JP6214020B2 - 光断層イメージング法、その装置およびプログラム - Google Patents
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Description
この装置では、干渉性の低い光を測定光と参照光に分離し、測定光側に被測定対象を、参照光側に参照ミラーを設置して、両者からの反射光を重畳して干渉信号を得ることにより断層像を取得する。そのため、干渉性が低いほど、すなわち、光源のスペクトル幅が広いほど、高い深さ分解能(以下、分解能)が得られる。
OCTは、一般に、測定光路と参照光路に存在する群速度分散(以下、分散)が異なると、分解能が低下する特徴をもっている。そのため、被測定対象やその近傍の光学系に分散があると、その影響により分解能が低下してしまう欠点があった。
この分解能の低下を防ぐために、従来は、測定光路に存在する分散と全く同じ分散を意図的に参照光路に導入し、その効果を相殺する方法がとられていた(例えば、特許文献2参照)。
この問題を解決する新しい原理として、最近、未知もしくは複雑な分散が存在しても、それを自動的に相殺して分解能の低下を防ぐ、図5に示すスペクトル強度干渉断層イメージング装置が考案されたが、原理的に、2台の分光装置が必要になるなど構成が複雑であった。
また、本発明は位相差を設けた2回の計測で取得した上述のスペクトル干渉縞強度データの解析手法を拡張して、より簡便な1回の計測によるスペクトル干渉縞強度データの解析により同等の分解能を有する断層情報を取得する方法と装置を提供する。
一方、同様の位相差を発生させる方法として、測定光および参照光の偏光状態を制御することにより、それに伴う幾何学的位相の変化を利用することができる(例えば、非特許文献3参照)。
この方法は、スペクトルに依存しない位相シフトが可能であるため、光源のスペクトル幅に依存した誤差は生じない。
また、2台の分光装置を使う従来の装置構成よりも、光学調整が簡単になり、測定誤差を生み出す要因を削減できる。
この図では、回折格子Gと検出器Detectorの組み合わせによって分光装置を構成しているが、他のタイプの分光装置、一般的には分光素子と検出器の組み合わせであっても同様である。微動ステージは、ピエゾ素子による駆動に限定されない。
また、図1は光源、ビームスプリッタ、参照ミラー、被測定対象、検出器からなるマイケルソン型の干渉計を構成しているが、他のタイプの干渉計であっても同様である。さらに、ビームスプリッタは分波合波器であればよく、2×2の光ファイバカプラを使って構成することもできる。
参照光は参照ミラーによって反射され、測定光は被測定対象によって反射され、それぞれの戻り光はビームスプリッタBS1によって合波され干渉する。
干渉光は回折格子によってスペクトルに分解され、検出器によってスペクトル干渉縞強度が検出される。
最初に、微動ステージを移動する前のスペクトル干渉縞強度を検出してコンピュータ(表示装置付き)内に保存する。
一般に、回折格子を使って光をスペクトルに分解すると、その強度は検出器に波長λの関数として記録されるため、これを関係式、
これをI1(ω)とする。
その結果、C(ω’)のフーリエ変換は一般に複素数となるが、その実部に、被測定対象の位置と反射率の情報をもった目的の信号が得られる。
一方、C(ω’)のフーリエ変換の絶対値を評価すると、上記の目的の信号に隣接した不要な信号も確認されるが、これはその虚部に現れるため、両者を容易に分離することが可能となる。
図3(a)は、被測定対象として単純な反射ミラーを設置した場合の、従来型のSD-OCT装置で取得した実験結果、図3(b)が当該提案装置で取得した実験結果を表している。
なお、位相をπ変化させるための手段として、参照ミラーをピエゾ駆動の微動ステージに設置して前後移動したが、被測定対象を微動ステージに設置しても良い。
さらに、上述の演算を行う際に、位相シフト前後のスペクトル干渉縞強度の取り方を、
図4(a)は、従来型のSD-OCT装置で取得した結果、図4(b)が当該提案装置で取得した結果を表している。
実施例1における図1に示すスペクトル強度干渉断層イメージング装置の光学系では、参照ミラーをピエゾ素子で駆動する微動ステージ上に設置して、微動ステージを光の伝搬方向に沿って前後移動可能としている。
しかし、本実施例3では、この微動ステージは不要であり、従前のSD-OCT装置に備わっている一般的な参照ミラー距離調節機構(図示せず、例えば移動ステージ)が備わっていればよい。
図1では、便宜上、参照ミラーをこの微動ステージに固定した。
この両者の積、
その結果、C(ω’)のフーリエ変換は常に実数となり、不要な信号も隣接して確認されるが、従来型SD-OCTと同様に移動ステージにより参照ミラーの位置を調整することで、被測定対象の位置と反射率の情報をもった目的の信号を、不要な信号から分離して得ることができる。
この図は、被測定対象として単純な反射ミラーを設置した場合に当該提案装置で取得した実験結果であり、従来型のSD-OCT装置で取得した対応する実験結果は図3(a)に示されている。
なお、この場合の信号の高さは、被測定対象(反射ミラー)の反射率の2乗に比例する。
しかし、参照ミラーの位置を調整し、ビームスプリッタから被測定対象(反射ミラー)および参照ミラーまでの距離の差を大きくすることで、目的の信号と不要な信号を分離することができるため、被測定対象の情報をもった目的の信号のみを取得することが可能となる。
従来型のSD-OCT装置で取得した対応する実験結果は図4(a)に示されている。
なお、目的の信号は、前述のように参照ミラーの位置を調整することで、隣接する不要な信号から分離して取得することができる。
被測定対象の反射面が離散的であり、その数がN=2の場合には、前述の式によりアーティファクトは1個となる。
なお、この図7では、アーティファクトを含む被測定対象の情報をもった目的の信号のみを表示している。
しかし、図7(b)では、中央のアーティファクトのみが低減され、被測定対象の2つの反射面に対応する信号は殆ど変化しない様子が確認される。
この場合には、検出器の移動距離を変化させて複数のデータを取得し、それらの平均処理を行うことによりアーティファクトを除去することができる。
2 ビームスプリッタ(BS1)
3 被測定対象(Sample)
4 参照ミラー(Reference Mirror)
5 ピエゾ素子駆動の微動ステージ(PZT)
6 回折格子と検出器(Grating、Detector)
7 コンピュータ(表示装置付き)(Computer)
8 ビームスプリッタ(BS2)
9 回折格子と検出器(Grating、Detector)
10 回折格子と検出器(Grating、Detector)
Claims (14)
- 測定光と参照光との干渉光の情報により被測定対象の断層画像を生成するスペクトル強度干渉断層イメージング法であって、
光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)、および測定光と参照光の間に位相差πを発生させる手段を備え、
分光素子と検出器によって分光器が構成され、
光源から射出された光を分波合波器で分波し、
一の分波光が被測定対象に入射して反射した測定光と、他方の分波光が参照ミラーで反射した参照光とを、再び該分波合波器で合波して干渉させた干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
続いて、該測定光と、該参照光とを前記手段によりその光行路で位相差πだけずらし、再び該分波合波器で合波して干渉させた光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
当該時系列に取得した2のスペクトル干渉縞強度の情報に基づいてフーリエ変換演算処理を行い、その結果得た複素数の虚部の信号位置の2倍の距離に現れた実部の信号位置から、被測定対象の断層画像を生成することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング法。 - 前記分波合波器は、ビームスプリッタまたは光ファイバカプラのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記手段は、前記参照ミラーを保持するピエゾ駆動ステージからなり、ピエゾ駆動ステージをずらすことにより、その光行路で前記測定光との位相差πを発生させることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記手段は、前記被測定対象を保持するピエゾ駆動ステージからなり、ピエゾ駆動ステージをずらすことにより、その光行路で前記参照光と位相差πを発生させることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記手段は、前記参照光と測定光の偏光状態を制御することによって発生する幾何学的位相の変化を利用して、前記測定光と前記参照光の間に位相差πを発生させることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記生成した被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記時系列に取得した2のスペクトル干渉縞強度を複数組取得して、平均化することで除去することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 測定光と参照光との干渉光の情報により被測定対象の断層画像を生成するスペクトル強度干渉断層イメージング法であって、
光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)を備え、
分光素子と検出器によって分光器が構成され、
光源から射出された光を分波合波器で分波し、
一の分波光が被測定対象に入射して反射した測定光と、他方の分波光が参照ミラーで反射した参照光とを、再び該分波合波器で合波して干渉させた干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
そのスペクトル干渉縞強度から生成した、前記光源から射出された光の中心周波数からω’だけずれた2の側帯波のスペクトル干渉縞強度の積に基づいてフーリエ変換演算処理を行い、その結果得た実数の信号から、被測定対象の位置と反射率の情報を有する部分を抽出し、被測定対象の断層画像を生成することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング法。 - 前記分波合波器は、ビームスプリッタまたは光ファイバカプラのいずれかであることを特徴とする請求項7に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器をスペクトルの分散方向に若干移動させることで低減・除去することを特徴とする請求項1または請求項7のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器をスペクトルの分散方向に若干移動させ取得した2のスペクトル干渉縞強度を複数組取得して平均化処理することで低減・除去することを特徴とする請求項1に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器をスペクトルの分散方向に若干移動させ取得した1のスペクトル干渉縞強度を複数取得して、平均化処理することで低減・除去することを特徴とする請求項7に記載のスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 前記被測定対象の断層画像に現れるアーティファクトを、前記検出器を物理的に移動せずに、前記コンピュータ内で前記検出器移動のシミュレーションを行い取得した情報で、低減・除去することを特徴とする請求項9乃至請求項11のいずれか1項に記載のスペクトル強度干渉断層イメージング法。
- 光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)を備え、
請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載するスペクトル強度干渉断層イメージング法を実行する事を特徴とする光断層イメージング装置。 - 請求項13に記載する光断層イメージング装置において、前記分光器によって取得した前記干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を前記コンピュータに読み込み、所定の前記フーリエ変換演算処理を行いその結果得られた複素数の信号の実部、または実数の信号から、被測定対象の断層画像を生成して当該表示装置に表示することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング・プログラムおよび該プログラムを記録したメディア媒体。
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