JP6261601B2 - リアルタイムで膜の歪みを割り出して欠陥寸法測定を行うための膜厚、屈折率、及び消衰係数の決定 - Google Patents
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- ウェハを検査するための方法であって、前記ウェハは、前記ウェハの表面に蒸着された膜を含み、前記膜は前記ウェハの前記表面にわたって変化する厚さを有し、前記方法は、
前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の前記厚さを測定するステップと、
前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率及び消衰係数を決定するステップと、
前記厚さ、屈折率、及び消衰係数に基づいて、膜の歪みを割り出すステップと、
少なくとも前記膜の歪みに基づいて、前記表面における欠陥寸法を決定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の前記厚さを測定するステップは、
複数の反射光信号を生成するために複数の光線によって前記ウェハをスキャンするステップと、
前記複数の反射光信号の強度を検出するステップと、
前記複数の反射光信号の強度を前記膜の厚さと相関付けるステップと、
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記方法がリアルタイムで実行される、
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の前記厚さを測定するステップは、
前記ウェハの前記表面上でスキャンされる反射光信号の偏光を測定するステップと、
前記厚さを決定するためにエリプソメトリ法を用いるステップと、
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率及び消衰係数を決定するステップは、
前記ウェハの前記表面上でスキャンされる反射光信号の偏光を測定するステップと、
前記屈折率及び消衰係数を決定するためにエリプソメトリ法を用いるステップと、
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記厚さ、屈折率、及び消衰係数に基づいて膜の歪みを割り出すステップは、前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率及び消衰係数を決定するステップと同時に実行される、
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記ウェハは、非パターン化ウェハである、
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記膜の歪みは、前記厚さ、屈折率、及び消衰係数の前記ウェハ上での位置の相違に基づいて変化する、
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - ウェハを検査するためのシステムであって、前記ウェハは前記ウェハの表面に蒸着された膜を含み、前記膜は前記ウェハの前記表面にわたって変化する厚さを有し、前記システムは、
前記ウェハに向かって光を投影するように配置された複数の光源と、
複数の検出器であって、前記複数の検出器の各検出器が前記ウェハから反射する光を測定するように構成され、前記複数の検出器の各検出器が、さらに、前記ウェハから反射する光の偏光を測定するように構成された、複数の検出器と、
プロセッサであって、前記複数の検出器と通信可能に接続され、前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率、消衰係数、及び膜厚を算出するように構成され、前記ウェハの厚さ、屈折率、及び消衰係数に基づいて膜の歪みを割り出すように構成され、さらに、前記膜の歪みに基づいて欠陥寸法を決定するように構成されたプロセッサと、
を備えるシステム。 - 前記プロセッサは、エリプソメトリ法を用いて前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率、消衰係数、及び膜厚を算出するように構成される、
ことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。 - 前記プロセッサは、さらに、前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率、消衰係数、及び膜厚を算出すると同時に、前記膜の歪みを割り出すように構成される、
ことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。 - 前記ウェハは、非パターン化ウェハである、
ことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。 - 前記プロセッサは、さらに、前記ウェハの前記表面にわたり前記膜の屈折率、消衰係数、及び前記膜厚を算出し、リアルタイムで前記ウェハの前記厚さ、屈折率、及び消衰係数に基づいて前記膜の歪みを割り出すように構成される、
ことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。 - 前記膜の歪みは、前記膜厚、屈折率、及び消衰係数の前記ウェハ上での位置の相違に基づいて変化する、
ことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。 - ウェハを検査するための方法であって、前記ウェハは前記ウェハの表面に蒸着された膜を含み、前記膜は、前記ウェハの前記表面にわたって変化する厚さを有し、前記方法は、
複数の反射光信号を生成するために複数の光線によって前記ウェハをスキャンするステップと、
前記複数の反射光信号の強度及び偏光を検出するステップと、
前記複数の反射光信号の前記強度及び前記偏光を、前記ウェハの前記表面にわたる前記膜の厚さ、屈折率、及び消衰係数と相関付けるステップと、
前記厚さ、屈折率、及び消衰係数に基づいて膜の歪みを割り出すステップと、
少なくとも前記膜の歪みに基づいて欠陥寸法を決定するステップと、
を含むことを特徴とする、方法。 - 前記方法は、リアルタイムで実行される、
ことを特徴とする、請求項15に記載の方法。 - 前記複数の反射光信号の前記強度及び前記偏光を、前記ウェハの前記表面にわたる前記膜の厚さ、屈折率、及び消衰係数と相関付けるステップは、エリプソメトリ法を用いて実行される、
ことを特徴とする、請求項15に記載の方法。 - 前記ウェハは、非パターン化ウェハである、
ことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
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