JP6270204B2 - 有機elデバイスの製造装置 - Google Patents
有機elデバイスの製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6270204B2 JP6270204B2 JP2014000981A JP2014000981A JP6270204B2 JP 6270204 B2 JP6270204 B2 JP 6270204B2 JP 2014000981 A JP2014000981 A JP 2014000981A JP 2014000981 A JP2014000981 A JP 2014000981A JP 6270204 B2 JP6270204 B2 JP 6270204B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chamber
- organic
- measurement
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 33
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 45
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 63
- 239000010408 film Substances 0.000 description 43
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 22
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Description
さらに、これらの問題を解決する際に低コストに対応したいという要求があった。
また、このようなセンサ位置の歪みに対して、再度成膜条件となっている処理室内部を大気開放してセンサ位置を修正しても、成膜時にまた支持位置が歪む(変動する)可能性があった。
1.マスクに対する測定精度を確保すること。
2.処理雰囲気におけるリーク発生や真空度の低下を低コストに防止すること。
3.メンテナンス性の低下を安価に防止すること。
前記複数のゾーンとして、
保持手段を用いて前記被処理体の裏面を保持する第一ゾーン、
前記保持手段により保持された前記被処理体の表面上に蒸着膜を形成する第二ゾーン、
前記保持手段から前記被処理体の保持を解除する第三ゾーン、
が順に並んで構成されており、
前記第一ゾーンにおいて、前記被処理体と前記保持手段との位置を計測する計測手段が設けられ、
前記計測手段が前記内部空間に対して密閉された大気ボックスに内蔵されて、該大気ボックスが支持部を介して前記成膜室に支持されるとともに、該支持部に対して、前記大気ボックスのXY方向で取り付け位置を測定する測定手段と、該測定手段の測定結果に基づいて前記大気ボックスの支持位置を調整する調整手段を有しており、
前記XY方向のうち、X方向は前記被処理体の搬送方向、Y方向は前記搬送方向に直交する前記被処理体の幅方向とする、ことにより上記課題を解決した。
本発明は、前記測定手段が、前記大気ボックスの前記支持部に対するXY方向で取り付け位置を測定するように直交して前記大気ボックスに垂設される測定面と、前記支持部側に設けられて前記測定面に対する距離を測定する位置センサとを有することが好ましい。
前記複数のゾーンとして、
保持手段(基板チャック)を用いて前記被処理体の裏面(一面)を保持する第一ゾーン、
前記保持手段により保持された前記被処理体の表面(他面)上に(陽極として機能するITOなどの)第一導電膜を蒸着し、前記第一導電膜上に正孔輸送層を蒸着し、前記正孔輸送層上に発光層を蒸着し、前記発光層上に電子輸送層を蒸着し、前記電子輸送層上に(陰極として機能する)第二導電膜を蒸着する第二ゾーン、
前記保持手段から前記被処理体の保持を解除する第三ゾーン、
が順に並んで構成されており、
前記第一ゾーンにおいて、前記被処理体と前記保持手段との位置を計測する計測手段が設けられ、
前記計測手段が前記内部空間に対して密閉された大気ボックスに内蔵されて、該大気ボックスが支持部を介して前記成膜室に支持されるとともに、該支持部に対して、前記大気ボックスのXY方向で取り付け位置を測定する測定手段と、該測定手段の測定結果に基づいて前記大気ボックスの支持位置を調整する調整手段を有していることにより、基板サイズが大型化した場合であってもこれに対応して、成膜室内の真空度の低下やリークを生じることなく、計測手段の取り付け状態が変動した場合でも処理室内の状態を変化させずに、例えば、真空状態を維持して、歪みによる計測手段の取り付け状態不具合発生を防止することができ、さらに、歪みが発生した場合でも計測手段の取り付け状態を容易に修正することができる。さらに、計測手段(光学系カメラ)におけるWD(Working distance)を所定の範囲内に設定して、マスクの位置計測を精度よくおこなうことを安価に可能とすることができる。また、メンテナンスの作業性の低下を防止し、製品コストの増大を防止することが可能となる。さらに、前記大気ボックスが密閉されていることにより、計測デバイス等の計測手段が良好に動作して精度よく測定することが可能となる。
図1は、本実施形態における有機ELデバイスの製造装置を示す模式正面図であり、図において、符号10は、有機ELデバイスの製造装置である。
計測手段(光学系カメラ)C00は、基板搬送部L1より下側位置に固設されることが好ましい。
計測手段C00は、水平面内で直交する2方向であるXY方向において、支持部20に対する前記大気ボックスの取り付け位置を測定する測定手段23,24と、測定手段23,24の測定結果に基づいて大気ボックスBOの支持位置を調整する調整手段26を有している。
後述するように、たとえば、基板(被処理体)Wの搬送方向(進行方向)HをX方向、これ(H:X方向)に直交する基板幅方向HbをY方向とする。ただし、本発明においては、X方向とY方向とが逆であっても構わない。
測定窓部Bbに光学的反射防止膜が設けられることができる。
また、測定手段23,24の測定結果に基づいて、計測手段C00に基板幅方向Hbまたは搬送方向Hにおいてずれ(歪み)が発生している場合には、大気ボックスBOの支持位置を調整手段26により調整する。大気ボックスBOの支持位置を調整終了した後、後述する有機ELデバイスの製造動作を開始する。
次いで、第一ゾーンZ1において、基板チャック(保持手段)Tを用いて基板(被処理体)Wの裏面(一面)を保持する。
この際、光学系カメラ(計測手段)C00によって、基板チャックTと基板Wとの位置を計測して所望の位置に設定する。
20…支持部
21…接続部
22…リファレンスベース
23,24…測定手段
23a,24a…位置センサ
23b,24b…測定面
23c,24c…固定部
26…調整手段
C00…計測手段
C01a…レンズ
Z1〜Z3…ゾーン
L1…基板搬送部(搬送手段)
BO…大気ボックス
Bb…計測窓部
H…搬送方向(進行方向)
Hb…基板幅方向
M…マスク
E…蒸着源
W…基板(被処理体)
T…基板チャック(保持手段)
S…チャンバ(成膜室)
S1…内部空間
XY…XYステージ(調整手段)
LED…照射手段
A1,B1…仕切りバルブ
Claims (2)
- 前段のプロセスを行う処理室Aと後段のプロセスを行う処理室Bとの間に設けられた、減圧可能な単一の内部空間を有する成膜室を備え、前記処理室Aから前記成膜室へ搬入された被処理体が、該成膜室の内部空間内に配された複数のゾーンを通過して前記処理室Bへ搬出されることにより有機ELデバイスを製造する装置であって、
前記複数のゾーンとして、
保持手段を用いて前記被処理体の裏面を保持する第一ゾーン、
前記保持手段により保持された前記被処理体の表面上に蒸着膜を形成する第二ゾーン、
前記保持手段から前記被処理体の保持を解除する第三ゾーン、
が順に並んで構成されており、
前記第一ゾーンにおいて、前記被処理体と前記保持手段との位置を計測する計測手段が設けられ、
前記計測手段が前記内部空間に対して密閉された大気ボックスに内蔵されて、該大気ボックスが支持部を介して前記成膜室に支持されるとともに、該支持部に対して、前記大気ボックスのXY方向で取り付け位置を測定する測定手段と、該測定手段の測定結果に基づいて前記大気ボックスの支持位置を調整する調整手段を有しており、
前記XY方向のうち、X方向は前記被処理体の搬送方向、Y方向は前記搬送方向に直交する前記被処理体の幅方向とする、ことを特徴とする有機ELデバイスの製造装置。 - 前記測定手段が、前記大気ボックスの前記支持部に対するXY方向で取り付け位置を測定するように直交して前記大気ボックスに垂設される測定面と、前記支持部側に設けられて前記測定面に対する距離を測定する位置センサとを有することを特徴とする請求項1記載の有機ELデバイスの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014000981A JP6270204B2 (ja) | 2014-01-07 | 2014-01-07 | 有機elデバイスの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014000981A JP6270204B2 (ja) | 2014-01-07 | 2014-01-07 | 有機elデバイスの製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015130262A JP2015130262A (ja) | 2015-07-16 |
JP6270204B2 true JP6270204B2 (ja) | 2018-01-31 |
Family
ID=53760859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014000981A Active JP6270204B2 (ja) | 2014-01-07 | 2014-01-07 | 有機elデバイスの製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6270204B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3076287B2 (ja) * | 1997-10-28 | 2000-08-14 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
JP4450589B2 (ja) * | 2003-09-09 | 2010-04-14 | 株式会社アルバック | 成膜装置 |
JP5126076B2 (ja) * | 2009-01-08 | 2013-01-23 | 富士通株式会社 | 位置測定装置、成膜方法並びに成膜プログラム及び成膜装置 |
CN102482760B (zh) * | 2009-09-15 | 2014-07-02 | 夏普株式会社 | 蒸镀方法和蒸镀装置 |
KR101146996B1 (ko) * | 2010-07-12 | 2012-05-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP2013239342A (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機el成膜装置及び搬送ロボットティーチング方法 |
-
2014
- 2014-01-07 JP JP2014000981A patent/JP6270204B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015130262A (ja) | 2015-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102125839B1 (ko) | 위치검출장치, 위치검출방법, 및 증착장치 | |
KR101223723B1 (ko) | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 | |
JP2016102255A (ja) | 光学位置合わせ補償装置、貼り合わせ度検出装置、蒸着システム及びその方法 | |
TWI401832B (zh) | Organic electroluminescent light making device, film forming apparatus and film forming method, liquid crystal display substrate manufacturing apparatus, and calibration apparatus and calibration method | |
KR102133900B1 (ko) | 얼라인먼트 시스템, 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스 제조방법 | |
US10276797B2 (en) | Vapor deposition device, vapor deposition method, and method for manufacturing organic electroluminescence element | |
JP6093091B2 (ja) | Xyステージ、アライメント装置、蒸着装置 | |
JP2010248583A (ja) | 成膜装置及び成膜システム | |
JP6679702B2 (ja) | 真空システム、基板搬送システム、電子デバイスの製造装置及び電子デバイスの製造方法 | |
JP2010165571A (ja) | 有機elデバイス製造装置、成膜装置及びそれらの成膜方法 | |
JP7271740B2 (ja) | 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
US8961690B2 (en) | Tooling carrier for inline coating machine, method of operating thereof and process of coating a substrate | |
JP6270204B2 (ja) | 有機elデバイスの製造装置 | |
KR102634162B1 (ko) | 마스크 교환시기 판정장치, 성막장치, 마스크 교환시기 판정방법, 성막방법 및 전자 디바이스의 제조방법 | |
JP2021066952A (ja) | 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法、および電子デバイスの製造方法 | |
JP2021028098A (ja) | ティーチング装置、基板搬送装置、基板処理装置、ティーチング方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
JP2015129326A (ja) | 有機elデバイスの製造装置 | |
JP6374531B2 (ja) | 基板表面上に材料をスパッタリングするためのスパッタリング装置 | |
JP2014065942A (ja) | 真空蒸着装置 | |
CN112342519A (zh) | 成膜系统、成膜系统的异常部位判别方法及计算机可读取的存储介质 | |
KR102578750B1 (ko) | 얼라인먼트 시스템, 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스 제조방법 | |
JP6270205B2 (ja) | 有機elデバイスの製造装置 | |
JP5879234B2 (ja) | マスク描画装置、電子ビームの補正方法 | |
KR102665607B1 (ko) | 얼라인먼트 장치, 얼라인먼트 방법, 성막 장치, 및 성막 방법 | |
JP2017509801A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161110 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170801 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170815 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6270204 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |