JP6238487B2 - インダクタ及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、インダクタ及びその製造方法に関する。
一般的な積層インダクタは、導体パターンが形成された複数の絶縁層を積層した構造を有し、上記導体パターンは、各絶縁層に形成された導電性ビアによって順次接続されて積層方向に沿って重なり、らせん構造を有するコイルを成す。また、上記コイルの両端は積層体の外部面に引き出されて外部端子と接続された構造を有する。
インダクタは主に回路基板に実装されるSMD型(surface mount device type)である。特に、高周波インダクタの場合、100MHz以上の高周波で用いられるもので、最近、通信市場の使用量が増えている。高周波インダクタで最も重要な特徴はチップインダクタの効率を示す品質係数Q(Quality factor)特性を確保することである。このとき、Q=wL/Rで示され、Q値とは与えられた周波数帯域におけるインダクタンス(L)と抵抗(R)の割合を意味する。
回路基板の限られた面積で多くの部品が実装されなければならないため部品の小型化に対するニーズが高まっている。インダクタで同一の容量を確保し、小型化を行うためにはコイルパターンの厚さまたは線幅を薄くする必要がある。この場合、Q特性が低くなるだけでなく、使用周波数が狭くなるという短所がある。
したがって、インダクタの小型化を実現するとともに、インダクタンスの容量及びQ特性を確保することができるインダクタの構造を開発する必要がある。
特許文献1及び2には、インダクタ及びその製造方法が開示されている。
特開平11−214235号公報 韓国公開特許第2014−0023141号公報
一方、外部電極が本体の外部面に形成されるためインダクタの小型化に限界があった。
本発明の多様な目的のうちの一つは、外部電極が本体の内部に形成されることにより、インダクタのサイズが小さくなることができ、Q特性を確保するとともにインダクタンスを向上させることができる。
本発明を通じて提案する多様な解決手段のうちの一つは、第1面と第2面、及び上記第1面と第2面を連結する第3面と第4面を含み、リード部を含むコイルが内部に配置された本体と、リード部と連結され、本体の内部に配置され、且つ、本体の第1面及び第3面または第4面に露出するように形成された外部電極と、を含むことにより、インダクタの小型化を実現することができ、Q特性を確保するとともにインダクタンスを向上させることができるようにする。
本発明の一実施例によるインダクタは、Q特性を確保するとともにインダクタンスを向上させることができる。
本発明の一実施例によるインダクタの概略的な斜視図を示すものである。 本発明の一実施例によるインダクタの概略的な断面図を示すものである。 本発明の一実施例によるインダクタの概略的な断面図を示すものである。 本発明の一実施例によるインダクタの製造方法を説明するための概略的な平面図及び断面図を示すものである。 本発明の一実施例によるインダクタの製造方法を説明するための概略的な平面図及び断面図を示すものである。 本発明の一実施例によるインダクタの製造方法を説明するための概略的な平面図及び断面図を示すものである。 本発明の一実施例によるインダクタの製造方法を説明するための概略的な平面図及び断面図を示すものである。
以下では、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがあり、図面上において同一の符号で示される要素は同一の要素である。
以下、本発明によるインダクタ100について説明する。
図1は本発明の一実施例によるインダクタの概略的な斜視図を示すものであり、図2と3は本発明の一実施例によるインダクタの概略的な断面図を示すものである。
図1及び3を参照すると、本発明の一実施例によるインダクタ100は、第1面1と第2面2、及び上記第1面1と第2面2を連結する第3面3と第4面4を含み、上記第1面1に向かって延びる第1及び第2リード部(図示せず)を含むコイル120が内部に配置された本体110と、第1及び第2リード部とそれぞれ連結され、本体110の内部に配置され、且つ、本体の第1面1及び第3面3に露出するように形成された第1外部電極131、及び本体の第1面1及び第4面4に露出するように形成された第2外部電極132を含む外部電極131、132と、を含む。
上記本体110は、第1面1と第2面2、及び上記第1面と第2面を連結する第3面3と第4面4並びに第5面5と第6面6を含むことができる。上記第3面3及び第4面4は、上記絶縁層が積層する方向に対向する方向の面であることができる。
上記本体110は絶縁層を積層して形成されることができ、上記絶縁層はフェライトのような磁性体またはセラミックを含むことができる。
上記絶縁層は、焼成後の境界がほとんど確認できないほど一体化することができる。このような本体110の形状、寸法及び絶縁層の積層数が本発明の実施例に示されたものに限定されるものではない。
上記本体110は内部にコイルを含む。
上記コイル120は導電性金属を含むことができる。
上記コイル120は、銀(Ag)または銅(Cu)を含む材料またはこれらの合金を含むことができるが、これに限定されるものではない。
上記コイル120は上記本体の第1面に引き出される第1及び第2リード部を含むことができる。即ち、第1及び第2リード部は同一面に露出することができる。
上記第1及び第2リード部は、本体110の第1面に形成された上記外部電極131、132と接触されて電気的に連結される。
上記コイル120は、複数のコイルパターンが導電性ビア(図示せず)を通じて連結されることができ、巻線されて形成されることができる。
このとき、本体110の上部面及び下部面のうち少なくとも一つには本体110内部のコイルを保護するためのカバー層(図示せず)が形成されることができる。
上記カバー層は、上記絶縁層と同一の材料からなるペーストを一定の厚さで印刷して形成されることができる。
従来のインダクタは、外部電極が本体の外部面に形成され、最終のインダクタのサイズ(size)は外部電極が形成されたサイズまで含まれるもので、インダクタの小型化を実現することが困難であった。また、本体から突出した外部電極の周囲の体積は、インダクタンスに寄与できない部分であるため、インダクタのサイズに対する容量実現を確保することができないという問題点がある。
本発明の一実施例によるインダクタ100は、本体110の内部に形成され、且つ、上記本体の第1面1及び第3面3に露出するように形成された第1外部電極131、及び上記本体の第1面1及び第4面4に露出するように形成された第2外部電極132を含む外部電極131、132を配置することにより、従来のインダクタの同一サイズに対するインダクタンスを向上させることができ、小型化を実現し、Q特性を確保することができる。
上記外部電極131、132はL字形状であることができる。
図3を参照すると、上記本体の第3面3及び第4面4に露出するように形成された外部電極131、132の高さ(H1)は、上記コイル120のリード部の高さと同一であることができる。これにより、上記本体の内部に位置したコイルと外部電極の間に空き空間を形成し、本体の誘電率を低くする効果を奏することができるため、高周波領域で実現することができる。
上記外部電極131、132は、上記本体110の内部で上記第3面及び第4面の方向に上記コイル120と離れて形成されることができる。
上記外部電極131、132は、導電層131a、132a、及び上記導電層の表面に形成されためっき層131b、132bを含むことができる。
上記導電層131a、132aは導電層であることができ、めっき層131b、132bはめっき層であることができる。
上記導電層131a、132aは、電気伝導性に優れた導電性金属材料からなることができる。
上記導電層131a、132aは、銀(Ag)及び銅(Cu)のうち少なくとも一つを含む材料またはこれらの合金からなることができるが、これに限定されるものではない。
上記めっき層131b、132bは、ニッケル(Ni)またはスズ(Sn)であることができるが、これに限定されるものではない。
上記導電層131a、132aのうち上記本体の第1面1に形成された領域は、上記本体の第1面1の表面と同一線上に位置することができる。
上記めっき層131b、132bは、上記本体の第3面3または第4面4の表面と同一線上に位置することができる。
上記外部電極131、132は、上記本体110において上記絶縁層111が積層方向に垂直な面を貫通して形成されることができる。上記積層方向に垂直な面は、上記本体の第1面1、第2面2、第3面3、及び第4面4であることができ、上記外部電極は上記本体の第1面1、第3面3、及び第4面4の一部を貫通するように形成されることができる。
したがって、本発明によるインダクタは、上記外部電極を上記本体の内部に配置させることにより、コイルの内部面積を増加させることができるためインダクタンスを向上させることができる。
Figure 0006238487
上記表1は、周波数による本発明のインダクタ及び従来のインダクタのインダクタンスを測定したものである。実施例は本発明の一実施形態によるインダクタであり、比較例は本体の外部面に形成された外部電極を含む従来のインダクタである。上記実施例と比較例のインダクタサイズは同一のサイズで製作され、そのサイズは0603サイズ(0.6×0.3×0.4mm:L×W×T)であることができる。
上記表1を参照すると、実施例1〜3は比較例1〜3に対してインダクタンスが7〜8%向上したことが分かる。
即ち、本体の内部に配置された外部電極を含む場合、インダクタンスの容量が増加することが分かる。
以下、本発明によるインダクタの製造方法について詳細に説明する。
図4aから図4dは本発明の一実施例によるインダクタの製造方法を説明するための工程断面図を概略的に示すものである。
本発明の一実施例によるインダクタの製造方法は、開口部(図示せず)を有する絶縁層111を形成する段階と、上記絶縁層111上にコイルパターン120a、120bを形成し、上記開口部に導電性パターン131a、132aを形成する段階と、上記コイルパターン120a、120b及び導電性パターン131a、132aが形成された複数の絶縁シートを積層して積層体115を形成する段階と、上記積層体115を切断及び焼成して導電層を含む本体110を形成する段階と、を含む。
図4aを参照すると、絶縁層111にコイルパターン120a、120bを形成し、開口部に導電性パターン131a、132aを形成する。
上記絶縁層111はフェライトのような磁性材料であることができる。
上記絶縁層111は、磁性材料と有機物を混合及び分散してスラリーを製造した後、上記スラリーを成形して製造されることができる。
上記コイルパターン120a、120bは複数のコイルパターンを含むことができる。
上記コイルパターン120a、120bは、導電性金属を含む導電性ペーストを上記絶縁層上に印刷して形成されることができる。
上記コイルパターン120a、120bは、電気伝導性に優れた材料を用いることができ、例えば、銀(Ag)または銅(Cu)のような導電性金属またはこれらの合金を含むことができるが、これに限定されるものではない。
また、上記コイルパターン120a、120bが形成された絶縁層111の総積層数は設計されるインダクタ部品で求めるインダクタンス値などの電気的特性を考えて多様に決定されることができる。
また、上記コイルパターン120a、120bのうち少なくとも2つは、本体の第1面にそれぞれ引き出されるリード部(図示せず)を有することができる。
上記リード部は、後に本体の第1面に形成される外部電極と接触されて上記外部電極と電気的に連結される。
ビア電極(図示せず)は、それぞれの絶縁層111の間で互いに離れて配置されることができる。
上記ビア電極は、上下で配置されたコイルパターン120a、120bを並列連結し、これにより、コイルを形成することができる。
上記ビア電極は、それぞれの絶縁層111に貫通孔を形成した後、この貫通孔に電気伝導性に優れた導電性ペーストを満たして形成されることができる。
上記導電性ペーストは、例えば、銀(Ag)、銀−パラジウム(Ag−Pd)、ニッケル(Ni)及び銅(Cu)のうち少なくとも一つまたはこれらの合金からなることができ、これに限定されるものではない。
上記導電性パターン131a、132aは、導電性金属を含む導電性ペーストを上記絶縁層の開口部に印刷して形成されることができる。
上記導電性パターン131a、132aは、導電層を形成するためのもので、導電性金属を含むことができる。上記導電性パターンはL字形状で印刷されて形成されることができる。
上記導電性金属は、銀(Ag)及び銅(Cu)のうち少なくとも一つを含む材料またはこれらの合金を含むことができるが、これに限定されるものではない。
上記導電性パターン131a、132aは、導電性金属を含む導電性ペーストを上記開口部に印刷して形成されることができる。
上記導電性パターン131a、132aは、印刷時に上記コイルパターン120a、120bと離れて形成されることができる。
図4bを参照すると、上記絶縁層111上に形成された上記導電性パターンのうちの一部150を除去して、導電層パターン131a、132aを形成する。
上記導電性パターンの一部150は、上記コイルパターンのリード部が延びる方向に対向する面に形成された部分であることができる。
上記導電性パターンの一部150は、パンチング(punching)、レーザー(laser)及びエッチング(etching)のうち少なくとも一つの工程で除去されることができる。
上記導電性パターンの一部150を除去して、絶縁層の領域内にめっき層が形成される空間を設けることができる。
図4cを参照すると、上記コイルパターン120a、120b及び導電層パターン131a、132aが形成された複数の絶縁層を積層して積層体を形成した後、上記積層体を切断及び焼成して導電層131a、132aを含む本体120を形成する。
上記積層体はバー(bar)形状であることができる。
その後、上記本体110は、圧着及び真空プレスなどの工程で本体110の充填率が最大になるように圧着及び硬化されることができる。
上記バー(bar)で製造された本体の場合、チップの単位に切断されて多数の本体110を製造することができる。これにより、インダクタの製造原価を低くすることができ、高い生産性を確保することができる。
上記本体を形成する段階は、上記コイルパターンが銀(Ag)である場合は一般大気焼結で行われることができ、銅(Cu)である場合は還元雰囲気で行われることができる。
図4dを参照すると、上記導電層131a、132a上にめっき層131b、132bを形成する。
上記めっき層131b、132bは、ニッケル(Ni)またはスズ(Sn)をめっき処理して形成されることができる。
上記導電層及びめっき層を含む外部電極131、132が上記本体110内に配置されることにより、Q特性を確保するとともにコイル内部の面積を大きくすることができるため、同一のサイズで向上したインダクタンスを得ることができる。
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有するものには明らかである。
100 インダクタ
110 本体
111 絶縁層
115 積層体
120 コイル
131、132 第1及び第2外部電極(外部電極)
131a、132a 導電層
131b、132b めっき層
120a、120b コイルパターン
131a、132a 導電性パターン
150 導電性パターンの一部

Claims (17)

  1. 第1面と第2面、及び前記第1面と第2面を連結する第3面と第4面を含み、前記第1面に向かって延びる第1及び第2リード部を含むコイルが内部に配置された本体と、
    前記第1及び第2リード部とそれぞれ連結され、前記本体の内部に配置され、且つ、前記本体の第1面及び第3面に露出するように形成された第1外部電極、及び前記本体の第1面及び第4面に露出するように形成された第2外部電極を含む外部電極と、を含み、
    前記外部電極は、導電層及び前記導電層の表面に形成されためっき層を含み、前記本体の第3面及び第4面の方向で前記外部電極のめっき層のそれぞれの一部は、前記本体の第3面及び第4面のそれぞれと一直線である外側表面を有する、インダクタ。
  2. 前記外部電極はL字形状である、請求項1に記載のインダクタ。
  3. 前記本体の第1面の方向で前記外部電極の導電層のそれぞれの一部は前記本体の一面と一直線である外側表面を有する、請求項1または2に記載のインダクタ。
  4. 前記外部電極は前記コイルと離れて形成される、請求項1からのいずれか一項に記載のインダクタ。
  5. 前記第1面は前記コイルが巻される方向に平行な面である、請求項1からのいずれか一項に記載のインダクタ。
  6. 絶縁層を形成する段階と、
    前記絶縁層上にコイルパターンを形成し、開口部に導電性パターンを形成する段階と、
    前記導電性パターンの一部を除去して導電層パターンを形成する段階と、
    前記コイルパターン及び導電性パターンが形成された複数の絶縁シートを積層して積層体を形成する段階と、
    前記積層体を切断及び焼成して導電層を含む本体を形成する段階と、を含む、インダクタの製造方法。
  7. 前記絶縁層の開口部は2つのL字を接続した凸形状又は4つのL字を接続した十字形状である、請求項に記載のインダクタの製造方法。
  8. 前記導電性パターンは前記コイルパターンと離れて形成される、請求項またはに記載のインダクタの製造方法。
  9. 前記導電性パターンの一部はパンチング、レーザー及びエッチングのうち少なくとも一つの工程で除去される、請求項6から8のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
  10. 前記導電性パターンの一部はコイルパターンのリード部が延びる方向に対向する面に形成された部分である、請求項6から9のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
  11. 前記導電層上にめっき層を形成する段階をさらに含む、請求項から10のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
  12. 前記めっき層はめっき工程によって形成される、請求項11に記載のインダクタの製造方法。
  13. 前記コイルパターン及び導電性パターンは印刷方法によって形成される、請求項から12のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
  14. 上部に形成された導電性パターンを有する複数の絶縁層が積層された本体と、
    前記本体内に少なくとも一部配置され、前記本体の第1面に露出した第1及び第2外部電極と、を含み、
    前記導電性パターンのうち少なくとも一つは第1外部電極と連結された第1リード部を含み、前記導電性パターンのうち少なくとも一つは第2外部電極と連結された第2リード部を含み、
    前記第1及び第2外部電極はそれぞれ導電層及び前記導電層の表面に形成されためっき層を含み、前記第1及び第2外部電極のめっき層の一部はそれぞれ前記本体の第1面と第2面を連結する第3面と第4面と整列される、インダクタ。
  15. 前記本体は、積層方向で前記本体の上部及び下部のうち少なくとも一つにカバー層を含む、請求項14に記載のインダクタ。
  16. 前記第1及び第2外部電極は、それぞれ前記本体の第3面及び第4面に露出した部分及び整列された部分を含む、請求項14または15に記載のインダクタ。
  17. 記第1及び第2外部電極の導電層の一部は前記本体の第1面と整列され、前記第1面におけるめっき層の一部は前記本体の外部にある、請求項14から16のいずれか一項に記載のインダクタ。
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