JP6242393B2 - 処理チャンバを排気するための方法および装置 - Google Patents
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Description
− 乾式1次真空ポンプであって、
・吸入孔および吐出孔と、
・吸入孔と吐出孔との間に配置された少なくとも1つの排気段と、
・前記排気段の中にパージガスを注入するようになっているパージ手段と、
・吐出孔に接続された排気ダクトと、
・排気ダクト内に配置された逆止弁とを有する乾式1次真空ポンプと、
− 逆止弁をバイパスしている線上に取り付けられたイジェクタであって、
・吸気口、排気口、および少なくとも1つの吸入ノズルを有するダクトと、
- ・動力ガスを注入し、少なくとも1つの吸入ノズルに対する動力ガスの注入を制御するための手段とを備えるイジェクタと、
− 乾式1次真空ポンプのパージ手段に接続され、ガス供給源に接続されるようになっている第1の弁具備装置とを備えている。
− 排気装置は、第2の弁具備装置を備え、この第2の弁具備装置は、逆止弁をバイパスしている線上で、イジェクタの上流に取り付けられている。
− 排気装置は、制御手段を備え、この制御手段は、処理チャンバの動作状態に応じて、第1および第2の弁具備装置を制御するようになっている。これにより、処理チャンバが真空限界動作になったときには、第1の弁具備装置は、少なくとも部分的に閉じられ、第2の弁具備装置は、開かれる。
− 処理チャンバが真空限界動作になると、パージ手段の供給ガスの流量は、20〜200sccm(または、33〜333 Pa・L/s)になる。
− 第1の弁具備装置は、三方電磁弁を備えている。
− イジェクタは、多段イジェクタである。
− 第1の弁具備装置は、制御手段によって制御可能な、少なくとも1つの電磁弁を備えている。
− 乾式1次真空ポンプは、複数の排気段を備え、パージ手段は、各排気段にパージガスを分配するための複数の分岐を備え、第1の弁具備装置は、複数の電磁弁を備え、各電磁弁は、それぞれの各分岐に配置されている。
− 制御手段は、処理チャンバが真空限界動作になったときには、第1の排気段以外の排気段に関連付けられている第1の弁具備装置の電磁弁を、少なくとも部分的に閉じて、第1の排気段の第1の弁具備装置の電磁弁を開くようになっている。
− 第2の弁具備装置は、制御手段によって制御可能な電磁弁を備えている。
− 電磁弁の電源は、処理チャンバのスイッチに接続されている。
− 第2の弁具備装置は、較正された逆止弁を備え、この逆止弁は、イジェクタが起動されると開かれる。制御手段は、処理チャンバの動作状態に応じて、イジェクタを起動させるようになっている。
[0019]
本発明の他の特徴および利点は、非限定的な実施例、および図面により示されている以下の説明を読むことにより、明らかになると思う。
2 処理チャンバ
3 乾式1次真空ポンプ
4 補助排気手段
4a ダイヤフラムポンプ
4b イジェクタ
5 第1の弁具備装置
5a 第1の電磁弁
5b 3方弁
6 第2の弁具備装置
6a、逆止弁
6b 第2の電磁弁
7a 第1の電気結線
7b 第2の電気結線
7c 第3の電気結線
8 吸入孔
9 吐出孔
10a、10b、10c、10d、10e 排気段
11 パージ手段
12 排気ダクト
13 逆止弁
14 ガス供給器
15 動力ガス分配ネットワーク
16 吸気孔
17 排気孔
18a、18b、18c 吸入ノズル
19 第1のチャネル
20 第2のチャネル
21 弁
22 ダクト
F 矢印(排気方向)
Claims (12)
- 処理チャンバ(2)に接続されるようになっている排気装置であって、
− 乾式1次真空ポンプ(3)であって
・吸入孔(8)および吐出孔(9)と、
・吸入孔(8)と吐出孔(9)との間に配置された少なくとも1つの排気段(10a、10b、10c、10d、10e)と、
・前記排気段(10a、10b、10c、10d、10e)の中にパージガスを注入するようになっているパージ手段(11)と、
・吐出孔(9)に接続された排気ダクト(12)と、
・排気ダクト(12)の中に配置された逆止弁(13)とを有する乾式1次真空ポンプ(3)と、
− 逆止弁(13)をバイパスする線上に取り付けられているイジェクタ(4b)であって、
・吸気口(16)と、排気口(17)と、少なくとも1つの吸入ノズル(18a、18b、18c)とを有するダクト(22)と、
・動力ガスを注入して、吸入ノズル(18a、18b、18c)の少なくとも1つに対する動力ガスの注入を制御する手段とを備えるイジェクタ(4b)と、
− 乾式1次真空ポンプ(3)のパージ手段(11)に接続され、ガス供給器(14)に接続されるようになっている第1の弁具備装置(5)とを備える排気装置において、乾式1次真空ポンプのパージ手段(11)に接続されている第1の弁具備装置(5)は、動力ガスを注入するための手段にも接続され、ガス供給器(14)を、乾式1次真空ポンプ(3)のパージ手段(11)から、イジェクタ(4b)の動力ガスを注入のための手段に、少なくとも部分的に切り替えるようになっており、
前記乾式1次真空ポンプ(3)は、複数の排気段(10a、10b、10c、10d、10e)を備え、パージ手段(11)は、各排気段(10a、10b、10c、10d、10e)のおのおのに対してパージガスを分配するための複数の分岐を備え、第1の弁具備装置(5)は、複数の電磁弁(5a)を備え、各電磁弁(5a)は、それぞれの分岐の中に配置されていることを特徴とする排気装置。 - 逆止弁(13)をバイパスする線上で、イジェクタ(4b)の上流に取り付けられている第2の弁具備装置(6)と、処理チャンバ(2)の動作状態に応じて、第1の弁具備装置および第2の弁具備装置(5、6)を制御するようになっている制御手段とを備えていることを特徴とする、請求項1に記載の排気装置。
- 第1の弁具備装置(5)は、3方電磁弁(5b)を備えていることを特徴とする、請求項1または2に記載の排気装置。
- イジェクタ(4b)は、多段イジェクタであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の排気装置。
- 第1の弁具備装置(5)は、制御手段によって制御可能な、少なくとも1つの電磁弁(5a、5b)を備えていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の排気装置。
- 制御手段は、処理チャンバ(2)が真空限界動作になると、第1の排気段(10a)以外の排気段(10b、10c、10d、10e)と関連する第1の弁具備装置(5)の電磁弁(5a)を少なくとも部分的に閉じて、第1の排気段(10a)の第1の弁具備装置(5)の電磁弁(5a)を開くようになっていることを特徴とする、請求項2を引用する請求項5に記載の排気装置。
- 第2の弁具備装置(6)は、制御手段によって制御可能な電磁弁(6b)を備えていることを特徴とする、請求項2又は請求項2を引用する請求項3〜6のいずれか1項に記載の排気装置。
- 電磁弁(5a、5b、6b)の電源は、処理チャンバ(2)のスイッチに接続されていることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか1項に記載の排気装置。
- 第2の弁具備装置(6)は、イジェクタ(4b)が起動されると開く、較正された逆止弁(6a)を備えていることを特徴とする、請求項2又は請求項2を引用する請求項3〜6のいずれか1項に記載の排気装置。
- 処理チャンバに接続された、請求項1〜9のいずれか1項に記載の排気装置(1)を使用して処理チャンバを排気するための方法であって、処理チャンバ(2)が真空限界動作になると、イジェクタ(4b)を起動させることによって、乾式1次真空ポンプ(3)のパージ手段(11)に対するガス供給は、減少され、乾式1次真空ポンプ(3)の吐出孔(9)に接続された排気ダクト(12)の中の圧力は、低減され、イジェクタ(4b)の動力ガスを注入するための前記手段には、乾式1次真空ポンプ(3)のパージ手段(11)からガスが供給されることを特徴とする排気方法。
- イジェクタ(4b)は、処理チャンバ(2)が真空限界動作になったときにだけ起動されることを特徴とする、請求項10に記載の排気方法。
- 処理チャンバ(2)が真空限界動作中であるときには、パージ手段(11)に対する供給ガス(14)の流量は、20〜200sccmであることを特徴とする、請求項10または11に記載の排気方法。
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