JP5267510B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
また、前記渦巻き状の薄膜層は、前記半導体装置の耐圧をVB 、前記ツェナーダイオードの降伏電圧をVz 、前記渦巻き状の薄膜層の中の前記ツェナーダイオードを形成するpn接合で、逆阻止状態にあるpn接合の数をmとすると、VB <VZ ×mを満足するようにするとよい。
pn接合の逆方向の漏れ電流IS が渦巻き状の薄膜層に流れる。高濃度の不純物をドープしたポリシリコンに形成された個々のツェナーダイオードは、比較的漏れ電流IS が大きく、均一な電圧・電流特性を有するために、渦巻き状の薄膜層は、渦巻きに沿って均一な電位分布となる。尚、不純物濃度を高くすると、濃度制御が容易になり、面内の濃度のばらつきは小さくなり、抵抗値のばらつきが小さくなる。
(2)VS ≧m・VZ のとき(ツェナーダイオードは降伏状態)
pn接合の逆方向に過大な電流が流れ、その状態が長時間続くと渦巻き状の薄膜層は発熱して破壊に至る。
2 高電位側電極
3 低電位側電極
4 第1導電形薄膜層
5 第2導電形薄膜層
6 渦巻き状の薄膜層
6a〜6d 第1〜第4渦巻き状の薄膜層
8 高電位領域
9 Nwell領域
10 p基板
10a p基板層
11 裏面側電極
12 低電位領域
14 Poffset領域
15、16、17 渦巻き状の薄膜層
18 絶縁酸化膜
19 高電位側電極
20 高電位領域
21 裏面側電極
22 n+ 層
23 n- 層
24 空乏層
25 低電位領域
26 低電位側電極
27 渦巻き状の薄膜層
28 絶縁酸化膜
29、30、31 p領域
53 金属膜
55 pn接合
56 ダイシング面
Claims (3)
- 第2導電形半導体層上に形成された絶縁膜上に、互いに離して形成された第1電極と第2電極と、前記半導体層の表面層に互いに離して形成された第1導電形の第1領域と第2導電形の第2領域と、前記第1領域と前記第2領域の間の前記半導体層の表面層に、前記第1領域から離し、且つ、前記第2領域に接するように形成された第2導電形の第3領域と、前記絶縁膜上に複数形成され、両端がそれぞれ第1電極、第2電極に接続され、且つ、第1電極を取り囲む渦巻き状の薄膜層と、を備え、前記第1領域と前記第1電極とが接続し、前記第2領域と前記第2電極とが接続される半導体装置において、前記第2電極は前記第1電極を囲むように形成され、前記渦巻き状の薄膜層は、直列接続された複数のツェナーダイオードから構成され、前記複数の渦巻き状の薄膜層のそれぞれの一端が前記第1電極の異なる辺と接続され、前記複数の渦巻き状の薄膜層のそれぞれの他端が前記第2電極の異なる角部と接続されることを特徴とする半導体装置。
- 前記第1電極の平面形状が多角形で、該第2電極の前記第1電極側端部の平面形状が多角形であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記渦巻き状の薄膜層は、前記半導体装置の耐圧をVB 、前記ツェナーダイオードの降伏電圧をVz 、前記渦巻き状の薄膜層の中の前記ツェナーダイオードを形成するpn接合で、逆阻止状態にあるpn接合の数をmとすると、VB <VZ ×mを満足することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
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