JP2000195802A - 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置 - Google Patents

減圧排気システムおよび減圧気相処理装置

Info

Publication number
JP2000195802A
JP2000195802A JP10367231A JP36723198A JP2000195802A JP 2000195802 A JP2000195802 A JP 2000195802A JP 10367231 A JP10367231 A JP 10367231A JP 36723198 A JP36723198 A JP 36723198A JP 2000195802 A JP2000195802 A JP 2000195802A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
exhaust
oil mist
reduced
decompression
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10367231A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuru Kamata
満 鎌田
Daisuke Imanishi
大介 今西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10367231A priority Critical patent/JP2000195802A/ja
Publication of JP2000195802A publication Critical patent/JP2000195802A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オイルミストの飛散を極力抑えることがで
き、安定稼働が可能で、稼働効率が高い減圧排気システ
ムおよび減圧気相処理装置を提供する。 【解決手段】 減圧MOCVD装置の反応器8に、減圧
ポンプ1を有し、かつ、減圧ポンプ1の排気側の排気用
配管3bに、直列接続された2つのオイルミストトラッ
プ7が設けられた減圧排気システムを接続する。排気用
配管3bは除害装置に接続する。他の例では、減圧ポン
プ1の排気側に、並列に2つの排気用配管3bを接続
し、それぞれの排気用配管3bに2つのオイルミストト
ラップ7を直列に接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は減圧排気システム
および減圧気相処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】減圧気相成長装置、特に、減圧有機金属
化学気相成長(MOCVD)装置は、反応器を減圧する
ための減圧排気システムを有している。図3は、従来の
減圧排気システムおよびこの従来の減圧排気システムを
用いた減圧MOCVD装置の構成例を示す略線図であ
る。
【0003】図3に示すように、従来の減圧排気システ
ムは、減圧手段として例えばロータリーポンプやドライ
ポンプのような減圧ポンプ101を有している。減圧ポ
ンプ101の吸気側にはバタフライバルブ102が設け
られている。バタフライバルブ102はその開閉角度が
可変であり、圧力制御手段としての役割を有している。
また、減圧ポンプ101の吸気側および排気側には、そ
れぞれ、排気用配管103aおよび排気用配管103b
が接続されている。
【0004】バタフライバルブ102の上流側にあたる
排気用配管103aには、ゲートバルブV101 およびエ
アオペレートバルブV102 が設けられている。ゲートバ
ルブV101 はメインの排気経路の開閉を行うためのもの
であり、エアオペレートバルブV102 は補助用の排気経
路の開閉を行うためのものである。
【0005】この減圧排気システムの吸気側の排気用配
管103aには、圧力をモニターするための圧力計10
4が設けられている。この圧力計104の出力は圧力コ
ントローラ(図示せず)に供給されている。この圧力コ
ントローラは、圧力計104からの圧力信号をもとに、
バタフライバルブ102の開閉角度を調節するためのも
のである。符号105は、バイパス用配管を示す。この
バイパス用配管105は、この減圧排気システムの吸気
側の排気用配管103aから分岐している。このバイパ
ス用配管105には、エアオペレートバルブV103 およ
び差圧計106が設けられている。エアオペレートバル
ブV103 の開閉は差圧計106により制御されている。
【0006】この減圧排気システムの排気側の排気用配
管103bにはオイルミストトラップ107が設けられ
ている。このオイルミストトラップ107は、減圧ポン
プ101で発生したオイルミストなどが、排気用配管1
03bを通じて下流側に飛散するのを防止するためのも
のである。
【0007】上述のように構成された、この従来の減圧
排気システムを減圧MOCVD装置に用いる場合には、
この減圧排気システムの吸気側の排気用配管103a
を、減圧MOCVD装置の反応器108に接続し、排気
側の排気用配管103bおよびバイパス用配管105
を、除害装置(図示せず)に接続する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
減圧排気システムでは、減圧ポンプ101の排気側にオ
イルミスト飛散防止用のオイルミストトラップ107が
設けられているものの、この方法ではオイルミストを十
分にトラップしきれず、下流側に少なからずオイルミス
トが飛散してしまう。このため、減圧ポンプ101の下
流側に飛散したオイルが溜まり、排気用配管103bに
配管詰まりが生じるという問題があった。また、この配
管詰まりによって減圧ポンプ101の能力が低下するた
め、この従来の減圧排気システムが接続された減圧MO
CVD装置では、反応器108内の圧力の制御性が低下
し、その悪影響が、成長させる化合物半導体の品質にま
で及ぶという問題があった。
【0009】さらに、オイルミストトラップ107でト
ラップしきれずに下流側に飛散したオイルミストは、排
気用配管103bを通じて除害装置にまで達するため、
除害装置の処理能力が低下したり、除害装置内のダスト
フィルタや配管に詰まりが生じるなどの問題があった。
【0010】また、配管詰まりが生じた場合などは、装
置の稼働を停止して部品の交換や修理などのメンテナン
スを行わなければならず、装置の稼働効率が低下すると
いう問題もあった。
【0011】以上は、従来の減圧排気システムを減圧M
OCVD装置に用いた場合についてであるが、上述の問
題は減圧MOCVD装置以外にも、拡散装置やアニール
装置などの他の減圧気相処理装置に用いた場合について
も起こり得るものである。
【0012】したがって、この発明の目的は、オイルミ
ストの飛散を極力抑えることができ、安定稼働が可能
で、稼働効率が高い減圧排気システムおよび減圧気相処
理装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第1の発明による減圧排気システムは、
減圧ポンプを有し、減圧ポンプの排気側に、直列接続さ
れた複数のオイルミスト除去手段が設けられていること
を特徴とするものである。
【0014】この発明の第2の発明による減圧気相処理
装置は、処理室と、処理室に接続された減圧排気システ
ムとを有し、減圧排気システムは、減圧ポンプを有し、
かつ、減圧ポンプの排気側に、直列接続された複数のオ
イルミスト除去手段が設けられたものであることを特徴
とするものである。
【0015】上述のように構成されたこの発明によれ
ば、減圧ポンプの排気側に、直列接続された複数のオイ
ルミスト除去手段が設けられていることにより、1段目
のオイルミスト除去手段で除去しきれなかったオイルミ
ストを、2段目以降のオイルミスト除去手段で除去する
ことができるので、下流側へのオイルミストの飛散を極
めて効果的に抑制することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。なお、実施形態の全図
において、同一または対応する部分には同一の符号を付
す。
【0017】まず、この発明の第1の実施形態について
説明する。図1は、この第1の実施形態による減圧排気
システムおよびこの減圧排気システムを用いた減圧MO
CVD装置の構成例を示す。
【0018】図1に示すように、この減圧排気システム
は、減圧手段として例えばロータリーポンプやドライポ
ンプのような減圧ポンプ1を有している。減圧ポンプ1
の吸気側にはバタフライバルブ2が設けられている。バ
タフライバルブ2はその開閉角度が可変であり、圧力制
御手段としての役割を有している。また、減圧ポンプ1
の吸気側および排気側には、それぞれ、排気用配管3a
および排気用配管3bが接続されている。
【0019】バタフライバルブ2の上流側にあたる排気
用配管3aには、ゲートバルブV1およびエアオペレー
トバルブV2 が設けられている。ゲートバルブV1 はメ
インの排気経路の開閉を行うためのものであり、エアオ
ペレートバルブV2 は補助用の排気経路の開閉を行うた
めのものである。
【0020】この減圧排気システムの吸気側の排気用配
管3aには、圧力をモニターするための圧力計4が設け
られている。この圧力計4の出力は圧力コントローラ
(図示せず)に供給されている。この圧力コントローラ
は、圧力計4からの圧力信号をもとに、バタフライバル
ブ2の開閉角度を調節するためのものである。符号5
は、バイパス用配管を示す。このバイパス用配管5は、
この減圧排気システムの吸気側の排気用配管3aから分
岐している。このバイパス用配管5には、エアオペレー
トバルブV3 および差圧計6が設けられている。エアオ
ペレートバルブV3の開閉は差圧計6により制御されて
いる。
【0021】この減圧排気システムの排気側の排気用配
管3bには、直列接続された2つのオイルミストトラッ
プ7が設けられている。これらのオイルミストトラップ
7は、減圧ポンプ1で発生したオイルミストなどが、排
気用配管3bを通じて下流側に飛散するのを防止するた
めのものである。この減圧排気システムにおいて、これ
らの2つのオイルミストトラップ7には、例えば互いに
ほぼ等しいトラップ能力を有するものが用いられてい
る。また、個々のオイルミストトラップ7のトラップ能
力は、例えば図3に示した従来の減圧排気システムにお
けるオイルミストトラップ107と同等の能力に選ばれ
ている。したがって、この減圧排気システムにおけるオ
イルミストのトラップ効果は、上述のように減圧ポンプ
1の排気側(下流側)に2つのオイルミストトラップ7
が直列に接続されていることにより、従来の減圧排気シ
ステムに比べて高いものとなっている。
【0022】上述のように構成されたこの減圧排気シス
テムを、減圧MOCVD装置に用いる場合には、この減
圧排気システムの吸気側の排気用配管3aを、減圧MO
CVD装置の反応器8に接続し、排気側の排気用配管3
bおよびバイパス用配管5を、除害装置(図示せず)に
接続する。また、必要に応じて、反応器8からの生成物
による減圧ポンプ1への悪影響を抑制するために除塵フ
ィルタ(図示せず)を設けてもよい。
【0023】次に、上述のように構成されたこの減圧排
気システムによる反応器8の減圧方法の一例について説
明する。減圧される前の反応器8には、所定流量のH2
ガスなどのキャリアガスが導入されており、この反応器
8の内部の圧力はほぼ大気圧にされている。このとき、
この減圧排気システムにおいては、二つの排気ユニット
のゲートバルブV1 およびエアオペレートバルブV2
いずれも閉じられ、バイパス用配管5のエアオペレート
バルブV3 が開かれている。したがって、反応器8に導
入されているキャリアガスは、バイパス用配管5を通じ
て除害装置(図示せず)に導入されている。
【0024】この反応器8を減圧する場合には、まず、
エアオペレートバルブV3 が閉じられバイパス用配管5
が遮断される。これとほぼ同時にエアオペレートバルブ
2が開かれ、減圧ポンプ1による反応器8の減圧が開
始される。これにより、反応器8の内部の圧力は徐々に
低下していく。
【0025】そして、反応器8の内部が所定の圧力に達
したところで、減圧MOCVD装置では、反応器8に供
給するキャリアガスの流量を増加させる。これととも
に、この減圧排気システムでは、ゲートバルブV1 が開
かれ、反応器8の内部は本格的な減圧状態にされる。こ
のとき、エアオペレートバルブV2 は開かれたままであ
ってもよい。
【0026】そして、反応器8の内部の圧力がさらに低
下し、所定の圧力に達したところで、減圧MOCVD装
置では、反応器8に供給するキャリアガスの流量をさら
に増加させ、最終的に必要な流量とする。これととも
に、この減圧排気システムでは、反応器8内の圧力を成
長に必要な圧力(成長圧力)まで下げるために、圧力計
4からの圧力信号が供給されている圧力コントローラ
(図示せず)の制御のもと、バタフライバルブ2の動作
を開始する。
【0027】これにより、反応器8内の圧力が自動制御
状態となり、やがて所定の成長圧力に達する。また、反
応器8内の成長圧力が変動した場合には、上述の圧力コ
ントローラにより二つのバタフライバルブ2に対してフ
ィードバックがかけられる。これにより、反応器8内の
成長圧力がほぼ一定になるように制御される。
【0028】上述のように構成されたこの第1の実施形
態によれば、減圧ポンプ1の排気側に、直列接続された
2つのオイルミストトラップ7が設けられ、1段目(上
流側)のオイルミストトラップ7でトラップしきれなか
ったオイルミストを、2段目(下流側)のオイルミスト
トラップ7でトラップするようにしているので、オイル
ミストをほぼ完全に除去することができ、下流側へのオ
イルミストの飛散を極めて効果的に抑制することができ
る。これにより、排気側の排気用配管3bの配管詰まり
や、この配管詰まりに起因する減圧ポンプ1の能力低下
を防止することができる。また、排気用配管3bを通じ
て除害装置に侵入するオイルミストが、ほとんど問題と
ならないレベルにまで低減されるので、除害装置の処理
能力が低下するのを防止することができると共に、除害
装置内のダストフィルタや配管に詰まりが生じるのを防
止することができる。したがって、減圧排気システムお
よび減圧MOCVD装置を安定的に稼働させることがで
きると共に、減圧排気システムおよび減圧MOCVD装
置の安全性を向上させることもできる。
【0029】また、減圧排気システムにおいて配管詰ま
りが防止されることにより、従来に比べて、装置の稼働
停止を伴うようなメンテナンスの発生頻度が少なくて済
むので、減圧MOCVD装置の稼働効率を向上させるこ
とができる。
【0030】また、減圧排気システムにおいて減圧ポン
プ1の能力低下が防止されることにより、減圧動作を安
定的に行うことができるので、反応器8内の圧力の制御
性を向上させることができる。これにより、この減圧M
OCVD装置を用いて行われる処理(成長)の品質を向
上させることができる。
【0031】次に、この発明の第2の実施形態について
説明する。図2は、この第2の実施形態による減圧排気
システムおよびこの減圧排気システムを用いた減圧MO
CVD装置の構成例を示す。
【0032】図2に示すように、この減圧排気システム
においては、減圧ポンプ1の排気側に、例えば互いにほ
ぼ等しいコンダクタンスを有する2つの排気用配管3b
が並列に接続されている。この場合、排気側の各排気経
路のコンダクタンスは、第1の実施形態による減圧排気
システムの排気側の排気用配管3bのコンダクタンスと
同等に選ばれている。そして、これらの排気側の排気用
配管3bのそれぞれに、2つのオイルミストトラップ7
が直列に接続されている。この減圧排気システムにおい
て、全部で4つあるオイルミストトラップ7には、例え
ば互いにほぼ等しいトラップ能力を有するものが用いら
れている。また、個々のオイルミストトラップ7のトラ
ップ能力は、例えば図3に示した従来の減圧排気システ
ムにおけるオイルミストトラップ107と同等の能力に
選ばれている。したがって、この減圧排気システムにお
けるトータルでのオイルミストのトラップ効果は、従来
の減圧排気システムより高いのは勿論のこと、第1の実
施形態による減圧排気システムと比べても高められてい
る。この減圧排気システムのその他の構成は、第1の実
施形態による減圧排気システムと同様であるので、説明
を省略する。
【0033】上述のように構成されたこの減圧排気シス
テムを、減圧MOCVD装置に用いる場合には、この減
圧排気システムの吸気側の排気用配管3aを、減圧MO
CVD装置の反応器8に接続し、2系統ある排気側の排
気用配管3bおよびバイパス用配管5を、除害装置(図
示せず)に接続する。また、必要に応じて、反応器8か
らの生成物による減圧ポンプ1への悪影響を抑制するた
めに除塵フィルタ(図示せず)を設けてもよい。
【0034】この第2の実施形態によれば、第1の実施
形態と同様な利点を得ることができる他、減圧排気シス
テムの排気側に、ほぼ同等の能力を有する2系統の排気
経路を有することにより、いずれか一方の排気経路に問
題が生じた場合であっても、装置の稼働に大きな影響を
与えることなくそのメンテナンスを行うことができるの
で、装置の稼働効率をより一層向上させることができる
という利点を得ることもできる。
【0035】以上、この発明の実施形態について具体的
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。
【0036】例えば、上述の第1および第2の実施形態
において挙げた減圧排気システムおよび減圧MOCVD
装置の構成はあくまで例にすぎず、必要に応じて、これ
らと異なる構成としてもよい。具体的には、例えば、バ
タフライバルブ2は、これと同様な圧力制御を行う機能
を有するものと置き換えてもよく、また、ゲートバルブ
1 およびエアオペレートバルブV2 ,V3 なども、排
気用配管3aおよびバイパス用配管5を遮蔽する同様な
機能を有するものと置き換えてもよい。
【0037】また、上述の第1および第2の実施形態に
おいては、減圧排気システムの排気側の排気用配管3b
に設けられた1段目および2段目のオイルミストトラッ
プ7に、互いにほぼ等しいトラップ能力を有するものを
用いているが、これらの1段目および2段目のオイルミ
ストトラップ7には、互いに異なるトラップ能力を有す
るものを用いてもよい。また、上述の第2の実施形態に
おいては、減圧排気システムの排気側に並列に接続され
た2つの排気用配管3bに、互いにほぼ等しいコンダク
タンスを有するものを用いているが、これらの2つの排
気用配管3bのコンダクタンスは互いに異なっていても
よい。
【0038】また、上述の第1および第2の実施形態に
おいては、減圧排気システムの排気側の排気用配管3b
の1つにつき、3つ以上のオイルミストトラップ7を直
列に接続してもよい。また、上述の第2の実施形態にお
いては、減圧排気システムの排気側に3つ以上の排気用
配管3bを並列に接続してもよい。
【0039】また、上述の第1および第2の実施形態に
おいては、この発明を減圧MOCVD装置に適用した場
合について説明したが、この発明は、減圧MOCVD装
置以外に、拡散装置やアニール装置など他の減圧気相処
理装置に適用することが可能である。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、減圧ポンプの排気側に、直列接続された複数のオイ
ルミスト除去手段が設けられていることにより、1段目
のオイルミスト除去手段で除去しきれなかったオイルミ
ストを、2段目以降のオイルミスト除去手段で除去する
ことができるので、下流側へのオイルミストの飛散を極
めて効果的に抑制することができる。これにより、減圧
排気システムにおいて配管詰まりや減圧ポンプの能力低
下を防止することができるので、この減圧排気システム
が接続される減圧気相処理装置の安定稼働が可能になる
と共に、その稼働効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態による減圧排気シス
テムおよび減圧MOCVD装置の構成例を示す略線図で
ある。
【図2】この発明の第2の実施形態による減圧排気シス
テムおよび減圧MOCVD装置の構成例を示す略線図で
ある。
【図3】従来の減圧排気システムおよび減圧MOCVD
装置の構成例を示す略線図である。
【符号の説明】
1・・・減圧ポンプ、3a,3b・・・排気用配管、7
・・・オイルミストトラップ、8・・・反応器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3H076 AA21 BB15 BB21 BB45 CC51 CC95 CC99 4K030 AA11 EA11 KA28 5F045 AA04 AA06 BB10 EG01 EG08

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 減圧ポンプを有し、 上記減圧ポンプの排気側に、直列接続された複数のオイ
    ルミスト除去手段が設けられていることを特徴とする減
    圧排気システム。
  2. 【請求項2】 上記減圧ポンプの排気側に複数の排気経
    路を有し、上記複数の排気経路のそれぞれに、上記複数
    のオイルミスト除去手段が直列に接続されていることを
    特徴とする請求項1記載の減圧排気システム。
  3. 【請求項3】 処理室と、 上記処理室に接続された減圧排気システムとを有し、 上記減圧排気システムは、減圧ポンプを有し、かつ、上
    記減圧ポンプの排気側に、直列接続された複数のオイル
    ミスト除去手段が設けられたものであることを特徴とす
    る減圧気相処理装置。
  4. 【請求項4】 上記減圧排気システムは、上記減圧ポン
    プの排気側に複数の排気経路を有し、上記複数の排気経
    路のそれぞれに、上記複数のオイルミスト除去手段が直
    列に接続されたものであることを特徴とする請求項3記
    載の減圧気相処理装置。
JP10367231A 1998-12-24 1998-12-24 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置 Pending JP2000195802A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10367231A JP2000195802A (ja) 1998-12-24 1998-12-24 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10367231A JP2000195802A (ja) 1998-12-24 1998-12-24 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000195802A true JP2000195802A (ja) 2000-07-14

Family

ID=18488805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10367231A Pending JP2000195802A (ja) 1998-12-24 1998-12-24 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000195802A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11986868B2 (en) System dedicated for parts cleaning
KR100271758B1 (ko) 반도체장치 제조설비 및 이의 구동방법
TWI388729B (zh) 用於真空泵浦之前級預處理
TWI377291B (en) Apparatus and method for control, pumping and abatement for vacuum process chambers
JP6242393B2 (ja) 処理チャンバを排気するための方法および装置
JPH0864578A (ja) 半導体製造装置及び半導体製造装置のクリーニング方法
JPH07211761A (ja) 処理装置内の被処理体の搬送方法
JP2010504847A5 (ja)
US20100206407A1 (en) Sluice system for a vacuum facility
TWI503481B (zh) A vacuum venting device and a vacuum venting method, and a substrate processing device
JP2608605B2 (ja) 真空ポンプ
US6189176B1 (en) High pressure gas cleaning purge of a dry process vacuum pump
US6598615B1 (en) Compact independent pressure control and vacuum isolation for a turbomolecular pumped plasma reaction chamber
US10814264B2 (en) SiOx filtration unit and method for operating the SiOx filtration unit
JP2000195802A (ja) 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置
JP2020191444A (ja) 装置稼働方法と基板処理装置
JP6463846B2 (ja) インライン式コーティング設備を運転する方法およびインライン式コーティング設備
US20060191636A1 (en) Valve assembly, semiconductor device manufacturing apparatus comprising the same, and method of cleaning a trap of a semiconductor device manufactuing apparatus
JP4027564B2 (ja) 真空排気システム
GB2497957A (en) A method and apparatus for evacuating a vacuum process chamber
KR20070037880A (ko) 진공배기장치
JPH0982594A (ja) 半導体製造装置における室内減圧方法
US11905955B1 (en) Extending life cycles of vacuum pumps used in manufacturing processes
JP2009297709A (ja) 流体又は流体混合物のためのプラズマ処理システム
TWI240947B (en) Pumping system of load lock chamber and operating method thereof