JP6188415B2 - 像加熱装置 - Google Patents
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Description
図1は、像加熱装置としての定着装置を搭載するタンデム型のカラー画像形成装置の構成図である。画像形成装置は、イエロー(Y)、マゼンダ(M)、シアン(C)、ブラック(K)の4色のトナーを重ね合せることでフルカラー画像を出力できるように構成されている。装置には4つの画像形成ユニット(12Y、12M、12C、12K)が備えられている。各画像形成ユニットは、感光体ドラム(13Y〜13K)、帯電ローラ(15Y〜15K)、レーザスキャナ(11Y〜11K)、現像ローラ(16Y〜16K)、一次転写ローラ(18Y〜18K)、クリーナ(14Y〜14K)を有する。更に各色の感光体ドラムと一次転写ローラの間には中間転写ベルト19が設置されている。29は中間転写ベルト19に重畳されたフルカラートナー画像を記録材に転写するための二次転写ローラである。カセット22に収容されている用紙(記録材)は、給紙ローラ25及び分離ローラ26a、26bによって給紙され、二次転写ローラ29によって中間転写ベルト19からトナー画像の転写を受ける。その後、定着装置30で定着処理され、装置外へ排出される。これらの画像形成プロセスは周知なので詳細な説明は割愛する。
実施例1では、メイン発熱体111へ供給する電力のデューティ比Px(%)とサブ発熱体112へ供給する電力のデューティ比Py(%)の組み合わせが特定の条件を満たした時に第2制御パターンを選択した。
32 CPU
60、70 ヒータ駆動回路
111 メイン発熱体
112 サブ発熱体
Claims (6)
- 第1発熱体と、
前記第1の発熱体とは独立して駆動される第2発熱体と、
温度検出素子と、
交流の連続する複数の半周期を制御周期として、前記制御周期毎に、前記第1発熱体と前記第2発熱体に供給する電力を、前記温度検出素子の検出温度に応じて制御する電力制御部と、
を有し、
前記電力制御部によって制御されることによって前記第1発熱体と前記第2発熱体に流れる交流に、交流の半周期全てにおいて電流が流れる又は流れない第1の半周期と、交流の半周期の一部で電流が流れる第2の半周期と、が混在する像加熱装置において、
前記電力制御部は、
前記第1発熱体に流れる交流と前記第2発熱体に流れる交流の中の同位相の半周期で前記第1の半周期と前記第2の半周期が重なる第1制御パターンと、
前記同位相の半周期で、前記第1の半周期のうち半周期全てにおいて電流が流れる半周期と半周期全てにおいて電流が流れない半周期同士が重なり且つ前記第2の半周期同士が重なる第2制御パターンと、を選択でき、
前記第1発熱体へ供給する電力のデューティ比と前記第2発熱体へ供給する電力のデューティ比の比(X:Y)を変更可能であり、
前記温度検出素子の検出温度に応じて前記制御周期毎に設定する電力のデューティ比をP(%)、XとYのうち大きいほうの値をZ、前記第1発熱体へ供給する電力のデューティ比をPx(%)=(X/Z)×P(%)、前記第2発熱体へ供給する電力のデューティ比をPy(%)=(Y/Z)×P(%)とすると、
前記デューティ比Pxと前記デューティ比Pyが、共に閾値より大きい場合、又は、共に前記閾値より小さい場合、
前記電力制御部は、前記第1制御パターンで前記第1発熱体と前記第2発熱体に供給する電力を制御し、
前記デューティ比Pxと前記デューティ比Pyのうち、一方が前記閾値より大きく、他方が前記閾値より小さい場合、
前記電力制御部は、前記第2制御パターンで前記第1発熱体と前記第2発熱体に供給する電力を制御し、且つ
前記電力制御部は、前記第1制御パターンで前記第1発熱体と前記第2発熱体に流れる交流波形の合成波形と、前記第2制御パターンで前記第1発熱体と前記第2発熱体に流れる交流波形の合成波形が、いずれも、前記制御周期の期間内において、全ての正極性の波形と同一の負極性の波形があり、全ての負極性の波形と同一の正極性の波形がある、正負の対称性が確保された波形となるように電力を制御することを特徴とする像加熱装置。 - 前記第1発熱体へ供給する電力のデューティ比と前記第2発熱体へ供給する電力のデューティ比の比(X:Y)を変更可能であり、
前記電力制御部は、半周期毎の前記第1発熱体の電力(W)と前記第2発熱体の電力(W)の合計の前記制御周期における変動量に応じて前記第1制御パターン又は前記第2制御パターンを選択することを特徴とする請求項1に記載の像加熱装置。 - 前記第1発熱体と前記第2発熱体は発熱分布が異なっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の像加熱装置。
- 前記電力制御部は記録材のサイズに応じて前記比(X:Y)を設定することを特徴とする請求項1〜3いずれか一項に記載の像加熱装置。
- 前記装置は更に、前記第1発熱体と前記第2発熱体によって加熱されるエンドレスベルトを有することを特徴とする請求項1〜4いずれか一項に記載の像加熱装置。
- 前記第1発熱体と前記第2発熱体はセラミック基板上に設けられており、前記セラミック基板は前記エンドレスベルトの内面に接触していることを特徴とする請求項5に記載の像加熱装置。
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