a)のGSGに外部から入射した任意の周波数のマイクロ波パワーに対して、筐体内部の光半導体素子(202,203)に供給される程度をdB(デシベル)で表示したものである。S21は高ければ高いほど良い。一方、実線は、SパラメータのうちのS11と呼ばれる成分の絶対値で、図4(a)のGSGに外部から入射した任意の周波数のマイクロ波パワーに対して、入射方向に反射される程度をdB(デシベル)で表示したものである。S11は低ければ低いほど良い。図7からわかるように、S21、S11ともに周波数に対して依存性をもち、周波数が高くなるほど劣化する傾向にある。
この特性の良否を判断するために、従来のTOSAモジュールの構造(図4(b))に対する同様のSパラメータ(S21,S11)の解析結果を図8に示す。図8と比べると、図7は非常になめらかな特性を持つことがわかる。この後で順次示すが、このことは、従来構造では、伝送線路上を高周波が素直に伝搬していないことを示唆している。
従来構造に対する結果(図8)において、特に、一点破線線で囲った領域が、本実施形態野TOSAモジュールの構造により改善された結果(図7)と異なる部分である。Sパラメータは複素数なので、位相も重要である。図9に本実施形態のTOSAモジュール構造のSパラメータの周波数応答特性(図7)に対応する位相を、図10に従来のTOSAモジュール構造のSパラメータの周波数応答特性(図8)に対応する位相をそれぞれ示す。図9及び10を見ると、8GHz付近、23.5GHz付近に顕著な差が見られる。これらの周波数付近では、S21絶対値の大きな落ち込み、S21,S11の各位相の不自然な振る舞いが従来構造には見られるが、本本実施形態(図7、図9)では、S21絶対値落ち込みの減少または消失、規則的なS11位相の変化となっている。
この違いをより理解するために、以下では、高周波伝搬の様子を可視化したもの用いて示す。
図11は、図4(a)及び(b)のTOSAモジュール構造のリードピン側から見た、周波数8.5GHzにおける電界強度の分布を示す図であり、(a)は本実施形態のTOSAモジュール構造における電界強度の分布を等高線表示した図であり、(b)は従来のTOSAモジュール構造における電界強度の分布を等高線表示した図である。本実施形態のTOSAモジュール構造(図11(a))では、等高線が、GSG伝送線路付近に集中しているのに対し、従来のTOSAモジュール構造(図11(b))では、分布が広い範囲に広がってしまっていることが分かる。つまり、従来のTOSAモジュール構造は、電界の閉じ込めが悪く、周囲の構造の影響を受けやすい。実際に、この周波数(8.5GHz)は、従来のTOSAモジュール構造では、S21の絶対値が大きく劣化し(図8参照)、S11の位相(図10参照)もこの周波数近傍だけ反転してしまっている。
図12は、図4(a)及び(b)のTOSAモジュール構造のリードピン側から見た、周波数23.7GHzにおける電界強度の分布を示す図であり、(a)は本実施形態のTOSAモジュール構造における電界強度の分布を等高線表示した図であり、(b)は従来のTOSAモジュール構造における電界強度の分布を等高線表示した図である。図11に観られる傾向と同様の傾向が見て取れる。Sパラメータも従来のTOSAモジュール構造では、不規則な振る舞いするが(図8,10参照)、本実施形態のTOSAモジュール構造では改善されている(図7,9参照)ことが分かる。
以上の実施例から明らかなように、本発明の実施形態に係るTOSAモジュール構造によれば、伝送線路に沿って高周波電気信号の電界が閉じ込められ、その結果、周囲の構造に影響を与えることも、また影響を受けることもなく、従来のTOSAモジュール構造で起こっていた、特定の周波数における望ましくない共振状現象や、損失の増大を避けることが可能になる。
なお、上記説明では筐体の一部が金属部分502で構成される例を説明してきたが、金属部502をセラミックに替えても構わない。
101 テラス部分
102 変調電気信号給電用配線端子
103 セラミック部分
104 金属部
201 サブキャリア(薄板)
202 レーザダイオード
203 光変調器
204 コンデンサー
205 抵抗
206 キャリア(小板)
207 熱電冷却素子(TEC)
208 変調電気信号給電用配線
209 ワイヤ状金線
210 リボン状金線
211 伝送線路
218 レンズ
301 駆動用ドライバIC
302 フレキシブルプリント基板
501 セラミック部分
502 金属部
503 金属台座
504 接続用リードピン
505 溝
506 金属部

Claims (3)

  1. 開口部を有する金属部及び前記開口部に挿設された誘電体部を有する筐体と、
    前記誘電体部に貫設された、前記筐体の外部と内部とを結ぶ線路基板であり、高周波電気信号を伝達する第1の伝送線路を具備した線路基板と、
    前記筐体に内設された、第2の伝送線路及び半導体素子が配設されたサブキャリアと
    を備えた光モジュールであって、
    前記第1の伝送線路と第2の伝送線路とが電気的に接続され、前記第2の伝送線路と前記半導体素子が電気的に接続され、
    前記第1の伝送線路の長手方向に垂直な方向の前記線路基板の厚さであり前記第1の伝送線路の下部の厚さが、前記第1の伝送線路の下部以外の厚さに比べて薄前記第1の伝送線路の下部の前記線路基板の厚さは、前記高周波電気信号の出力インピーダンスに対してインピーダンス整合する厚さである、ことを特徴とする光モジュール。
  2. 前記線路基板は誘電体部からなり、
    前記第1の伝送線路の下部の前記線路基板の厚さが薄い部分に対応する前記筐体の部分は、前記金属部である、ことを特徴とする請求項1に記載の光モジュール。
  3. 前記半導体素子が光半導体素子であり、
    前記光半導体素子が出力する光または前記光半導体素子に入力する光を、前記筐体の外部と光学接続する手段を備えた、ことを特徴とする請求項1または2に記載の光モジュール。
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