JP6722155B2 - 終端回路および配線板 - Google Patents

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本発明は、終端回路および配線板に関し、より詳細には、半導体レーザと変調器とがモノリシックに一体化された半導体光集積素子などの高周波素子に高周波信号を供給するための終端回路、および高周波信号を供給する回路を接続するための配線板に関する。
近年、インターネット、IP電話、動画のダウンロードなどの利用拡大により、必要とされる通信容量が急速に高まっており、光ファイバ、光通信用機器に搭載される光送信器の需要が拡大している。光送信器またはそれを構成する部品は、プラガブル(Pluggable)と呼ばれ、搭載や交換がしやすいように、仕様によるモジュール化が急速に進展している。XFP(10 Gigabit Small Form Factor Pluggable)は、10ギガビット・イーサネット(10GbE)の着脱モジュールの業界標準規格の一つであり、この規格により光送信器モジュールに搭載される光源もモジュール化が進んでいる。これは、TOSA(Transmitter Optical Sub-Assembly)と呼ばれ、代表的なモジュール形態として、箱型形状のTOSAモジュールがある(例えば、非特許文献1参照)。
図1に、従来のTOSAモジュールの外観を示す。TOSAモジュール100の筐体は、XFP準拠により、焼結セラミックからなるセラミック部103と、金属部104により形成されている。この筺体を貫通するように、テラス部101が設けられており、筺体内部側に向けて貫通する配線端子102が形成されている。配線端子102は、変調器に供給する高周波信号、半導体レーザに供給するDC給電に用いられる。
図2に、従来のTOSAモジュールの内部構成の一部を示す。筐体200の底面上には、熱電冷却素子(TEC:Thermo-Electric Cooler)207を介して、キャリア206と呼ばれる金属性の小板が搭載されている。TEC207によって、キャリア206上の素子で発生した熱が吸熱され、筺体下部から排熱される。省電力化と部品点数削減の観点から、TEC207を用いないTOSAの開発も行われている。
キャリア206には、サブキャリアと呼ばれる薄板201が搭載されている。サブキャリア201には、誘電体材料に金属をメッキまたは蒸着することにより配線パターンが形成される。さらに、サブキャリア201には、光送信器に必要な素子、例えば、半導体レーザ202、光変調器203、終端抵抗204およびコンデンサ205などが搭載されている。テラス部212に設けられた配線端子208が、筺体外部から内部へ貫通しており、配線端子208とサブキャリア201の高周波配線211とは、ワイヤ状金線209、リボン状金線210で接続されている。
XFP準拠のTOSAモジュールの動作周波数は、10GHzにまで及んでおり、電気信号は波(マイクロ波)としての振る舞いが強くなる。すなわち、インピーダンス整合しない不連続点(反射点)では、そこを起点とする反射波が発生し、反射波が半導体レーザの駆動ドライバに向かって進行してしまう。このような状況から、従来は、配線端子208から終端抵抗204までの間の伝送線路において、不連続点(反射点)をなくすことが重要であった。
図3に、従来の半導体光集積素子を搭載したサブキャリアを示す(例えば、非特許文献2参照)。サブキャリア400には、信号線Sの両側に所定の距離を隔ててグラウンド(GND)パターンが対向配置されたコプレナ線路であって、50オームで設計された高周波配線401が形成されている。高周波配線401は、ワイヤ状金線403a,403bによって、EA変調器集積DFBレーザ(EML)402のEA変調器の電極パッド411に接続されている。さらに、ワイヤ状金線403cによって、電極パッド411と50オームの終端抵抗404とが接続されている。DFBレーザ電極412は、ワイヤ状金線403dによって、電極パッド405に接続されている。
図4に、従来の半導体光集積素子を搭載したサブキャリアにおいてフリップチップボンディングを用いた接続形態を示す。フリップチップボンディングは、実装基板上にチップを実装する方法の1つであり、チップ表面と基板とを電気的に接続する際、ワイヤボンディングのようにワイヤによって接続するのではなく、アレイ状に並んだ金バンプによって接続する。ワイヤボンディングに比べて配線が極めて短くなるため、高周波特性を改善することができる。
図4(a)に示すように、サブキャリア400上のEML402と高周波配線401とは、配線板300により接続される。図4(b)は、配線板300の底面の構成を示している。高周波配線401の信号線Sは、バンプ311、高周波配線301、バンプ312を介してEA変調器の電極パッド411と接続される。高周波配線401のGNDパターンは、バンプ313a,313bを介して、GND配線302に接続されている。
さらに、配線板300には、50オームの終端回路も形成されている。高周波配線301は、EA変調器の電極パッド411と接続されるバンプ312からさらに伸張され、50オームの終端抵抗303の一方の端子に接続される。終端抵抗303は、チップ抵抗を配線板に半田付けしてもよいし、配線板に作りこんでもよい。終端抵抗303は、寄生容量を少なくするためになるべく短くなるようにし、他方の端子は、GND配線302との間に隙間を設けずに両者を直結して、寄生成分が含まれないようにする。
このような構成により、寄生インダクタンス、寄生容量を減らすことにより、高周波特性を改善することを重要視している。
Dongchurl Kim et.al., "Design and Fabrication of a Transmitter Optical Subassembly in 10-Gb/s Small-Form-Factor Pluggable Transceiver", IEEE JORNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS. VOL. 12,No.4, JULY/AUGUST 2006, pp776-782 Chengzhi Xu, IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, VOL. 24, NO. 22, 2012
図4に示した構造は、高周波配線301と終端抵抗303とをそれぞれ50オームに設定することによりインピーダンス整合をとることができる。また、終端抵抗303を短くすることにより寄生インダクタンスを減らすことができる。しかしながら、従来の終端回路は、高周波配線301と終端抵抗303とのインピーダンス整合が考慮されているものの、高周波配線301に電気的に接続されるEA変調器を含むインピーダンス整合が考慮されていない。
EA変調器は、DFBレーザの光を吸収し、光損失を増大させることで変調を行う。一例として、印加電圧は、−3V(LOW)〜−0.5V(HIGH)であり、受光電流は15mA程度流れる。EA変調器を抵抗成分に換算すると200オームであり、50オーム線路から大きく外れる可能性がある。加えて、EA変調器の等価回路、高周波配線等には、キャパシタなど、虚部のインピーダンスを持つ寄生成分も含まれる。このため、一般的に、10GHzを超えるような高周波領域まで広帯域にインピーダンス整合を取るために、実部の値しか有しない抵抗体のみの終端回路では、インピーダンス整合させることは困難である。
本発明の目的は、広帯域にインピーダンス整合がなされた終端回路と、高周波信号を供給する回路を接続するための配線板を提供することにある。
本発明は、このような目的を達成するために、終端回路の一実施態様は、所定の特性インピーダンスを有する第1導体線路と、前記第1導体線路と接続される終端抵抗と、前記終端抵抗と接続される第2導体線路と、前記第1導体線路、前記終端抵抗および前記第2導体線路に対して、所定の距離を隔てて対向配置されるグラウンド配線と、前記第1導体線路と高周波素子とを接続するための第1のバンプと、前記第1のバンプを中心として所定の半径の円周上に配置され、前記高周波素子のグラウンド用電極と前記グラウンド配線とを接続するための複数の第2のバンプとを備え、前記第1のバンプを中心導体、前記第2のバンプを外部導体とする同軸線路に近似したとき、前記半径は、前記所定の特性インピーダンスとなる半径とは異なることを特徴とする。
また、配線板の一実施態様は、所定の特性インピーダンスを有する第1導体線路と、前記第1導体線路に対して、所定の距離を隔てて対向配置される第1のグラウンド配線が形成されたコプレナ線路を有する配線板であって、前記第1導体線路と所定の特性インピーダンスを有する第2導体線路とを接続するための第1のバンプと、前記第1のバンプを中心として所定の半径の円周上に配置され、前記第2導体線路と対向配置される第2のグラウンド配線と前記第1のグラウンド配線とを接続するための複数の第2のバンプとを備え、前記第1のバンプを中心導体、前記第2のバンプを外部導体とする同軸線路に近似したとき、前記半径は、前記所定の特性インピーダンスとなる半径とは異なることを特徴とする。
本発明によれば、第1のバンプを中心導体、第2のバンプを外部導体とする同軸線路に近似した形状によって、広帯域に精度の高いインピーダンス整合を図ることができる。
従来のTOSAモジュールを示す外観図である。 従来のTOSAモジュールの内部構成の一部を示す斜視図である。。 従来の半導体光集積素子を搭載したサブキャリアを示す上面図である。 従来の半導体光集積素子を搭載したサブキャリアにおいてフリップチップボンディングを用いた接続形態を示す図である。 本発明の第1の実施形態にかかる半導体光集積素子を搭載したサブキャリアに用いる配線板を示す図である。 第1の実施形態にかかる配線板の等価回路を示す図である。 本発明の第2の実施形態にかかるフリップチップボンディングを用いた接続形態を示す図である。 本発明の第3の実施形態にかかるフリップチップボンディングを用いた接続形態を示す図である。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。本実施形態によれば、EMLに代表される半導体光集積素子を搭載したサブキャリアにおいて、フリップチップボンディングに用いる配線板の終端回路に対して、さらなる高周波特性の改善を図ることができる。
(第1の実施形態)
図5に、本発明の第1の実施形態にかかる半導体光集積素子を搭載したサブキャリアに用いる配線板を示す。図5(a)は配線板500の斜視図であり、フリップチップボンディングにより接続されるEML402を合わせて示している。EML402は、信号用の電極パッド411およびグラウンド用の電極413が、共にEML402の上面に構成されている。信号用の電極パッド411は、バンプによって配線板500の高周波配線501のバンプ接続部511に接続され、グラウンド用の電極413は、GND配線502のバンプ接続部512に接続される。
図5(b)は、配線板500の底面の配線パターンを示す図である。高周波配線501(第1導体線路)は、GND配線502とともにインピーダンス特性が50Ωの導体線路である50Ω線路部521を構成し、50オームの終端抵抗503の一方の端子に接続される。高周波配線501は、終端抵抗503との接続部において、内側に曲がる折り曲げ形状513c−dを有する。例えば、線路幅が直線的に狭くなるテーパ形状となっており、インピーダンス遷移部522を構成する。
GND配線502も、インピーダンス遷移部522において、高周波配線501と同様にテーパ形状の折り曲げ形状513a−bを有する。これにより、インピーダンス遷移部522の特性インピーダンスは、終端抵抗503側に向かって、50Ωよりも大きくなるように変化する。
終端抵抗503が配置された部分も特性インピーダンスが50Ωよりも大きくなり、第1の高インピーダンス部523を構成する。終端抵抗503の他方の端子は、第2導体線路504を介してGND配線502に接続される。第2導体線路504は、対向するGND配線502との組み合わせによって、第2の高インピーダンス線路部524を構成する。第2の高インピーダンス線路部524は、スタブとして機能し、これにより、後述する周波数のピーキング量が調整されるようになっている。
図6に、第1の実施形態にかかる配線板の等価回路を示す。等価回路は、50Ω線路部521、インピーダンス遷移部522、第1の高インピーダンス線路部523、および第2の高インピーダンス線路部524が順に接続され、EML402のEA変調器は、50Ω線路部521とインピーダンス遷移部522との間に接続される。
この等価回路を用いてシミュレーションを行い、配線板500の配線パターンの各パラメータを決定し、インピーダンス整合がなされた終端回路を設計する。具体的には、三次元電磁解析シミュレータを利用して、終端抵抗503の長さl、終端抵抗503とGND配線502との間隔、および、第2の高インピーダンス線路部524の長さを変えて、EA変調器の入力信号強度を計算する。
終端抵抗503の長さlを変えることにより帯域幅が改善され、終端抵抗503とGND配線502との間隔を変えることによりピーキングの周波数が決まり、第2の高インピーダンス線路部524の長さを変えることによりピーキング量が決まる。例えば、10GbEのTOSAモジュールとして使用する場合、使用する周波数に合わせて、帯域、ピーキングを設定すれば、広帯域に精度の高いインピーダンス整合を実現することができる。
(第2の実施形態)
図7に、本発明の第2の実施形態にかかるフリップチップボンディングを用いた接続形態を示す。図7(a)は、配線板600の底面の構成を示し、図7(b)は、配線板600と対向して接続されるサブキャリア400上のEML402の上面の構成を示す。高周波配線601は、バンプ611を介してEA変調器の電極パッド411と接続され、GND配線602は、バンプ612a−fを介してグラウンド用電極413a−bに接続されている。配線板600は、第1の実施形態と同様に、50Ω線路部、インピーダンス遷移部、第1の高インピーダンス線路部、および第2の高インピーダンス線路部が順に形成されている。
第1の実施形態において、高周波配線501とEA変調器とを接続するバンプ接続部511は、特性インピーダンスの高い線路構造となっており、50Ω線路部、高インピーダンス線路、EA変調器の入力インピーダンス(例えば、200オーム程度)が縦続して接続されていることになる。
そこで、第2の実施形態では、バンプ611を中心にして、半径rの円周上に複数のバンプ612a−fが配置されるようにする。GND配線602は、バンプ612a−fを介してグラウンド用電極413a−bに接続される。このようにして、配線板600とEML402との接続面を、バンプ611を中心導体、バンプ612a−fを外部導体とする特性インピーダンス50オームの同軸線路に近似した構造とする。
第1の実施形態では、バンプ511の有する寄生インダクタンスにより、線路の周波数特性にピーキングが生じる。特性インピーダンスが50オームとなる半径をr0とすると、第2の実施形態では、r>r0として、寄生インダクタンスによる影響を調整する。すなわち、第1の実施形態と比較すると、バンプ611の有する寄生インダクタンスによる影響を少なくする一方、インダクタンス成分の強い同軸構造として、半径r0を調整することにより、任意のピーキング量に調整することができる(場合によっては、r<r0とすることもある)。
加えて、EML402の上面の電極パッド411とグラウンド用の電極413bとの間隔Lも、特性インピーダンス50オームの同軸線路に近似した構造とする。上述したように、特性インピーダンスが50オームとなる間隔をL0とすると、L>Lr0として、電極パッド411の有する寄生インダクタンスによるピーキング量を調整する点は、上述した半径r0の調整と同様である(場合によっては、L<Lr0とすることもある)。
本実施形態では、配線板によってEMLのEA変調器を接続する構成を例に説明したが、筺体外部から、高周波線路を介して、サブキャリア上の高周波素子に高周波信号を供給する場合に適用することができる。
(第3の実施形態)
図8に、本発明の第3の実施形態にかかるフリップチップボンディングを用いた接続形態を示す。図8(a)は、第1の配線板700の底面の構成を示し、図8(b)は、第1の配線板700と対向して接続される第2の配線板800の上面の構成を示す。高周波配線701は、バンプ711を介して第2の配線板800の電極パッド811と接続され、GND配線702a−bは、バンプ712a−hを介して第2の配線板800のGND配線802に接続されている。配線板700は、第1の実施形態と同様に、50Ω線路部、インピーダンス遷移部、第1の高インピーダンス線路部、および第2の高インピーダンス線路部が順に形成されている。
バンプ711を中心にして、半径rの円周上に複数のバンプ612a−hが配置され、第1の配線板700と第2の配線板800との接続面を、特性インピーダンス50オームの同軸線路に近似した構造とする。なお、バンプ811の有する寄生インダクタンスを相殺するために、特性インピーダンスが50オームとなる半径をr0とすると、第3の実施形態においても、r<r0として、容量成分の強い同軸構造とするのが好適である。
加えて、第2の配線板800の電極パッド811とGND配線802との間隔Lも、特性インピーダンス50オームの同軸線路に近似した構造とする。上述したように、特性インピーダンスが50オームとなる間隔をL0とすると、L<Lr0として、電極パッド811の有する寄生インダクタンスを相殺する。
このようにして、高周波線路同士の接続においても、広帯域に精度の高いインピーダンス整合を図るとともに、任意のピーキングに調整することができる。
100 TOSAモジュール
101,212 テラス部
102,208 配線端子
103 セラミック部
104 金属部
200 筐体
201,400 サブキャリア
202 半導体レーザ
203 光変調器
204,303,404,503 終端抵抗
205 コンデンサ
206 キャリア
207 TEC
209,403a−d ワイヤ状金線
210 リボン状金線
211,301,401,501,601,701,801 高周波配線
300,500,600,700,800 配線板
302,502,602,702,802 GND配線
311,312,313a−b,611,612a−f,711,712a−h バンプ
402 EA変調器集積DFBレーザ(EML)
405,411,811 電極パッド
412 DFBレーザ電極
413 グラウンド用電極

Claims (6)

  1. 所定の特性インピーダンスを有する第1導体線路と、
    前記第1導体線路と接続される終端抵抗と、
    前記終端抵抗と接続される第2導体線路と、
    前記第1導体線路、前記終端抵抗および前記第2導体線路に対して、所定の距離を隔てて対向配置されるグラウンド配線と、
    前記第1導体線路と高周波素子とを接続するための第1のバンプと、
    前記第1のバンプを中心として所定の半径の円周上に配置され、前記高周波素子のグラウンド用電極と前記グラウンド配線とを接続するための複数の第2のバンプとを備え
    前記第1のバンプを中心導体、前記第2のバンプを外部導体とする同軸線路に近似したとき、前記半径は、前記所定の特性インピーダンスとなる半径とは異なることを特徴とする終端回路。
  2. 前記第1導体線路および前記グラウンド配線は、それぞれ、前記終端抵抗側に向かって、線路幅が狭くなるように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の終端回路。
  3. 前記終端抵抗および前記第2導体線路の部分の特性インピーダンスは、前記グラウンド配線との組み合わせによって、前記第1導体線路の前記特性インピーダンスよりも高くなるように設定されていることを特徴とする請求項2に記載の終端回路。
  4. 前記第1導体線路および前記グラウンド配線において、前記線路幅は、テーパ形状により狭く形成されることを特徴とする請求項2または3に記載の終端回路。
  5. 所定の特性インピーダンスを有する第1導体線路と、
    前記第1導体線路に対して、所定の距離を隔てて対向配置される第1のグラウンド配線が形成されたコプレナ線路を有する配線板であって、
    前記第1導体線路と所定の特性インピーダンスを有する第2導体線路とを接続するための第1のバンプと、
    前記第1のバンプを中心として所定の半径の円周上に配置され、前記第2導体線路と対向配置される第2のグラウンド配線と前記第1のグラウンド配線とを接続するための複数の第2のバンプとを備え
    前記第1のバンプを中心導体、前記第2のバンプを外部導体とする同軸線路に近似したとき、前記半径は、前記所定の特性インピーダンスとなる半径とは異なることを特徴とする配線板。
  6. 前記第1導体線路と第2導体線路との間に終端抵抗が接続されて終端回路が構成され、前記第1導体線路および前記第1のグラウンド配線は、それぞれ、前記第2導体線路側に向かって、線路幅が狭くなるように形成されていることを特徴とする請求項に記載の配線板。
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