JP6214020B2 - 光断層イメージング法、その装置およびプログラム - Google Patents

光断層イメージング法、その装置およびプログラム Download PDF

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Description

本発明は、光波の干渉性を利用して生体組織などの被測定対象の断層像を取得する方法および装置に関する。
光波の干渉性を利用して断層像を取得する計測原理は、OCT(Optical Coherence Tomography)と呼ばれ、現在では網膜の断層像を取得する医療機器として実用化されている(例えば、特許文献1および非特許文献1参照)。
この装置では、干渉性の低い光を測定光と参照光に分離し、測定光側に被測定対象を、参照光側に参照ミラーを設置して、両者からの反射光を重畳して干渉信号を得ることにより断層像を取得する。そのため、干渉性が低いほど、すなわち、光源のスペクトル幅が広いほど、高い深さ分解能(以下、分解能)が得られる。
また、この装置は大別すると、時間領域OCT(TD-OCT:Time-domain OCT)とスペクトル領域OCT(SD-OCT:Spectral-domain OCT)に分類することができ、現在では断層像を取得する際に、干渉信号を分光分析することによって参照ミラーの機械的な走査が不要となるSD-OCTが主流となっている。
OCTは、一般に、測定光路と参照光路に存在する群速度分散(以下、分散)が異なると、分解能が低下する特徴をもっている。そのため、被測定対象やその近傍の光学系に分散があると、その影響により分解能が低下してしまう欠点があった。
最近、SD-OCTを高度化し、測定光路と参照光路に存在する分散が異なる場合であっても、その影響を自動的に相殺するスペクトル強度干渉断層イメージング装置が開発された(非特許文献2参照)。
その原理は、SD-OCTに類似しているが、分光装置が2台必要になるなど,通常のSD-OCTに比べてやや複雑かつ大がかりな装置構成となっていた。
特許第5558735号公報 特開2007−267927号公報
A. F. Fercher, W. Drexler, C. K. Hitzenberger, and T. Lasser,"Optical coherence tomography - principles and applications,"Reports on Progress in Physics, vol.66, pp.239-303, (2003). T. Shirai and A. T. Friberg, "Intensity-interferometric spectral-domain optical coherence tomography with dispersion cancellation,"Journal of the Optical Society of America, Part A, vol.31, pp.258-263 (2014). S. S. Helen, M. P. Kothiyal, and R. S. Sirohi, "Achromatic phase shifting by a rotating polarizer,"Optics Communications, vol.154, pp.249-254 (1998).
一般に、OCTによる計測では、測定光路と参照光路に存在する分散が異なると、分解能が低下する特徴があることが知られている。そのため、被測定対象やその近傍の光学系内(すなわち、測定光路内)に分散が存在すると、その分解能は低下してしまう。
この分解能の低下を防ぐために、従来は、測定光路に存在する分散と全く同じ分散を意図的に参照光路に導入し、その効果を相殺する方法がとられていた(例えば、特許文献2参照)。
しかし、この方法では、未知もしくは複雑な分散特性をもった被測定対象については、その影響を完全に相殺することは困難であるため、このような被測定対象を計測する際には分解能の低下は避けられなかった。
この問題を解決する新しい原理として、最近、未知もしくは複雑な分散が存在しても、それを自動的に相殺して分解能の低下を防ぐ、図5に示すスペクトル強度干渉断層イメージング装置が考案されたが、原理的に、2台の分光装置が必要になるなど構成が複雑であった。
本発明では、これをSD-OCT装置と同様に、1台の分光装置で実現する方法として、測定光と参照光との間に位相差を導入しない場合と、πの位相差を導入する場合の2つのスペクトル干渉縞(広帯域光による干渉信号が分光装置によって波長分解され干渉縞となったもの)の強度を時系列に取得し、その2つの強度に基づき必要な演算を行い、断層情報を取得する方法と装置を提供する。
また、本発明は位相差を設けた2回の計測で取得した上述のスペクトル干渉縞強度データの解析手法を拡張して、より簡便な1回の計測によるスペクトル干渉縞強度データの解析により同等の分解能を有する断層情報を取得する方法と装置を提供する。
測定光と参照光の間にπの位相差を発生させる方法として、被測定対象もしくは参照ミラーを微動ステージに設置して、光源の中心波長の半分の距離を光の伝搬方向に沿って前方向もしくは後方向に移動させる。
この方法では、中心波長以外の波長の光に対する位相差は、厳密にはπにはならないため、光源のスペクトルが広帯域になるほど誤差が生じる。
一方、同様の位相差を発生させる方法として、測定光および参照光の偏光状態を制御することにより、それに伴う幾何学的位相の変化を利用することができる(例えば、非特許文献3参照)。
この方法は、スペクトルに依存しない位相シフトが可能であるため、光源のスペクトル幅に依存した誤差は生じない。
当該原理に基づき、一般的な被測定対象の断層像を取得すると、実際には物体(被測定対象)が存在しない場所にも不要な像(以下、アーティファクト)が生じることが知られている。このアーティファクトを除去するには、複数のデータを取得して平均化処理を追加すればよい。
2台の分光装置を使う従来の装置構成よりも、1台の分光装置で良いため、当該装置全体を低コストで実現できる。
また、2台の分光装置を使う従来の装置構成よりも、光学調整が簡単になり、測定誤差を生み出す要因を削減できる。
既に普及しているSD-OCT装置にわずかに改良変更を加えることで、分散の影響を受けないスペクトル強度干渉断層イメージング装置が実現される。
すなわち、製品化の際に、独立した装置としての販売ではなく、既存のOCT装置を高度化するオプションとして位置付けた販売が可能となる。
スペクトル強度干渉断層イメージング装置の基本性能として、全く同じスペクトル幅の光源を使った場合、一般的なSD-OCT装置よりも約1.4倍の分解能の向上が期待される。
本発明が提案する、スペクトル強度干渉断層イメージング装置の光学系を表す図である。図中、各矢印は光行路を表す。 微動ステージの移動の前後に取得した、位相がπ変化したスペクトル干渉縞強度を表す図である。 単純な反射ミラーを被測定対象とした場合の、SD-OCT装置(a)と本発明(b)の実験結果を比較するための図である。本発明(b)のピクセル対長さの換算値は、SD-OCT装置(a)の半分である。 被測定対象の直前の測定光路に分散媒質(重フリントガラス)を設置した場合の同様の実験結果を比較するための図である。本発明(b)のピクセル対長さの換算値は、SD-OCT装置(a)の半分である。 従前の、スペクトル強度干渉断層イメージング装置の光学系を表す図である。図中、各矢印は光行路を表す。 (a)は単純な反射ミラーを被測定対象とした場合の、測定光と参照光との間に位相差πを発生させる機構または手段を追加しないで取得した、本発明の実験結果を表した図である。(b)は被測定対象の直前の測定光路に分散媒質(重フリントガラス)を設置した場合の、同様の実験結果を表した図である。(a)と(b)のピクセル対長さの換算値は、SD-OCT装置、図3(a)の半分である。 (a)は検出器を移動させる前に取得した信号であり、(b)は検出器を6ピクセル程度の距離を移動した後で取得した信号である。ピクセル対長さの換算値は、SD-OCT装置、図3(a)の半分である。
既存のSD-OCT装置に、測定光と参照光の間に位相差πを発生させる機構または手段を追加し(実施例1)、もしくは、追加しないで(実施例3)、当該原理を実現する演算処理(数式(2)乃至数式(4)による)を行って被測定対象の断層画像を作成する。
図1に、本発明が提案する、スペクトル強度干渉断層イメージング装置の光学系を示した。図中、各矢印は光行路を表している。
この光学系は基本的には従来型のSD-OCT装置と同じであるが、参照ミラーをピエゾ素子で駆動する微動ステージ上に入射光が垂直に当たるように設置して、微動ステージを光の伝搬方向に沿って前後移動可能とした点が異なる。
この図では、回折格子Gと検出器Detectorの組み合わせによって分光装置を構成しているが、他のタイプの分光装置、一般的には分光素子と検出器の組み合わせであっても同様である。微動ステージは、ピエゾ素子による駆動に限定されない。
また、図1は光源、ビームスプリッタ、参照ミラー、被測定対象、検出器からなるマイケルソン型の干渉計を構成しているが、他のタイプの干渉計であっても同様である。さらに、ビームスプリッタは分波合波器であればよく、2×2の光ファイバカプラを使って構成することもできる。
スペクトル幅の広い広帯域光源からの光を、ビームスプリッタBS1によって参照光と測定光に分離する。光源は、例えば、スーパールミネセントダイオードやスーパーコンティニウム光源であるが、スペクトルが広帯域であれば他のタイプの光源であっても良い。
参照光は参照ミラーによって反射され、測定光は被測定対象によって反射され、それぞれの戻り光はビームスプリッタBS1によって合波され干渉する。
干渉光は回折格子によってスペクトルに分解され、検出器によってスペクトル干渉縞強度が検出される。
参照ミラーは微動ステージの上に設置されている。
最初に、微動ステージを移動する前のスペクトル干渉縞強度を検出してコンピュータ(表示装置付き)内に保存する。
一般に、回折格子を使って光をスペクトルに分解すると、その強度は検出器に波長λの関数として記録されるため、これを関係式、
Figure 0006214020
を利用して、周波数ωの関数となるように変換する(cは光の速度)。
これをI1(ω)とする。
なお、スペクトル干渉縞強度を検出するとき、入射光の中心周波数ω0が検出器の中心に一致するように調整しておくものとする。
次に、上記の微動ステージを、光波の伝搬方向に沿って前方向もしくは後方向に入射光の中心波長の半分の距離だけ移動させ(つまり、参照光の位相をπシフトさせ)、上記と同様にスペクトル干渉縞強度を検出してコンピュータ(表示装置付き)内に保存し、同様の変換を行う。これをI2(ω)とする。
位相シフト前について、中心周波数ω0からω’だけ正の方向に移動した周波数でのスペクトル干渉縞強度はI10+ω’)であり、位相シフト後について、中心周波数ω0からω’だけ負の方向に移動した周波数でのスペクトル干渉縞強度はI20−ω’)である。この両者の積、
Figure 0006214020
をω’の関数として、コンピュータ(表示装置付き)内でω’についてのフーリエ変換を行う。
その結果、C(ω’)のフーリエ変換は一般に複素数となるが、その実部に、被測定対象の位置と反射率の情報をもった目的の信号が得られる。
一方、C(ω’)のフーリエ変換の絶対値を評価すると、上記の目的の信号に隣接した不要な信号も確認されるが、これはその虚部に現れるため、両者を容易に分離することが可能となる。
上記の演算処理によって得られたC(ω’)のフーリエ変換の実部と虚部の2つの信号の絶対値を図3に示した。
図3(a)は、被測定対象として単純な反射ミラーを設置した場合の、従来型のSD-OCT装置で取得した実験結果、図3(b)が当該提案装置で取得した実験結果を表している。
従来型SD-OCTでは、被測定対象として設置された反射ミラーの反射率および位置に依存した信号が、横軸x=60付近に確認される。具体的には、その信号の高さは被測定対象(反射ミラー)の反射率に比例し、その信号の位置はビームスプリッタから被測定対象(反射ミラー)および参照ミラーまでの距離の差に比例する。そのため、その距離の差が大きくなれば、信号はx=60付近ではなく、より大きなx値付近に出現する。なお、x=0近傍は干渉信号のバイアス成分であり、被測定対象の情報は含んでいない。
一方、当該提案装置では、スペクトル強度干渉断層イメージング装置の理論どおり(非特許文献2参照)、SD-OCTの信号の位置の2倍の位置に、すなわち、横軸x=120付近に反射ミラーの反射率に依存した信号が確認される。なお、この場合の信号の高さは、被測定対象(反射ミラー)の反射率の2乗に比例する。
本発明においては、図3(a)におけるSD-OCT信号と同じ位置(つまり、横軸x=60付近)にも不要な信号が確認されるが、これは虚数となるため、演算結果について実部のみ取ることにより、被測定対象の情報をもった目的の信号を正確に分離することができ、鮮明な断層画像を得る事ができる。
なお、位相をπ変化させるための手段として、参照ミラーをピエゾ駆動の微動ステージに設置して前後移動したが、被測定対象を微動ステージに設置しても良い。
また、微動ステージではなく、偏光板、1/4波長板、1/2波長板などを用いて参照光と測定光の偏光状態を制御することによって発生する幾何学的位相の変化を利用して、πの位相差を導入しても良い(非特許文献3参照)。
さらに、上述の演算を行う際に、位相シフト前後のスペクトル干渉縞強度の取り方を、
Figure 0006214020
のように、交換しても良い。
図4に、当該提案装置の分散の影響を評価するために、被測定対象の直前の測定光路に分散媒質の一例である重フリントガラスを設置した場合の同様の実験結果を示した。
図4(a)は、従来型のSD-OCT装置で取得した結果、図4(b)が当該提案装置で取得した結果を表している。
図4(a)では、分散の影響により従来型のSD-OCTの信号は広がり分解能の低下を引き起こすが、本発明の図4(b)では、目的の信号の幅は図3(b)に示す結果と変わらず、分散の影響を受けた変化が全く見られないことがわかり、よって、分解能の低下は生じない。
図1を用いて本発明を説明する。
実施例1における図1に示すスペクトル強度干渉断層イメージング装置の光学系では、参照ミラーをピエゾ素子で駆動する微動ステージ上に設置して、微動ステージを光の伝搬方向に沿って前後移動可能としている。
しかし、本実施例3では、この微動ステージは不要であり、従前のSD-OCT装置に備わっている一般的な参照ミラー距離調節機構(図示せず、例えば移動ステージ)が備わっていればよい。
図1では、便宜上、参照ミラーをこの微動ステージに固定した。
実施例1と同様、入射光の中心周波数ω0が検出器の中心に一致するように調整された検出器で検出された、参照ミラーと被測定対象によるスペクトル干渉縞強度をコンピュータ(表示装置付き)内に保存する。
実施例1と同様に、このスペクトル干渉縞強度を、数式1を用いて、周波数ωの関数となるように変換されたスペクトル干渉縞強度I(ω)について、中心周波数ω0からω’だけ正の方向に移動した周波数(正の側帯波とよぶ)でのスペクトル干渉縞強度はI(ω0+ω’)であり、中心周波数ω0からω’だけ負の方向に移動した周波数(負の側帯波とよぶ)でのスペクトル干渉縞強度はI(ω0−ω’)である。
この両者の積、
Figure 0006214020
をω’の関数として、コンピュータ(表示装置付き)内でω’についてのフーリエ変換を行う。
その結果、C(ω’)のフーリエ変換は常に実数となり、不要な信号も隣接して確認されるが、従来型SD-OCTと同様に移動ステージにより参照ミラーの位置を調整することで、被測定対象の位置と反射率の情報をもった目的の信号を、不要な信号から分離して得ることができる。
上記の演算処理によって得られたC(ω’)のフーリエ変換の絶対値を図6(a)に示した。
この図は、被測定対象として単純な反射ミラーを設置した場合に当該提案装置で取得した実験結果であり、従来型のSD-OCT装置で取得した対応する実験結果は図3(a)に示されている。
図3(a)に示された従来型のSD-OCT装置で取得した対応する実験結果と比較すると、当該提案装置ではSD-OCTの信号の位置の2倍の位置に、すなわち、横軸x=120付近に反射ミラーの反射率に依存した信号が確認される。
なお、この場合の信号の高さは、被測定対象(反射ミラー)の反射率の2乗に比例する。
本発明においては、図3(a)におけるSD-OCT信号と同じ位置(つまり、横軸x=60付近)にも不要な信号が確認される。
しかし、参照ミラーの位置を調整し、ビームスプリッタから被測定対象(反射ミラー)および参照ミラーまでの距離の差を大きくすることで、目的の信号と不要な信号を分離することができるため、被測定対象の情報をもった目的の信号のみを取得することが可能となる。
図6(b)に、被測定対象の直前の測定光路に分散媒質の一例である重フリントガラスを設置した場合の同様の実験結果を示した。
従来型のSD-OCT装置で取得した対応する実験結果は図4(a)に示されている。
実施例2と同様に、本発明の図6(b)では、目的の信号の幅は図6(a)に示す結果と変わらず、分散の影響を受けた変化が全く見られないことがわかり、よって、分解能の低下は生じない。
なお、目的の信号は、前述のように参照ミラーの位置を調整することで、隣接する不要な信号から分離して取得することができる。
当該原理に基づき、一般的な被測定対象の断層像を取得すると、実際には物体(被測定対象)が存在しない場所にも、その内部に不要な像(アーティファクト)が生じることが知られている。
アーティファクトは、被測定対象に存在する各反射面から反射した光が干渉することによって生じるため、反射面が離散的でありかつその数がN個の場合、アーティファクトの数は、N×(N−1)/2個となる。
アーティファクトの大きさは、スペクトル強度干渉断層イメージング装置の理論では(非特許文献2参照)、入射光の中心周波数ω0に依存して変化することが明らかとなっている。
これと等価な効果を得るために、図1に示すスペクトル強度干渉断層イメージング装置の光学系では、分光装置に組み込まれている検出器をスペクトルの分散方向に、検出器の大きさの数パーセント程度の範囲で移動させる。
こうして、被測定対象の情報をもった目的の信号を殆ど変化させることなく、アーティファクトの大きさのみを変化させることができる。
被測定対象の反射面が離散的であり、その数がN=2の場合には、前述の式によりアーティファクトは1個となる。
上述した2つの離散的な反射面が存在する被測定対象として、顕微鏡用のカバーガラスを使用した場合に、当該提案装置で取得した実験結果を図7に示した。
なお、この図7では、アーティファクトを含む被測定対象の情報をもった目的の信号のみを表示している。
図7(a)は検出器を移動させる前に取得した信号であり、図7(b)はスペクトルの分散方向に2048個のピクセル構造をもつ検出器を、その方向に沿って6ピクセル程度の距離を移動した後で取得した信号である。
図7(a)では、被測定対象の2つの反射面に対応する信号の他に、その中央にアーティファクトが存在することが確認される。
しかし、図7(b)では、中央のアーティファクトのみが低減され、被測定対象の2つの反射面に対応する信号は殆ど変化しない様子が確認される。
被測定対象の反射面が離散的であっても、その数がN=3以上の場合や、反射面が連続的に変化する場合には、検出器の位置の調整のみで全てのアーティファクトを除去することはできない。
この場合には、検出器の移動距離を変化させて複数のデータを取得し、それらの平均処理を行うことによりアーティファクトを除去することができる。
また、スペクトル強度を取得する際に検出器を物理的に移動せずに、コンピュータ内で検出器の移動のシミュレーションを行いその信号処理によって同様の結果を得ることも可能である。
以上の実施例において、コンピュータ内のデータ処理はVisual C++(登録商標)言語のプログラムを作成して実施したが、同等の結果を得られれば、情報処理装置の種類は問わず、また別のプログラム言語によりプログラムを作成して実施してもよい。
本発明の、参照光もしくは測定光にπの位相差を導入する前後の2つのスペクトル干渉縞強度を時系列に取得して利用するスペクトル強度干渉断層イメージング装置は、既存の眼底の断層診断、歯の断層診断、皮膚の断層診断等の医療機器に用いる事ができる。
被測定対象の分散の影響を受けない特長が活かされる対象として、特に歯茎に埋もれた歯根内部の診断に効果的と推測される。
また、使用する光の波長帯域を適宜選択することにより、工業材料の内部診断にも適用可能である。
1 光源(Source)
2 ビームスプリッタ(BS1)
3 被測定対象(Sample)
4 参照ミラー(Reference Mirror)
5 ピエゾ素子駆動の微動ステージ(PZT)
6 回折格子と検出器(Grating、Detector)
7 コンピュータ(表示装置付き)(Computer)
8 ビームスプリッタ(BS2)
9 回折格子と検出器(Grating、Detector)
10 回折格子と検出器(Grating、Detector)

Claims (14)

  1. 測定光と参照光との干渉光の情報により被測定対象の断層画像を生成するスペクトル強度干渉断層イメージング法であって、
    光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)、および測定光と参照光の間に位相差πを発生させる手段を備え、
    分光素子と検出器によって分光器が構成され、
    光源から射出された光を分波合波器で分波し、
    一の分波光が被測定対象に入射して反射した測定光と、他方の分波光が参照ミラーで反射した参照光とを、再び該分波合波器で合波して干渉させた干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
    続いて、該測定光と、該参照光とを前記手段によりその光行路で位相差πだけずらし、再び該分波合波器で合波して干渉させた光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
    当該時系列に取得した2のスペクトル干渉縞強度の情報に基づいてフーリエ変換演算処理を行い、その結果得た複素数の虚部の信号位置の2倍の距離に現れた実部の信号位置から、被測定対象の断層画像を生成することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  2. 前記分波合波器は、ビームスプリッタまたは光ファイバカプラのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  3. 前記手段は、前記参照ミラーを保持するピエゾ駆動ステージからなり、ピエゾ駆動ステージをずらすことにより、その光行路で前記測定光との位相差πを発生させることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  4. 前記手段は、前記被測定対象を保持するピエゾ駆動ステージからなり、ピエゾ駆動ステージをずらすことにより、その光行路で前記参照光と位相差πを発生させることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  5. 前記手段は、前記参照光と測定光の偏光状態を制御することによって発生する幾何学的位相の変化を利用して、前記測定光と前記参照光の間に位相差πを発生させることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  6. 前記生成した被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記時系列に取得した2のスペクトル干渉縞強度を複数組取得して、平均化することで除去することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  7. 測定光と参照光との干渉光の情報により被測定対象の断層画像を生成するスペクトル強度干渉断層イメージング法であって、
    光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)を備え、
    分光素子と検出器によって分光器が構成され、
    光源から射出された光を分波合波器で分波し、
    一の分波光が被測定対象に入射して反射した測定光と、他方の分波光が参照ミラーで反射した参照光とを、再び該分波合波器で合波して干渉させた干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
    そのスペクトル干渉縞強度から生成した、前記光源から射出された光の中心周波数からω’だけずれた2の側帯波のスペクトル干渉縞強度の積に基づいてフーリエ変換演算処理を行い、その結果得た実数の信号から、被測定対象の位置と反射率の情報を有する部分を抽出し、被測定対象の断層画像を生成することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  8. 前記分波合波器は、ビームスプリッタまたは光ファイバカプラのいずれかであることを特徴とする請求項7に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  9. 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器をスペクトルの分散方向に若干移動させることで低減・除去することを特徴とする請求項1または請求項7のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  10. 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器をスペクトルの分散方向に若干移動させ取得した2のスペクトル干渉縞強度を複数組取得して平均化処理することで低減・除去することを特徴とする請求項1に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  11. 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器をスペクトルの分散方向に若干移動させ取得した1のスペクトル干渉縞強度を複数取得して、平均化処理することで低減・除去することを特徴とする請求項7に記載のスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  12. 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器を物理的に移動せずに、前記コンピュータ内で前記検出器移動のシミュレーションを行い取得した情報で、低減・除去することを特徴とする請求項9乃至請求項11のいずれか1項に記載のスペクトル強度干渉断層イメージング法。
  13. 光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)を備え、
    請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法を実行する事を特徴とする光断層イメージング装置。
  14. 請求項13に記載する光断層イメージング装置において、前記分光器によって取得した前記干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を前記コンピュータに読み込み、所定の前記フーリエ変換演算処理を行いその結果得られた複素数の信号の実部、または実数の信号から、被測定対象の断層画像を生成して当該表示装置に表示することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング・プログラムおよび該プログラムを記録したメディア媒体。
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