JP6221284B2 - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
LDMOSトランジスタでは、例えば、p型基板内にnドリフト層が設けられ、nドリフト層内にpボディ層が設けられる。nドリフト層内にドレイン拡散層が設けられ、pボディ層内にソース拡散層が設けられる。p型基板上であって、pボディ拡散層とnドリフト拡散層との境界上にゲート電極及びゲート絶縁膜が設けられる。ゲート電極には、ドレイン拡散層からpボディ拡散層にかかる電界を緩和し、LDMOSトランジスタの耐圧を向上させるためのフィールドプレートが一体に形成される。ゲート電極とソースとの間に保護ダイオードを設け、保護ダイオードの耐圧を、ゲート耐圧よりも低くなるように調整する。LDMOSトランジスタよりも保護ダイオードを先にブレイクダウンさせることにより、ゲート酸化膜の静電破壊等を抑止している。
実施例1に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法について説明する。実施例1では、半導体素子の一例であるLDMOSトランジスタを備える半導体装置1を例として説明する。図1は、実施例1に係る半導体装置1の平面図である。図2は、実施例1に係る半導体装置1の断面図であって、図1の一点鎖線X−Y間の断面を示している。図3は、実施例1に係る半導体装置1の部分拡大断面図である。図3では、半導体装置1の一部の構成要素についての図示を省略している。
レート8及び保護ダイオード9を有している。
の一例である。素子分離絶縁膜3Aは、LDMOSトランジスタを囲むようにして、半導体基板2内に形成されている。半導体基板2内にn型ドリフト領域4が形成され、半導体基板2内に、n型ドリフト領域4と接合してp型ボディ領域5が形成されている。p型ボディ領域5は、n型ドリフト領域4内に形成されている。n型ドリフト領域4は、第1不純物領域の一例である。p型ボディ領域5は、第2不純物領域の一例である。n型ドリフト領域4内にn型LDD(Lightly Doped Drain)領域11及びn型ドレイン領域12が
形成されている。p型ボディ領域5内にn型LDD領域11、n型ソース領域13及びp型タップ領域14が形成されている。
の接触抵抗が低下する。保護ダイオード9の他方の端部(第2端部)の上面部分と、導電体パターン16の上面部分とを覆うように金属シリサイド層15が形成されている。保護ダイオード9及び導電体パターン16を金属シリサイド層15が覆うことにより、保護ダイオード9の他方の端部(第2端部)と導電体パターン16との接触抵抗が低下する。
実施例1に係る半導体装置1の製造方法について説明する。図4Aから図18Bは、実施例1に係る半導体装置1の製造方法の各工程を示す図である。実施例1に係る半導体装置1の製造方法では、まず、図4A及び図4Bに示す工程において、例えば、STI(Shallow Trench Isolation)法により、半導体基板2内に素子分離絶縁膜3A及び3Bを形成する。図4Aは、実施例1に係る半導体装置1の製造方法を示す平面図である。図4Bは、実施例1に係る半導体装置1の製造方法を示す断面図であって、図4Aの一点鎖線X−Y間の断面を示している。
し、素子分離絶縁膜3A及び3Bの厚さは、特に限定されず、他の値であってもよい。半導体基板2内に素子分離絶縁膜3A及び3Bを形成することにより、半導体基板2内に活性領域31が画定される。
シリコン膜35を堆積する。ポリシリコン膜35は、導電膜の一例である。ポリシリコン膜35の膜厚は、例えば、160nm以上200nm以下である。
研磨し、半導体基板2上に層間絶縁膜21を形成する。図17Aは、実施例1に係る半導体装置1の製造方法を示す平面図である。図17Aでは、層間絶縁膜21の図示を省略している。図17Bは、実施例1に係る半導体装置1の製造方法を示す断面図であって、図17Aの一点鎖線X−Y間の断面を示している。
製造方法を、pチャネル型LDMOSトランジスタを備える半導体装置1及び半導体装置1の製造方法に適用してもよい。
実施例2に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法について説明する。実施例2では、半導体素子の一例であるLDMOSトランジスタを備える半導体装置1を例として説明する。実施例1に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法においては、ゲート電極7を平面視で矩形状に形成する例を示した。実施例2に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法においては、ゲート電極61を平面視で環状(リング状)に形成する例を説明する。なお、実施例2において、実施例1と同一の構成要素については、実施例1と同一の符号を付し、その説明を省略する。
p型ボディ領域(p-body)5、ゲート絶縁膜6、ゲート電極61、フィールドプレート8及び保護ダイオード9を有している。図19及び図20では、半導体装置1の一部の構成要素についての図示を省略している。
ている。素子分離絶縁膜3A及び3Bの膜厚は、ゲート絶縁膜6の膜厚よりも厚くなっている。
実施例2に係る半導体装置1の製造方法について説明する。図21Aから図31Bは、実施例2に係る半導体装置1の製造方法の各工程を示す図である。実施例2に係る半導体装置1の製造方法において、半導体基板2の全面にポリシリコン膜35を堆積する工程までは、実施例1の図4Aから図7Bに示す工程と同様の工程を行うので、その説明は省略する。
環状に形成されている。フィールドプレート8は、平面視で矩形状に形成されている。ゲート絶縁膜6がパターニングされることにより、ゲート電極61の直下にゲート絶縁膜6が残存する。その後、例えば、アッシングにより、フォトレジスト膜63を除去する。
る。保護ダイオード9のn+型領域44Aは、保護ダイオードの第2の部分の一例である。保護ダイオード9のp−型領域42は、保護ダイオードの第3の部分の一例である。保護ダイオード9のn+型領域44Bは、保護ダイオードの第4の部分の一例である。
オン注入してもよい。その後、例えば、アッシングにより、フォトレジスト膜68を除去する。
金属シリサイド層15が形成されている。ゲート電極61及び保護ダイオード9を金属シリサイド層15が覆うことにより、ゲート電極61と保護ダイオード9の一方の端部(第1端部)との接触抵抗が低下する。保護ダイオード9の他方の端部(第2端部)の上面部分と、導電体パターン16の上面部分とを覆うように金属シリサイド層15が形成されている。保護ダイオード9及び導電体パターン16を金属シリサイド層15が覆うことにより、保護ダイオード9の他方の端部(第2端部)と導電体パターン16との接触抵抗が低下する。
研磨し、半導体基板2上に層間絶縁膜21を形成する。図30Aは、実施例2に係る半導体装置1の製造方法を示す平面図である。図30Aでは、層間絶縁膜21の図示を省略している。図30Bは、実施例2に係る半導体装置1の製造方法を示す断面図であって、図30Aの一点鎖線X−Y間の断面を示している。
の配線23Cと接続されている。導電性プラグ22Dの一方端は、保護ダイオード9及び導電体パターン16上に形成された金属シリサイド層15に接続されている。導電性プラグ22Dの他方端は、ソース電極用の配線23Bと接続されている。したがって、保護ダイオード9の他方の端部(第2端部)は、金属シリサイド層15、導電性プラグ22D、配線23B、導電性プラグ22B、金属シリサイド層15を経由して、ソース電極(n型ソース領域13)と電気的に接続されている。
実施例3に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法について説明する。実施例3
では、半導体素子の一例であるLDMOSトランジスタを備える半導体装置1を例として説明する。実施例3に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法においては、保護ダイオード73の幅を短くする例を説明する。なお、実施例3において、実施例1と同一の構成要素については、実施例1と同一の符号を付し、その説明を省略する。
、フィールドプレート72及び保護ダイオード73を有している。図32から図34では、半導体装置1の一部の構成要素についての図示を省略している。
実施例3に係る半導体装置1の製造方法について説明する。図35Aから図45Cは、実施例3に係る半導体装置1の製造方法の各工程を示す図である。実施例3に係る半導体装置1の製造方法において、半導体基板2の全面にポリシリコン膜35を堆積する工程までは、実施例1の図4Aから図7Bに示す工程と同様の工程を行うので、その説明は省略する。
として、硼素等のp型不純物をイオン注入することにより、フィールドプレート72Bにp−型領域42を形成する。例えば、硼素イオンを、加速エネルギー:7.5keV以上9.0keV以下、注入量:1.0×1013cm−2以上1.0×1014cm−2以下、の条件でイオン注入してもよい。その後、例えば、アッシングにより、フォトレジスト膜83を除去する。
であって、図39Aの一点鎖線X−Y間の断面を示している。図39Cは、実施例3に係る半導体装置1の製造方法を示す断面図であって、図39Aの一点鎖線XX−YY間の断面を示している。
オード73の一部の上面が、金属シリサイド層15によって覆われている。保護ダイオード73の一部の上面が、金属シリサイド層15によって覆われることにより、保護ダイオード73が低抵抗化する。
m程度まで研磨し、半導体基板2上に層間絶縁膜21を形成する。図44Aは、実施例3に係る半導体装置1の製造方法を示す平面図である。図44Aでは、層間絶縁膜21の図示を省略している。図44Bは、実施例3に係る半導体装置1の製造方法を示す断面図であって、図44Aの一点鎖線X−Y間の断面を示している。図44Cは、実施例3に係る半導体装置1の製造方法を示す断面図であって、図44Aの一点鎖線XX−YY間の断面を示している。
であって、図45Aの一点鎖線XX−YY間の断面を示している。
る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法によれば、ゲート電極71と保護ダイオード73とを電気的に接続するプラグや配線等の形成を省くことにより、半導体装置1のサイズを縮小することができる。
図46は、比較例に係る半導体装置1の平面図である。図47は、比較例に係る半導体装置101の断面図であって、図46の一点鎖線X−Y間の断面を示している。比較例に係る半導体装置101は、保護ダイオード102を、LDMOSトランジスタ領域の外側に設けられた素子分離絶縁膜3A上に形成することにより、LDMOSトランジスタ領域の外側に保護ダイオード102を設けている。比較例に係る半導体装置101では、LDMOSトランジスタ領域の外側(保護ダイオード領域)に保護ダイオード102が設けられているため、半導体装置101のサイズの縮小化が行われていない。図46に示す半導体装置101のサイズLtr×Wtrは、13.0μm×20.0μmであり、保護ダイオード102のサイズLdi×Wdiは、2.5μm×20.0μmである。実施例1から実施例3に係る半導体装置1及び半導体装置1の製造方法によれば、比較例に係る半導体装置101に比べて、半導体装置1のサイズをおよそ16%縮小することができる。
(付記1)
基板と、
前記基板内に形成された第1不純物領域と、
前記第1不純物領域と反対の導電型を有し、前記第1不純物領域と接合して前記基板内に形成された第2不純物領域と、
前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との接合部分を跨ぐようにして前記基板上に形成されたゲート電極と、
前記第1不純物領域上に形成された保護ダイオードと、
を備え、
前記ゲート電極と前記保護ダイオードとが一体に形成されていることを特徴とする半導体装置。
前記基板内であって前記第1不純物領域上に形成された素子分離絶縁膜と、
前記素子分離絶縁膜上に、前記ゲート電極と接続して形成されたフィールドプレートと、
を備え、
前記保護ダイオードは、前記フィールドプレート内に形成されていることを特徴とする付記1に記載の半導体装置。
前記フィールドプレートは、前記フィールドプレートを第1フィールドプレート部分と第2フィールドプレート部分とに分ける切欠きを有し、
前記保護ダイオードは、前記第2フィールドプレート部分内に形成されていることを特徴とする付記2に記載の半導体装置。
前記ゲート電極は、前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との前記接合部分に沿って延伸された環状形状を有することを特徴とする付記1から3の何れか一項に記載の半導体装置。
前記ゲート電極は、第1の導電型を有する第1の部分を有し、
前記保護ダイオードは、前記第1の導電型を有し前記第1の部分と接続する第2の部分と、前記第1の導電型とは反対の第2の導電型を有し前記第2の部分と接続する第3の部分と、前記第1の導電型を有し前記第3の部分と接続する第4の部分と、を有することを特徴とする付記1からの4の何れか一項に記載の半導体装置。
少なくとも前記保護ダイオードの前記第2の部分と前記第3の部分との境界上及び前記第3の部分と前記第4の部分との境界上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜が形成された部分以外の、前記ゲート電極の上面及び前記保護ダイオードの一部の上面に形成された金属シリサイド層と、
を備えることを特徴とする付記5に記載の半導体装置。
前記基板に、平面視で前記ゲート電極及び前記第1フィールドプレート部分を第1の方向に挟んで位置するソース・ドレイン領域を有し、
前記切欠きは、平面視で前記第1の方向と直交する第2の方向に、前記第1フィールドプレート部分及び前記第2フィールドプレート部分とに挟まれて位置することを特徴とする付記3に記載の半導体装置。
基板に第1不純物領域を形成する工程と、
前記基板に、前記第1不純物領域と反対の導電型を有し、前記第1不純物領域と接合する第2不純物領域を形成する工程と、
ゲート電極を、前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との接合部分を跨ぐようにして前記基板上に形成する工程と、
前記第1不純物領域上に保護ダイオードを形成する工程と、
を備え、
前記ゲート電極と前記保護ダイオードとが一体に形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
前記基板に素子分離絶縁膜を形成する工程と、
前記基板上に導電膜を形成する工程と、
を備え、
前記素子分離絶縁膜は、前記第1不純物領域上に位置し、
前記ゲート電極を形成する工程は、前記接合部分上の導電膜に不純物を注入して第1の導電型を有する第1の部分を形成する工程を有し、
前記保護ダイオードを形成する工程は、前記素子分離絶縁膜上の前記導電膜に不純物を注入して前記第1の導電型を有する第2の部分及び第4の部分を形成する工程と、前記素子分離絶縁膜上の前記導電膜に不純物を注入して前記第1の導電型と反対の第2の導電型を有する第3の部分を形成する工程と、を有し、
前記第1の部分は、前記第2の部分と接続し、前記第3の部分は、前記第2の部分及び第4の部分と接続することを特徴とする付記8に記載の半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極及び前記保護ダイオードを形成する工程の後、前記第2の部分と前記第3部分との境界及び前記第3の部分と前記第4の部分との境界を覆う絶縁膜を形成する工程と、
少なくとも前記絶縁膜が形成されている部分を除いて、前記ゲート電極の上面と、前記保護ダイオードの一部の上面とを覆うように金属シリサイド層を形成する工程と、
を備える付記9に記載の半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極を形成する工程は、前記素子分離絶縁膜上に、前記ゲート電極と接続されるフィールドプレートを形成する工程を有し、
前記フィールドプレートは、前記フィールドプレートを第1フィールドプレート部分と第2フィールドプレート部分とに分ける切欠きを有し、
前記保護ダイオードは、前記第2フィールドプレート部分内に形成されていることを特徴とする付記8から10の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極は、前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との前記接合部分に沿って延伸された環状形状を有することを特徴とする付記8から11の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法。
2 半導体基板
3A、3B 素子分離絶縁膜
4 n型ドリフト領域
5 p型ボディ領域
6 ゲート絶縁膜
7、61、71 ゲート電極
8、72、72A、72B フィールドプレート
9、73 保護ダイオード
11 n型LDD領域
12 n型ドレイン領域
13 n型ソース領域
14 p型タップ領域
15 金属シリサイド層
16、75、76 導電体パターン
17 シリサイドブロック層
18 サイドウォール絶縁膜
21 層間絶縁膜
22A〜22D 導電性プラグ
23A〜23C 配線
32 シリコン酸化膜
33、34、36、38、41、43、45〜47、51、62〜69、81〜88 フォトレジスト膜
35 ポリシリコン膜
37、48 n型不純物領域
42 p−型領域
44A、44B n+型領域
52 p型不純物領域
74 切欠き
Claims (10)
- 基板と、
前記基板内に形成された第1不純物領域と、
前記第1不純物領域と反対の導電型を有し、前記第1不純物領域と接合して前記基板内に形成された第2不純物領域と、
前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との接合部分を跨ぐようにして前記基板上に形成されたゲート電極と、
前記第1不純物領域上に形成された保護ダイオードと、
前記ゲート電極の上面及び前記保護ダイオードの一部の上面に形成された金属シリサイド層と、
を備え、
前記ゲート電極と前記保護ダイオードとが一体に形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記基板内であって前記第1不純物領域上に形成された素子分離絶縁膜と、
前記素子分離絶縁膜上に、前記ゲート電極と接続して形成されたフィールドプレートと、
を備え、
前記保護ダイオードは、前記フィールドプレート内に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記フィールドプレートは、前記フィールドプレートを第1フィールドプレート部分と第2フィールドプレート部分とに分ける切欠きを有し、
前記保護ダイオードは、前記第2フィールドプレート部分内に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。 - 前記ゲート電極は、前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との前記接合部分に沿って延伸された環状形状を有することを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極は、第1の導電型を有する第1の部分を有し、
前記保護ダイオードは、前記第1の導電型を有し前記第1の部分と接続する第2の部分と、前記第1の導電型とは反対の第2の導電型を有し前記第2の部分と接続する第3の部分と、前記第1の導電型を有し前記第3の部分と接続する第4の部分と、を有することを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の半導体装置。 - 少なくとも前記保護ダイオードの前記第2の部分と前記第3の部分との境界上及び前記第3の部分と前記第4の部分との境界上に形成された絶縁膜と、
を備え、
前記金属シリサイド層は、前記絶縁膜が形成された部分以外の、前記ゲート電極の上面及び前記保護ダイオードの一部の上面に形成されていることを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。 - 前記基板に、平面視で前記ゲート電極及び前記第1フィールドプレート部分を第1の方向に挟んで位置するソース・ドレイン領域を有し、
前記切欠きは、平面視で前記第1の方向と直交する第2の方向に、前記第1フィールドプレート部分及び前記第2フィールドプレート部分とに挟まれて位置することを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - 基板に第1不純物領域を形成する工程と、
前記基板に、前記第1不純物領域と反対の導電型を有し、前記第1不純物領域と接合する第2不純物領域を形成する工程と、
ゲート電極を、前記第1不純物領域と前記第2不純物領域との接合部分を跨ぐようにして前記基板上に形成する工程と、
前記第1不純物領域上に保護ダイオードを形成する工程と、
前記ゲート電極の上面と、前記保護ダイオードの一部の上面とを覆うように金属シリサイド層を形成する工程と、
を備え、
前記ゲート電極と前記保護ダイオードとが一体に形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記基板に素子分離絶縁膜を形成する工程と、
前記基板上に導電膜を形成する工程と、
を備え、
前記素子分離絶縁膜は、前記第1不純物領域上に位置し、
前記ゲート電極を形成する工程は、前記接合部分上の導電膜に不純物を注入して第1の導電型を有する第1の部分を形成する工程を有し、
前記保護ダイオードを形成する工程は、前記素子分離絶縁膜上の前記導電膜に不純物を注入して前記第1の導電型を有する第2の部分及び第4の部分を形成する工程と、前記素子分離絶縁膜上の前記導電膜に不純物を注入して前記第1の導電型と反対の第2の導電型を有する第3の部分を形成する工程と、を有し、
前記第1の部分は、前記第2の部分と接続し、前記第3の部分は、前記第2の部分及び第4の部分と接続することを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極及び前記保護ダイオードを形成する工程の後、前記第2の部分と前記第3部分との境界及び前記第3の部分と前記第4の部分との境界を覆う絶縁膜を形成する工程と、
を備え、
前記金属シリサイド層を形成する工程において、少なくとも前記絶縁膜が形成されている部分を除いて、前記ゲート電極の上面と、前記保護ダイオードの一部の上面とを覆うよ
うに前記金属シリサイド層を形成することを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
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