JP6209019B2 - サーマルプリントヘッド、サーマルプリンタ - Google Patents

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Description

本発明は、サーマルプリントヘッドと、サーマルプリンタと、に関する。
従来から、サーマルプリントヘッドが知られている。サーマルプリントヘッドは、印刷媒体に印刷を施すために用いられる。このような印刷媒体としては、たとえばバーコードシートやレシートを作成するための感熱紙が挙げられる。サーマルプリントヘッドについては、たとえば、特許文献1に開示されている。
図1は、従来のサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。図1に示すサーマルプリントヘッド900は、基板91と、グレーズ層92と、電極層93と、抵抗体層94と、保護層95と、を備える。グレーズ層92は基板91に形成されている。グレーズ層92は、断面が円弧状の表面を有している。抵抗体層94は、電極層93を介して、グレーズ層における円弧状の表面上に形成されている。保護層95は、電極層93および抵抗体層94を覆っている。
このようなサーマルプリントヘッド900は、プラテンローラ(図示していない)とともに用いられる。プラテンローラは、サーマルプリントヘッド900における保護層に押し付けられつつ、回転する。図1に示すサーマルプリントヘッド900を用いる際、プラテンローラは、大きく撓みつつ保護層95に押し付けられる。そのため、プラテンローラは回転する際、サーマルプリントヘッド900における保護層95に引っかかり、摩耗しやすい。
特開2012−121283号公報
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、プラテンローラの寿命の向上を図ることのできるサーマルプリントヘッドを提供することをその主たる課題とする。
本発明の第1の側面によると、基材表面を有する基材と、前記基材に形成された抵抗体層と、蓄熱部と、前記基材表面に形成され且つ前記抵抗体層に導通する電極層と、を備え、前記電極層は、隙間を介して互いに離間する第1導電部および第2導電部を含み、前記抵抗体層は、前記基材の厚さ方向視において、前記第1導電部および前記第2導電部に跨る発熱部を含み、前記蓄熱部には、蓄熱部凹部が形成されており、前記蓄熱部凹部には、前記基材の厚さ方向視において、前記発熱部の少なくとも一部が重なっている、サーマルプリントヘッドが提供される。
好ましくは、前記蓄熱部は、蓄熱部表面を有し、前記蓄熱部凹部は、前記蓄熱部表面から凹んでいる。
好ましくは、前記蓄熱部凹部は、前記基材表面よりも、前記基材表面が向く方向側に位置している。
好ましくは、前記蓄熱部凹部には、前記電極層の一部が配置されている。
好ましくは、前記電極層は、前記抵抗体層と前記蓄熱部との間に介在している。
好ましくは、前記基材には、前記基材表面から凹む基材凹部が形成されており、前記基材凹部は、前記基材の厚さ方向視において、前記蓄熱部凹部に重なっている。
好ましくは、前記基材凹部には、前記蓄熱部の一部が配置されている。
好ましくは、前記発熱部は、副走査方向において、前記蓄熱部凹部の寸法よりも小さい。
好ましくは、前記発熱部は、副走査方向において、前記蓄熱部凹部の寸法よりも大きい。
好ましくは、前記電極層に電流を流す駆動ICを更に備える。
好ましくは、前記基材には、前記基材表面から凹む駆動IC用凹部が形成されており、前記駆動ICは、前記駆動IC用凹部に配置されている。
好ましくは、前記駆動IC用凹部は、凹部側面と凹部底面とを有し、前記凹部側面は、前記基材の厚さ方向に対して傾斜している。
好ましくは、前記電極層の一部は、前記駆動IC用凹部に形成されている。
好ましくは、前記駆動ICは、前記電極層に対しフリップチップ接続されている。
好ましくは、前記駆動ICおよび前記電極層を接続するワイヤを更に備える。
好ましくは、前記駆動ICを覆う樹脂層を更に備える。
好ましくは、前記ワイヤは、前記電極層のうち、前記基材表面に形成された箇所にボンディングされている。
好ましくは、前記駆動ICおよび前記基材の間に配置された支持層を更に備える。
好ましくは、前記基材表面に形成された中間層を更に備え、前記中間層は、副走査方向において、前記蓄熱部および前記支持層との間に形成されている。
好ましくは、前記抵抗体層および前記電極層を覆う、絶縁性の保護層を更に備える。
好ましくは、前記保護層は、前記基材表面の向く側に露出する保護層表面を有する。
好ましくは、前記基材凹部の深さは、90〜150μmである。
好ましくは、前記駆動IC用凹部の深さは、300〜400μmである。
好ましくは、前記基材は、セラミックよりなる。
好ましくは、前記蓄熱部は、ガラス材料よりなる。
好ましくは、前記電極層は、Auよりなる。
好ましくは、前記電極層の厚さは、3〜12μmである。
好ましくは、前記抵抗体層は、酸化ルテニウムよりなる。
好ましくは、前記抵抗体層の厚さは、3〜12μmである。
好ましくは、前記基材を支持する放熱板を更に備える。
本発明の第2の側面によると、本発明の第1の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドと、前記サーマルプリントヘッドに正対するプラテンローラと、を備える、サーマルプリンタが提供される。
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
従来のサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。 本発明の第1実施形態にかかるサーマルプリンタの部分拡大断面図である。 本発明の第1実施形態にかかるサーマルプリントヘッドの平面図である。 図3に示したサーマルプリントヘッドの部分拡大平面図である。 図2におけるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。 図2におけるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。 本発明の第1実施形態の第1変形例にかかるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。 本発明の第1実施形態の第2変形例にかかるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。 本発明の第2実施形態にかかるサーマルプリンタの部分拡大断面図である。
以下、本発明の実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
<第1実施形態>
図2〜図6を用いて、本発明の第1実施形態について説明する。
図2は、本発明の第1実施形態にかかるサーマルプリンタの部分拡大断面図である。
同図に示すサーマルプリンタ800は、印刷媒体801に印刷を施す。印刷媒体801としては、たとえばバーコードシートやレシートを作成するための感熱紙が挙げられる。サーマルプリンタ800は、サーマルプリントヘッド100と、プラテンローラ802と、を備える。プラテンローラ802は、サーマルプリントヘッド100に正対している。
図3は、本発明の第1実施形態にかかるサーマルプリントヘッドの平面図である。図4は、図3に示したサーマルプリントヘッドの部分拡大平面図である。図5は、図2におけるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。図6は、図2におけるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。なお、図2は、図4のII−II線に沿った断面図に相当する。
図2〜図6に示すように、サーマルプリントヘッド100は、基材11と、配線基板12と、放熱板13(図5、図6では省略)と、蓄熱部21と、支持層22と、中間層25と、電極層3と、抵抗体層4と、保護層6(図4では省略)と、駆動IC7と、ワイヤ81と、樹脂部82(図4では省略)と、コネクタ83と、を備える。
図2、図3に示す放熱板13は、基材11からの熱を放散させるためのものである。放熱板13は、たとえばAlなどの金属よりなる。放熱板13は、基材11および配線基板12を支持している。
図2〜図6に示す基材11は板状を呈している。本実施形態においては、基材11はセラミックよりなる。このようなセラミックとしては、たとえば、アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニウムが挙げられる。本実施形態では基材11はセラミックよりなるが、基材11はセラミックよりなっていなくてもよい。たとえば、基材11が、半導体材料よりなっていてもよい。このような半導体材料としては、たとえば、Si、SiC、AlN、GaP、GaAs、InP、およびGaNが挙げられる。また、基材11は、基材層と配線層とが積層された配線基板であってもよい。このような基材層は、たとえばガラスエポキシ樹脂からなり、このような配線層は、たとえばCuやAuよりなる。基材11の厚さはたとえば0.5〜1.0mmである。図3に示すように、基材11は、主走査方向Yに長く延びる平板状である。基材11の幅(基材11の副走査方向Xにおける寸法)は、たとえば、3〜20mmである。基材11の主走査方向Yにおける寸法は、たとえば、10〜300mmである。
図5、図6に示すように、基材11は基材表面111を有する。基材表面111は、副走査方向Xと主走査方向Yとに広がる平面状である。基材表面111は、主走査方向Yに沿って長手状に延びる。基材表面111は、基材11の厚さ方向Zの一方(以下、方向Zaと言う。図5、図6では上方)を向く。すなわち、基材表面111は、抵抗体層4の位置する側を向く面である。
図5に示すように、基材11には、基材凹部111Aが形成されている。基材凹部111Aは、基材表面111から凹んでいる。本実施形態では、基材凹部111Aは、主走査方向Yに長手状に延びる形状である。基材凹部111Aは、主走査方向Yにおける基材11の両端に至る。本実施形態においては、基材凹部111Aは、副走査方向Xに垂直な平面による断面が矩形状である。基材表面111からの基材凹部111Aの最大深さ(厚さ方向Zにおける最大寸法)は、たとえば、90〜150μmである。基材凹部111Aの幅(副走査方向Xにおける寸法)は、たとえば、11〜210μmである。基材凹部111Aは、たとえば、エッチングあるいは研削により、形成される。
図6に示すように、基材11には、駆動IC用凹部111Bが形成されている。駆動IC用凹部111Bは、基材表面111から凹んでいる。本実施形態では、駆動IC用凹部111Bは、主走査方向Yに長手状に延びる形状である。駆動IC用凹部111Bは、主走査方向Yにおける基材11の両端に至る。本実施形態とは異なり、駆動IC用凹部111Bは、主走査方向Yに沿って延びる形状である必要はなく、基材11のうち、駆動IC用凹部111Bの配置される箇所のみに形成されていてもよい。基材表面111からの駆動IC用凹部111Bの最大深さ(厚さ方向Zにおける最大寸法)は、たとえば、300〜400μmである。駆動IC用凹部111Bは、たとえば、エッチングあるいは研削により、形成される。
駆動IC用凹部111Bは、凹部側面111Cおよび凹部底面111Dを有する。凹部側面111Cは、厚さ方向Zに対し傾斜している。具体的には、凹部側面111Cは、厚さ方向Zにおいて凹部底面111Dから離れるほど、厚さ方向Z視において凹部底面111Dから離れるように、厚さ方向Zに対し傾斜している。
図2、図5に示すように、蓄熱部21は、基材11に形成されている。蓄熱部21は、たとえば非晶質ガラスなどのガラス材料からなる。このガラス材料の軟化点は、たとえば800〜850℃である。蓄熱部21は、後述の発熱部41にて発生した熱を蓄えるためのものである。蓄熱部21は、電極層3や抵抗体層4を形成するのに適した平滑面を提供する。蓄熱部21は、基材凹部111Aに形成されている。本実施形態においては、蓄熱部21は、主走査方向Yに沿って長手状に延びる形状である。また、蓄熱部21は、基材表面111を覆っている。すなわち、蓄熱部21は、厚さ方向Z視において、副走査方向Xに基材凹部111Aからはみ出た部位を有する。蓄熱部21は、基材表面111に直接接する。
本実施形態では、蓄熱部21は、基材11の全体ではなく、基材11の一部に形成されている。すなわち、蓄熱部21は、部分グレーズと称されるものである。本実施形態とは異なり、蓄熱部21は、基材11の基材表面111側の全面に形成されていてもよい。すなわち、蓄熱部21は、全体グレーズであってもよい。また、本実施形態では、蓄熱部21が、副走査方向Xに基材凹部111Aからはみ出た例を示したが、蓄熱部21は、厚さ方向Z視において、基材凹部111A内のみに形成されていてもよい。
蓄熱部21は、蓄熱部表面211を有する。蓄熱部表面211は、副走査方向Xと主走査方向Yとに広がる平面状である。蓄熱部表面211は、主走査方向Yに沿って長手状に延びる。蓄熱部表面211は、方向Zaを向く。すなわち、蓄熱部表面211は、基材表面111の向く方向と同一方向を向く。
蓄熱部21には、蓄熱部凹部211Aが形成されている。蓄熱部凹部211Aは、蓄熱部表面211から凹んでいる。図4に示すように、本実施形態では、蓄熱部凹部211Aは、主走査方向Yに長手状に延びる形状である。蓄熱部凹部211Aの最大深さ(厚さ方向Zにおける最大寸法)は、たとえば、3〜15μmである。蓄熱部表面211からの蓄熱部凹部211Aの幅(副走査方向Xにおける寸法)は、基材凹部111Aの幅(副走査方向Xにおける寸法)よりも小さく、たとえば、10〜200μmである。蓄熱部凹部211Aには、厚さ方向Z視において、基材凹部111Aが重なっている。蓄熱部凹部211Aは、たとえば、エッチングあるいは研削により、形成される。
本実施形態とは異なり、基材11が半導体材料のSiよりなる場合には、蓄熱部21はたとえば、SiO2であってもよい。本実施形態とは異なり、蓄熱部表面211が平面状ではなく、たとえば、方向Zaに膨らむ曲面状であってもよい。
図2、図6に示すように、支持層22は、基材11に形成されている。支持層22は、蓄熱部21に対して副走査方向Xに離間している。支持層22は、たとえば非晶質ガラスなどのガラス材料からなる。このガラス材料の軟化点は、たとえば800〜850℃である。支持層22は、後述の電極層3や駆動IC7を形成するのに適した平滑面を提供するためのものである。支持層22の厚さは、たとえば40〜60μm程度である。
図2に示すように、中間層25は、蓄熱部21と支持層22とに跨る。中間層25は、基材11のうち蓄熱部21と支持層22とに挟まれた領域を覆っている。中間層25は、蓄熱部21もしくは支持層22を構成するガラス材料よりも軟化点の低いガラス材料よりなる。中間層25を構成するガラス材料の軟化点は、たとえば、680℃程度である。中間層25の厚さは、たとえば2.0μm程度である。中間層25は、電極層3や抵抗体層4を形成するのに適した平滑面を提供するためのものである。
図2、図5に示すように、先端層26は、基材11のうち蓄熱部21の図中左方領域の一部を覆っている。先端層26は、中間層25と同様の材質および厚さである。中間層25および先端層26は、ガラスペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。
図2〜図6に示す電極層3は基材11に形成されている。より具体的には、電極層3は、基材11における基材表面111に、蓄熱部21等を介して、形成されている。電極層3の一部は、駆動IC用凹部111Bに配置されている。本実施形態においては、電極層3は、駆動IC用凹部111Bの凹部側面111Cおよび凹部底面111Dに形成されている。電極層3は蓄熱部21に積層されている。電極層3の一部は、蓄熱部凹部211Aに配置されている。電極層3には抵抗体層4が積層されている。本実施形態においては、抵抗体層4と蓄熱部21との間に、電極層3が介在している。電極層3は、抵抗体層4に導通している。電極層3は、抵抗体層4に通電するための経路を構成している。
電極層3はAuよりなる。具体的には、電極層3は、レジネートAuよりなる。電極層3を構成するレジネートAuには、添加元素として、たとえば、ロジウム、バナジウム、ビスマス、あるいは、シリコンが添加されている。電極層3は、レジネートAuのペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。電極層3は、複数のAu層を積層させることによって構成してもよい。電極層3の厚さは、たとえば3〜12μm程度である。
本実施形態とは異なり、電極層3を構成する材料は、たとえば、Ag、Cu、Cr、Al−Si、あるいは、Tiであってもよい。本実施形態とは異なり、電極層3と蓄熱部21との間に、抵抗体層4が介在していてもよい。
図4に示すように、電極層3は、第1導電部3Aと第2導電部3Bとを含む。第1導電部3Aおよび第2導電部3Bは、互いに離間している。本実施形態では、第1導電部3Aおよび第2導電部3Bは、隙間を介して主走査方向Yに互いに離間している。
電極層3は、共通電極31および複数の個別電極32を有している。
共通電極31は、サーマルプリントヘッド100の組み込まれたプリンタが使用される際に複数の個別電極32に対して電気的に逆極性となる部位である。共通電極31は、複数の共通電極帯状部311、連結部312、および迂回部313を有している。図4に示すように、連結部312は、基材11の副走査方向X一端寄りに配置されており、主走査方向Yに延びる帯状である。複数の共通電極帯状部311は、各々が連結部312から蓄熱部21に向かって副走査方向Xに延びており、主走査方向Yに等ピッチで配列されている。迂回部313は、連結部312の主走査方向Y一端から副走査方向Xに延びている。
複数の個別電極32は、互いに導通していない。そのため、各個別電極32には、サーマルプリントヘッド100の組み込まれたプリンタが使用される際に、個別に、互いに異なる電位が付与されうる。複数の個別電極32は、主走査方向Yに配列されており、各々が個別電極帯状部321およびボンディング部322を有している。個別電極帯状部321は、副走査方向Xに延びた帯状部分であり、蓄熱部21上において隣り合う2つの共通電極帯状部311の間に位置している。ボンディング部322は、個別電極帯状部321の副走査方向X端部に設けられている。
本実施形態においては、共通電極31における共通電極帯状部311が、第1導電部3Aとなっている。また、第1導電部3Aに隣接している、個別電極32における個別電極帯状部321が、第2導電部3Bとなっている。
図5に示すように、補助電極層39は、連結部312の一部を覆っている。補助電極層39は、たとえばAgからなり、主走査方向Yに延びる帯状である。補助電極層39は、保護層6によって覆われている。
図2〜図5に示す抵抗体層4は基材11に形成されている。本実施形態では、抵抗体層4は、蓄熱部21を介して基材11に形成されている。抵抗体層4は、主走査方向Yに延びる帯状に形成されている。抵抗体層4は、電極層3からの電流が流れた部分が発熱する。このように発熱することによって印字ドットが形成される。抵抗体層4は、電極層3を構成する材料よりも抵抗率が高い材料よりなる。本実施形態では、抵抗体層4を構成する抵抗材料は、酸化ルテニウムである。抵抗体層4を構成する抵抗材料として他には、たとえば、ポリシリコン、Ta、TaSiO2、および、TiONが挙げられる。抵抗体層4の厚さは、たとえば、3〜12μmである。本実施形態では、抵抗体層4は、厚膜印刷によって形成される。
抵抗体層4は、サーマルプリントヘッド100の使用時に発熱する発熱部41を含む。図4に示すように、発熱部41は、基材11の厚さ方向視において、第1導電部3Aおよび第2導電部3Bに跨っている。発熱部41は蓄熱部21に積層されている。
本実施形態では、抵抗体層4は、蓄熱部21の中央寄りの位置において、複数の共通電極帯状部311と複数の個別電極帯状部321とに交差している。抵抗体層4のうち各共通電極帯状部311と各個別電極帯状部321とに跨る部位が、発熱部41となっている。発熱部41は、電極層3によって部分的に通電されることにより発熱する部位であり、この発熱によって印字ドットが形成される。
図4に示すように、発熱部41の少なくとも一部は、厚さ方向Z視において、蓄熱部凹部211Aに重なっている。本実施形態においては、発熱部41の副走査方向Xにおける寸法は、蓄熱部凹部211Aの副走査方向Xにおける寸法よりも、小さい。そのため、厚さ方向Z視において、発熱部41の全体が、厚さ方向Z視において、蓄熱部凹部211Aに重なっている。
図2、図5に示す保護層6は、絶縁性であり、電極層3と抵抗体層4とを覆っている。保護層6は、電極層3と抵抗体層4とを保護するためのものである。保護層6は、絶縁材料よりなる。保護層6は、保護層表面61を有する。保護層表面61は、方向Zaを向いている。すなわち、保護層表面61は、基材表面111の向く側に露出している。サーマルプリンタ800の使用の際、保護層表面61は、印刷媒体801を介してプラテンローラ802に押し当てられる。
本実施形態では保護層6は二層構造である。具体的には、保護層6は、第1保護膜65および第2保護膜66を有する。
第1保護膜65および第2保護膜66は互いに積層されている。第1保護膜65および第2保護膜66はいずれも、厚さ方向Z視において、少なくとも一部が発熱部41に重なっている。本実施形態では、第1保護膜65は、第2保護膜66と発熱部41との間に介在している。第2保護膜66が、保護層表面61を構成している。
第1保護膜65を構成する材料は、たとえば、ガラスであり、第2保護膜66を構成する材料は、たとえば、SiAlON等である。また、第1保護膜65を構成する材料の熱伝導率よりも、第2保護膜66を構成する材料の熱伝導率が大きい構成を採用してもよい。本実施形態とは異なり、保護層6が二層構造ではなく、一層構造であってもよい。たとえば、保護層6が、第1保護膜65のみからなっていてもよい。
図2〜図4、図6に示す駆動IC7は、複数の個別電極32を選択的に通電させることにより、複数の発熱部41のいずれかを任意に発熱させる機能を果たす。図6に示すように、駆動IC7は、支持層22上に配置されている。本実施形態においては、駆動IC7と支持層22との間に、電極層3の一部および樹脂層79が介在している。駆動IC7は、駆動IC用凹部111Bに配置されている。
図4に示すように、駆動IC7は、複数のパッド71を有する。複数のパッド71は、複数のワイヤ81を介して複数の個別電極32のボンディング部322、または支持層22に形成された電極層3の一部であるパッドに接続されている。本実施形態においては、ボンディング部322は、凹部底面111D上に位置しているため、ワイヤ81は、電極層3のうち、駆動IC用凹部111Bに形成された箇所にボンディングされているといえる。
図6に示すように、樹脂部82は、駆動IC7を覆っている。樹脂部82は、たとえば黒色の軟質樹脂からなる。樹脂部82の一部は、駆動IC用凹部111Bに形成されている。本実施形態とは異なり、樹脂部82がサーマルプリントヘッド100に形成されていなくてもよい。
図3に示すコネクタ83は、配線基板12に固定されている。コネクタ83は、サーマルプリントヘッド100の外部からサーマルプリントヘッド100へ電力を供給し、駆動IC7を制御するためのものである。
次に、サーマルプリントヘッド100の使用方法の一例について簡単に説明する。
サーマルプリントヘッド100は、プリンタ800に組み込まれた状態で使用される。図2に示したように、当該プリンタ内において、サーマルプリントヘッド100の各発熱部41はプラテンローラ802に対向している。当該プリンタの使用時には、プラテンローラ802が回転することにより、印刷媒体801が、副走査方向Xに沿ってプラテンローラ802と各発熱部41との間に一定速度で送給される。印刷媒体801は、プラテンローラ802によって保護層6のうち各発熱部41を覆う部分に押し当てられる。一方、図4に示した各個別電極32には、駆動IC7によって選択的に電位が付与される。これにより、共通電極31と複数の個別電極32の各々との間に電圧が印加される。そして、複数の発熱部41には選択的に電流が流れ、熱が発生する。そして、各発熱部41にて発生した熱は、保護層6を介して印刷媒体801に伝わる。そして、印刷媒体801上の主走査方向Yに線状に延びる第1ライン領域に、複数のドットが印刷される。また、各発熱部41にて発生した熱は、蓄熱部21にも伝わり、蓄熱部21にて蓄えられる。
更に、プラテンローラ802が回転することにより、印刷媒体801が、副走査方向Xに沿って一定速度で引き続き送給される。そして、上述の第1ライン領域への印刷と同様に、印刷媒体801上の主走査方向Yに線状に延びる、第1ライン領域に隣接する第2ライン領域への印刷が行われる。第2ライン領域への印刷の際、印刷媒体801には、各発熱部41にて発生した熱に加え、第1ライン領域への印刷時に蓄熱部21にて蓄えられた熱が伝わる。このようにして、第2ライン領域への印刷が行われる。以上のように、印刷媒体801上の主走査方向Yに線状に延びるライン領域ごとに、複数のドットを印刷することにより、印刷媒体801への印刷が行われる。
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
本実施形態においては、蓄熱部21には、蓄熱部凹部211Aが形成されている。蓄熱部凹部211Aには、基材11の厚さ方向Z視において、発熱部41の少なくとも一部が重なっている。このような構成によると、サーマルプリンタ800の使用の際、プラテンローラ802が保護層6に引っかかることを抑制できる。したがって、プラテンローラ802の寿命の向上を図ることができる。
従来のサーマルプリントヘッドを用いた印刷においては、スティッキング現象が問題とされていた。スティッキング現象とは、保護層に印刷媒体が張り付いてしまう現象である。スティッキング現象が断続的に生じることにより、印字が主走査方向に延びる複数の筋状の模様を呈する。本実施形態では、プラテンローラ802が保護層6に引っかかることを抑制できるために、スティッキング現象の抑制も期待できる。
本実施形態においては、基材凹部111Aには、蓄熱部21の一部が配置されている。このような構成によると、発熱部41に重なる蓄熱部21の体積を大きくすることが可能となる。これにより、蓄熱部21が多くの熱を蓄えることが可能となる。蓄熱部21が多くの熱を蓄えることができると、各ライン領域への印刷を行う際には、各ライン領域への印刷以前に蓄熱部21に蓄えられた熱をより多く用いることができる。そのため、各ライン領域への印刷を行う際に発熱部41にて発生させなければならない熱量を少なくできる。このことは、サーマルプリントヘッド100の消費電力の削減、すなわち、印字効率の向上を図るのに適する。
本実施形態においては、発熱部41は、副走査方向Xにおいて、蓄熱部凹部211Aの寸法よりも小さい。このような構成によると、製造誤差が生じたとしても、発熱部41を、厚さ方向Z視において、蓄熱部凹部211Aの内部に確実に形成することができる。
本実施形態においては、基材11には、基材表面111から凹む駆動IC用凹部111Bが形成されている。駆動IC7は、駆動IC用凹部111Bに配置されている。このような構成によると、プラテンローラ802が、駆動IC7あるいは樹脂部82と接触しにくくなる。これにより、駆動IC7を発熱部41により近接して配置することができる。そのため、サーマルプリントヘッド100の副走査方向Xにおける寸法の小型化を実現できる。
本実施形態においては、凹部側面111Cは、基材11の厚さ方向Zに対して傾斜している。このような構成は、凹部側面111Cが厚さ方向Zに沿って直立している場合に比べて、基材表面111上から、凹部底面111Dにわたって、電極層3を形成するのに適する。
<第1実施形態の第1変形例>
図7を用いて、本発明の第1実施形態の第1変形例について説明する。
なお、以下の説明では、上記と同一もしくは類似の構成については上記と同一の符号を付し、説明を適宜省略する。
図7は、本発明の第1実施形態の第1変形例にかかるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。
本変形例のサーマルプリントヘッド101は、駆動IC7が、電極層3に対しフリップチップ接続されており、ワイヤ81を用いて電極層3に接続していない点において、サーマルプリントヘッド100とは異なる。
このような構成によると、サーマルプリントヘッド100と同様の作用効果を奏する。
<第1実施形態の第2変形例>
図8を用いて、本発明の第1実施形態の第2変形例について説明する。
図8は、本発明の第1実施形態の第2変形例にかかるサーマルプリントヘッドの部分拡大断面図である。
本変形例のサーマルプリントヘッド102は、電極層3が駆動IC用凹部111Bに形成されていない点において、サーマルプリントヘッド100とは異なる。本変形例のボンディング部322は、基材表面111に位置している。ワイヤ81は、ボンディング部322にボンディングされている。すなわち、ワイヤ81は、電極層3のうち、基材表面111に形成された箇所にボンディングされている。
このような構成によると、電極層3を駆動IC用凹部111Bに形成する必要はない。そのため、電極層3の形成の容易化に適する。
<第2実施形態>
図9を用いて、本発明の第2実施形態について説明する。
図9は、本発明の第2実施形態にかかるサーマルプリンタの部分拡大断面図である。
本実施形態のサーマルプリントヘッド200では、発熱部41の副走査方向Xの寸法が、蓄熱部凹部211Aの副走査方向Xの寸法より大きい点において、サーマルプリントヘッド100と異なる。本実施形態では、発熱部41の一部は、厚さ方向Z視において蓄熱部凹部211Aに重なっている。発熱部41の一部は、厚さ方向Zにおいて蓄熱部表面211に重なっている。
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
本実施形態においては、蓄熱部21には、蓄熱部凹部211Aが形成されている。蓄熱部凹部211Aには、基材11の厚さ方向Z視において、発熱部41の少なくとも一部が重なっている。このような構成によると、サーマルプリントヘッド100に関して述べたのと同様に、プラテンローラ802の寿命の向上を図ることができる。
また、サーマルプリントヘッド100に関して述べたのと同様に、スティッキング現象の抑制も期待できる。
本実施形態においては、基材凹部111Aには、蓄熱部21の一部が配置されている。このような構成は、サーマルプリントヘッド100に関して述べたのと同様に、サーマルプリントヘッド200の消費電力の削減、すなわち、印字効率の向上を図るのに適する。
本実施形態においては、発熱部41は、副走査方向Xにおいて、蓄熱部凹部211Aの寸法よりも大きい。このような構成によると、保護層6をより確実にプラテンローラ802に押し付けることが可能となる。
本実施形態においては、基材11には、基材表面111から凹む駆動IC用凹部111Bが形成されている。駆動IC7は、駆動IC用凹部111Bに配置されている。このような構成によると、サーマルプリントヘッド100に関して述べたのと同様に、サーマルプリントヘッド200の副走査方向Xにおける寸法の小型化を実現できる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
上記の説明においては、電極層3や抵抗体層4が厚膜印刷によって形成される例を主に示したが、本発明はこれに限定されない。たとえば、電極層3や抵抗体層4が、いわゆる薄膜タイプのものであってもよい。
100,101,102,200 サーマルプリントヘッド
11 基材
111 基材表面
111A 基材凹部
111B 駆動IC用凹部
111C 凹部側面
111D 凹部底面
12 配線基板
13 放熱板
21 蓄熱部
211 蓄熱部表面
211A 蓄熱部凹部
22 支持層
25 中間層
26 先端層
3 電極層
31 共通電極
311 共通電極帯状部
312 連結部
313 迂回部
32 個別電極
321 個別電極帯状部
322 ボンディング部
39 補助電極層
3A 第1導電部
3B 第2導電部
4 抵抗体層
41 発熱部
6 保護層
61 保護層表面
65 第1保護膜
66 第2保護膜
7 駆動IC
71 パッド
79 樹脂層
800 サーマルプリンタ
801 印刷媒体
802 プラテンローラ
81 ワイヤ
82 樹脂部
83 コネクタ
X 副走査方向
Y 主走査方向
Z 厚さ方向
Z1 方向
Z2 方向

Claims (31)

  1. 基材表面を有する基材と、
    前記基材に形成された抵抗体層と、
    蓄熱部と、
    前記基材表面に形成され且つ前記抵抗体層に導通する電極層と、を備え、
    前記電極層は、隙間を介して互いに離間する第1導電部および第2導電部を含み、
    前記抵抗体層は、前記基材の厚さ方向視において、前記第1導電部および前記第2導電部に跨る発熱部を含み、
    前記蓄熱部には、蓄熱部凹部が形成されており、
    前記蓄熱部凹部には、前記基材の厚さ方向視において、前記発熱部の少なくとも一部が重なっており、
    前記蓄熱部凹部には、前記電極層の一部が配置されている、サーマルプリントヘッド。
  2. 基材表面を有する基材と、
    前記基材に形成された抵抗体層と、
    蓄熱部と、
    前記基材表面に形成され且つ前記抵抗体層に導通する電極層と、を備え、
    前記電極層は、隙間を介して互いに離間する第1導電部および第2導電部を含み、
    前記抵抗体層は、前記基材の厚さ方向視において、前記第1導電部および前記第2導電部に跨る発熱部を含み、
    前記蓄熱部には、蓄熱部凹部が形成されており、
    前記蓄熱部凹部には、前記基材の厚さ方向視において、前記発熱部の少なくとも一部が重なっており、
    前記電極層は、前記抵抗体層と前記蓄熱部との間に介在している、サーマルプリントヘッド。
  3. 前記蓄熱部凹部には、前記電極層の一部が配置されている、請求項2に記載のサーマルプリントヘッド。
  4. 前記蓄熱部は、蓄熱部表面を有し、
    前記蓄熱部凹部は、前記蓄熱部表面から凹んでいる、請求項1または2に記載のサーマルプリントヘッド。
  5. 前記蓄熱部凹部は、前記基材表面よりも、前記基材表面が向く方向側に位置している、請求項1または請求項2に記載のサーマルプリントヘッド。
  6. 前記基材には、前記基材表面から凹む基材凹部が形成されており、
    前記基材凹部は、前記基材の厚さ方向視において、前記蓄熱部凹部に重なっている、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  7. 前記基材凹部には、前記蓄熱部の一部が配置されている、請求項6に記載のサーマルプリントヘッド。
  8. 前記発熱部は、副走査方向において、前記蓄熱部凹部の寸法よりも小さい、請求項1ないし請求項7のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  9. 前記発熱部は、副走査方向において、前記蓄熱部凹部の寸法よりも大きい、請求項1ないし請求項7のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  10. 前記電極層に電流を流す駆動ICを更に備える、請求項1ないし請求項9のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  11. 前記基材には、前記基材表面から凹む駆動IC用凹部が形成されており、前記駆動ICは、前記駆動IC用凹部に配置されている、請求項10に記載のサーマルプリントヘッド。
  12. 前記駆動IC用凹部は、凹部側面と凹部底面とを有し、前記凹部側面は、前記基材の厚さ方向に対して傾斜している、請求項11に記載のサーマルプリントヘッド。
  13. 前記電極層の一部は、前記駆動IC用凹部に形成されている、請求項11に記載のサー
    マルプリントヘッド。
  14. 前記駆動ICは、前記電極層に対しフリップチップ接続されている、請求項10に記載のサーマルプリントヘッド。
  15. 前記駆動ICおよび前記電極層を接続するワイヤを更に備える、請求項10に記載のサーマルプリントヘッド。
  16. 前記駆動ICを覆う樹脂層を更に備える、請求項11に記載のサーマルプリントヘッド。
  17. 前記ワイヤは、前記電極層のうち、前記基材表面に形成された箇所にボンディングされている、請求項15に記載のサーマルプリントヘッド。
  18. 前記駆動ICおよび前記基材の間に配置された支持層を更に備える、請求項10に記載のサーマルプリントヘッド。
  19. 前記基材表面に形成された中間層を更に備え、
    前記中間層は、副走査方向において、前記蓄熱部および前記支持層との間に形成されている、請求項18に記載のサーマルプリントヘッド。
  20. 前記抵抗体層および前記電極層を覆う、絶縁性の保護層を更に備える、請求項1ないし請求項19のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  21. 前記保護層は、前記基材表面の向く側に露出する保護層表面を有する、請求項20に記載のサーマルプリントヘッド。
  22. 前記基材凹部の深さは、90〜150μmである、請求項6に記載のサーマルプリントヘッド。
  23. 前記駆動IC用凹部の深さは、300〜400μmである、請求項11に記載のサーマルプリントヘッド。
  24. 前記基材は、セラミックよりなる、請求項1ないし請求項23のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  25. 前記蓄熱部は、ガラス材料よりなる、請求項1ないし請求項24のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  26. 前記電極層は、Auよりなる、請求項1ないし請求項25のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  27. 前記電極層の厚さは、3〜12μmである、請求項1ないし請求項26のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  28. 前記抵抗体層は、酸化ルテニウムよりなる、請求項1ないし請求項27のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  29. 前記抵抗体層の厚さは、3〜12μmである、請求項1ないし請求項28のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  30. 前記基材を支持する放熱板を更に備える、請求項1ないし請求項29のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
  31. 請求項1ないし請求項30のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドと、
    前記サーマルプリントヘッドに正対するプラテンローラと、を備える、サーマルプリンタ。
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