JP6261258B2 - 透明導電性支持体、タッチセンサ、およびその製造方法 - Google Patents
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Description
10 第一導電性膜層
11 微細な凹凸形状
20 第二導電性膜層
25 メッキ層
30 積層金属膜
32 第二導電性膜層側面断面の楔状の形状
33 第二導電性膜層側面断面の湾曲状の形状
40 透明支持体
50 レジスト層
51 基準点
55 微粒子
100 透明導電膜
200 引き回し回路
300 タッチセンサ
400 透明導電性支持体
Claims (9)
- 透明支持体の表面に第1導電性膜層を形成する工程と、
前記第1導電性膜層の上にレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層を露光現像して前記第1導電性膜層の一部が露出した溝を形成する工程と、
前記溝の側面を微細な凹凸状にする工程と、
露出した第1導電性膜層の上のみに第2導電性膜層を形成する工程と、
前記レジスト層を全て剥離して第1導電性膜層を露出する工程と、
露出した第1導電性膜層をエッチングにより除去する工程とを備えた、透明導電性支持体の製造方法。 - 透明支持体の表面に第1導電性膜層を形成する工程と、
前記第1導電性膜層の上にレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層を露光現像して引き回し回路パターンと微細な線状パターンとからなる溝を形成し前記第1導電性膜層の一部を露出する工程と、
前記線状パターンの溝の側面を微細な凹凸状にする工程と、
露出した第1導電性膜層の上のみに第2導電性膜層を形成する工程と、
前記レジスト層を全て剥離して第1導電性膜層を露出する工程と、
露出した第1導電性膜層をエッチングにより除去する工程とを備えた、タッチセンサの製造方法。 - 前記溝の断面形状を楔状または湾曲状にする工程をさらに含む、請求項1に記載の透明導電性支持体の製造方法。
- 前記溝の断面形状を楔状または湾曲状にする工程をさらに含む、請求項2に記載のタッチセンサの製造方法。
- 透明支持体と、
前記透明支持体の表面に形成された第1導電性膜層と、
前記第1導電性膜層の上に並列に接して形成されたレジスト層と第2導電性膜層とを備え、
前記レジスト層と前記第2導電性膜層とが接している面が微細な凹凸状である、支持体。 - 前記第2導電性膜層の断面形状が楔状または湾曲状である、請求項5に記載の支持体。
- 前記レジスト層に微細な微粒子が含有された、請求項5または請求項6に記載の支持体。
- 前記第2導電性膜層が微細な線状パターンに形成された、請求項5〜7のいずれかに記載の支持体。
- 前記第2導電性膜層の上に前記第2導電性膜層よりも耐食性に優れたメッキ層が積層されている、請求項5〜8のいずれかに記載の透明導電性支持体。
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