JP7447496B2 - ヒータ制御装置、定着装置、画像形成装置、及び、ヒータ制御方法 - Google Patents

ヒータ制御装置、定着装置、画像形成装置、及び、ヒータ制御方法 Download PDF

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Description

本発明は、ヒータ制御装置、定着装置、画像形成装置、及び、ヒータ制御方法に関する。
従来、画像形成装置等において、トナーの定着等にヒータが用いられる。そして、ヒータは、例えば、PWM(Pulse Width Modulation)制御等によって制御される。
さらに、ヒータは、商用交流電圧を電源として利用すると、突入電流の発生によって電源の電圧を低下させる場合がある。そのため、電源を同時に利用する蛍光灯等があるとフリッカ(flicker)が生じる場合がある。一方で、フリッカ対策のために電圧を変動させると、交流電圧の波形に歪みが生じ、高調波電流が発生しやすい。そこで、供給する電力を一定に保つことで、高調波電流の影響を低減する電圧パターンを用いる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、従来の方法では、フリッカの発生又は高調波電流の発生を十分に抑制できない場合がある。
本発明の一態様は、フリッカの発生及び高調波電流の発生を抑制することを目的とする。
本発明の一実施形態による、ヒータを制御するヒータ制御装置は、
前記ヒータに交流電圧を供給する供給部と、
前記交流電圧の2周期を1セットとし、前記1セットを1/2周期ごとに第1期、第2期、第3期、及び、第4期に分けた上で、前記第1期及び前記第2期で前記交流電圧を供給し、前記第3期及び前記第4期で前記交流電圧を供給しない第1パターン、並びに、前記第1期、前記第2期、前記第3期、及び、前記第4期で前記交流電圧を供給する第2パターンのうち、いずれかのパターンを選択して前記交流電圧を制御する制御部と、
前記第1パターン又は前記第2パターンで供給する前記交流電圧の供給量を記憶する記憶部と、を備え、
前セットで供給された第1供給量と現セットで供給される第2供給量の差が閾値を超えると、前記制御部は、前記第2パターンを選択し、
前記差が前記閾値を超えないと、前記制御部は、前記第1パターンを選択する
本発明の実施形態によって、フリッカの発生及び高調波電流の発生を抑制できる。
画像形成装置の例を示す図である。 ヒート制御装置の例を示す図である。 全体処理例を示すフローチャートである。 第1パターンの例を示す図である。 第2パターンの例を示す図である。 機能構成例を示す図である。 比較例におけるヒータの制御例を示す図である。
以下、発明を実施するための最適かつ最小限な形態について、図面を参照して説明する。なお、図面において、同一の符号を付す場合には、同様の構成であることを示し、重複する説明を省略する。また、図示する具体例は、例示であり、図示する以外の構成が更に含まれる構成であってもよい。
<ヒータ制御装置、定着装置、画像形成装置の構成例>
図1は、画像形成装置の例を示す図である。例えば、画像形成装置100は、画像を読み取るスキャナ10と、スキャナ10で読み取った画像に対して所定の画像処理を施し、画像処理後の画像に応じたトナー像を転写紙に転写するエンジン20と、転写紙を格納するための給紙トレイ30と、エンジン20で転写紙に転写されたトナー像を定着させる定着装置50とから構成される。また、ヒータ制御装置は、例えば、定着装置50が有する構成である。
スキャナ10は、原稿をスキャン露光して原稿に係る文書を画像信号に変換し、当該画像信号をエンジン20に出力する。
スキャナ10から画像信号が出力されると、エンジン20は、スキャナ10から出力された画像信号に対して、色変換及び階調補正等の画像処理を施す。そして、エンジン20では、画像処理を施した画像に応じて、静電潜像を像担持体に作像し、作像した静電潜像にトナーを付着してトナー像を形成する。さらに、エンジン20は、給紙トレイ30から搬送路40を介して搬送された転写紙に対して、形成したトナー像を転写する。その後、転写紙は、搬送路40を介して定着装置50に送られる。
次に、転写紙が定着装置50に送られると、定着装置50は、円筒状の定着ローラ51aによる熱と、加圧ローラ51bによる圧力により、転写紙に転写されているトナー像を定着させて、排紙トレイに排紙する。
図2は、ヒート制御装置の例を示す図である。例えば、ヒータ制御装置60は、定着ローラ51aと、ヒータ52と、交流電源53と、トライアック54と、温度センサ55と、制御装置56と、ゼロクロス検知装置57と、電圧検知装置58とを有する。
定着ローラ51aは、加圧ローラ51bと圧接しながら回転して、転写紙に転写されるトナー像を定着させる。
ヒータ52は、加熱手段の一例である。例えば、ヒータ52は、定着ローラ51aに内蔵される。そして、ヒータ52は、トナー像を熱で溶かし、転写紙の繊維の中に埋め込み定着させる。なお、ヒータ52には、例えば、ハロゲンランプを点灯した際に発生する放射熱によって加熱を行うハロゲンヒータが用いられる。
交流電源53は、ヒータ52に対して交流電圧を供給する。例えば、交流電源53は、時間に対して正弦波状に変化する交流電圧を供給する。
トライアック54は、スイッチング手段である。具体的には、トライアック54は、交流電源53から供給される交流電圧を制御装置56から指示されるタイミング等でスイッチング(オン及びオフの切り替えである。)を行う。そして、トライアック54は、スイッチングされた交流電圧をヒータ52に供給する。なお、トライアック54が「オン」であると、ヒータ52が通電して発熱する。一方で、トライアック54が「オフ」であると、ヒータ52が非通電となる。
ヒータ制御装置60は、例えば、温度センサ55等のセンサを有する。温度センサ55は、温度検知手段の例である。具体的には、温度センサ55は、定着ローラ51aの表面温度を測定する。例えば、温度センサ55は、温度に応じて抵抗値が変化するサーミスタを内蔵する構成である。そして、温度センサ55は、サーミスタの抵抗値に基づいて定着ローラ51aの表面温度を測定する。なお、温度センサ55は、定着ローラ51aに内蔵してもよいし、又は、温度センサ55を定着ローラ51aの表面に対向する位置に設置して、定着ローラ51aの表面温度を非接触で計測してもよい。
ゼロクロス検知装置57は、交流電源53から供給される交流電圧が0ボルトをプラス側からマイナス側、又は、マイナス側からプラス側に横切るタイミング(以下「ゼロクロスのタイミング」という。)を検知する。そして、ゼロクロス検知装置57は、ゼロクロスのタイミングを検知すると、制御装置56に対して、ゼロクロス検知信号を出力する。
電圧検知装置58は、交流電源53から供給される交流電圧の電圧値を検知する。そして、電圧検知装置58は、制御装置56に対して検知した電圧値を出力する。
制御装置56は、温度センサ55等で測定される温度と、ゼロクロス検知装置57が検知する交流電圧のゼロクロスのタイミングと、電圧検知装置58が検知する交流電圧の電圧値とに基づいて、交流電圧をスイッチングするタイミングを決定する。そして、制御装置56は、決定したタイミングに基づいてトライアック54を動作させる。
制御装置56は、例えば、CPU(Central Processing Unit)等の演算装置及び制御装置を有する。また、制御装置56は、RAM(Random Access Memory)及びROM(Read-Only Memory)等の記憶装置を有する。さらに、制御装置56は、入出力インタフェース等を介して接続されたコンピュータとして実装される。CPUは、ROMが記憶しているプログラムを読み出して実行する。そして、読み出されたプログラムは、実行可能な形式でCPU上に展開されて、制御及び処理を行う。また、記憶装置は、プログラムと、ヒータ52が備えるハロゲンランプに供給する電圧パターンを登録した供給電圧テーブル等を記憶する。
なお、ヒータ制御装置、定着装置、及び、画像形成装置の構成は、上記の構成に限られず、他の構成でもよい。
<全体処理例>
図3は、全体処理例を示すフローチャートである。例えば、ヒータ制御装置60は、ヒータ52の制御を開始すると以下のように全体処理を行う。
また、以降の説明では、交流電圧の供給量をデューティ比(Duty Rate)で示し、「0%」(最小)乃至「100%」(最大)の範囲で示す。なお、以下の例では、現在の温度が測定できれば、目標温度との温度差に基づいて、どの程度交流電圧を供給すればよいか、すなわち、デューティ比をいくつに設定すればよいかは、ヒータ制御装置60は、計算又はあらかじめ設定されるテーブル等によって特定できるとする。
ステップS1では、ヒータ制御装置60は、初期設定を行う。以下、前セットで供給された供給量(以下「第1供給量」という。)を記憶する場合を例に説明する。なお、初期設定では、他のパラメータも初期化されてよい。
ステップS2では、ヒータ制御装置60は、ヒータ52の温度を測定するのが望ましい。そして、ヒータ制御装置60は、現状の温度と、あらかじめ設定される目標温度との温度差に基づいて交流電圧の供給量を特定するのが望ましい。
なお、温度は、測定されず、推定されてもよい。
ステップS3では、ヒータ制御装置60は、現セットで供給する供給量(以下「第2供給量」という。)を算出する。例えば、ステップS2のように温度を測定する場合には、ヒータ制御装置60は、温度差等に基づいて第2供給量を算出する。
なお、第2供給量は、温度差に基づいて定めるに限られない。例えば、第2供給量、すなわち、どの程度交流電圧を供給するかは、例えば、シーケンス制御等で定まってもよい。
ステップS4では、ヒータ制御装置60は、第1供給量と第2供給量の差が閾値を超えるか否かを判断する。
次に、第1供給量と第2供給量の差が閾値を超える場合(ステップS4でYES)には、ヒータ制御装置60は、ステップS6に進む。一方で、第1供給量と第2供給量の差が閾値を超えない場合(ステップS4でNO)には、ヒータ制御装置60は、ステップS5に進む。
ステップS5では、ヒータ制御装置60は、第1パターンを選択して制御を行う。例えば、第1パターンは、以下のようなパターンである。
図4は、第1パターンの例を示す図である。以下、供給量が「0%」、「10%」、「25%」、「40%」、「50%」及び「51%以上(図では、「51~100」と示す。)」の場合に分けて説明する。
また、第1パターンは、供給しようとする供給量に合わせて、用いるパターンが切り替わる。以下の説明では、代表例として、第1パターンを構成する、第11パターンW11、第12パターンW12、第13パターンW13、第14パターンW14、第15パターンW15、及び、第16パターンW16を例に説明する。
以下、図示するように、交流電圧の2周期(図における「1周期目」及び「2周期目」の2周期である。)を「1セット」という。
第1パターンは、供給量を1セットの前半、すなわち、第1期及び第2期に均等に配分したパターンである。いずれのパターンでも、供給を「ON」にすると、交流電圧がヒータ52に供給され、加熱が起こる。したがって、供給量が大きくなると、ヒータ制御装置60は、ヒータ52の温度が高くなるように制御する。
第1パターンでは、供給量が50%以下であるか否かによって、パターンが異なる。具体的には、図示する例における「供給量」が「0」、「10」、「25」、「40」及び「50」の場合には、ヒータ制御装置60は、2周期における前半(図では、1セットのうち、「1周期目」であり、「第1期」及び「第2期」である。)を位相制御するのが望ましい。
第11パターンW11は、供給量が0%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第11パターンW11は、第11パターンW11における「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」のいずれのタイミングでも、供給を「OFF」として、交流電圧を供給しないように制御するパターンである。
第12パターンW12は、供給量が10%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第12パターンW12は、第12パターンW12における「第1期」及び「第2期」で供給がそれぞれ20%ずつ「ON」(図では、ハッチングで示す。)であり、かつ、後半(図では、1セットのうち、「2周期目」であり、「第3期」及び「第4期」である。)は「OFF」となるように制御するパターンである。
「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」は、1セットを4等分した周期、すなわち、「1/2周期」である。そのため、1/2周期のうち、「20%」が「ON」であると、全体として供給量は、「100%×25%×20%=5%」になる。このような供給が「第1期」及び「第2期」で行われるため、第12パターンW12の全体として供給量は、「5%×2=10%」となる。
第13パターンW13は、供給量が25%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第12パターンW12は、第12パターンW12における「第1期」及び「第2期」で供給がそれぞれ50%ずつ「ON」であり、かつ、後半は「OFF」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「50%」が「ON」であると、全体として供給量は、「100%×25%×50%=12.5%」になる。このような供給を「第1期」及び「第2期」で行うため、第13パターンW13の全体として供給量は、「12.5%×2=25%」となる。
第14パターンW14は、供給量が40%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第14パターンW14は、第14パターンW14における「第1期」及び「第2期」で供給がそれぞれ80%ずつ「ON」であり、かつ、後半は「OFF」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「80%」が「ON」であると、全体として供給量は、「100%×25%×80%=20%」になる。このような供給が「第1期」及び「第2期」で行われるため、第14パターンW14の全体として供給量は、「20%×2=40%」となる。
第15パターンW15は、供給量が50%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第15パターンW15は、第15パターンW15における「第1期」及び「第2期」で供給がそれぞれ100%ずつ「ON」であり、かつ、後半は「OFF」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「100%」が「ON」であると、全体として供給量は、「100%×25%×100%=25%」になる。このような供給が「第1期」及び「第2期」で行われるため、第15パターンW15の全体として供給量は、「25%×2=50%」となる。
第16パターンW16は、供給量が51%以上の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第16パターンW16は、第16パターンW16における「第1期」及び「第2期」で供給がそれぞれ100%ずつ「ON」であり、かつ、後半は、供給量に応じた分が「ON」となるように制御するパターンである。例えば、供給量が60%の場合には、第16パターンW16は、以下のようになる。
まず、第15パターンW15と同様に、「第1期」及び「第2期」、すなわち、前半のうち、「100%」が「ON」であると、第16パターンW16の前半で供給する供給量は、「25%×2=50%」となる。さらに、全体として供給する「60%」のうち、前半で供給する「50%」を除いた「10%」を後半HFで供給する。例えば、「第3期」及び「第4期」を均等に20%ずつ「ON」にすると、第16パターンW16の全体として供給量は、「50%+(100%×25%×20%×2)=60%」となる。
以上のような第1パターンを用いると、ヒータ制御装置60は、1セットにおいて、主に前半で電力を供給する。
1/2周期において「100%」未満の供給量で電力供給を行うと、交流電源電流の歪みを発生させる原因になる。そのため、1/2周期において「100%」未満の供給量で供給を行うのが少ないパターンの方が、1/2周期において「100%」未満の供給量で供給を行うのが多いパターンと比較して高調波電流を抑制できる。したがって、このようなパターンであると、高調波電流の発生を抑制できる。
ステップS6では、ヒータ制御装置60は、第2パターンを選択して制御を行う。例えば、第2パターンは、以下のようなパターンである。
図5は、第2パターンの例を示す図である。以下、第2パターンを第1パターンと同様の形式で説明する。したがって、第1パターンと同様に、代表例として、第2パターンを構成する、第21パターンW21、第22パターンW22、第23パターンW23、第24パターンW24、第25パターンW25、及び、第26パターンW26を例に説明する。
これらのパターンのうち、第21パターンW21及び第26パターンW26は、例えば、第1パターンにおける第11パターンW11及び第16パターンW16と同様のパターンである。なお、第2パターンにおける供給量「51%~100%」、すなわち、第26パターンW26は、第21パターンW21乃至第25パターンW25と同様に、1/2周期、すなわち、「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」で供給量を均等に配分したパターンでもよい。
第2パターンは、1/2周期、すなわち、「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」で供給量を均等に配分したパターンであるのが望ましい。例えば、ハロゲンヒータは、温度によってインピーダンスが変化する。そのため、供給量は、均等にした方が、ハロゲンヒータのインピーダンス変化が小さくなり、電圧変動を抑制できるため、均等に配分したパターンの方が望ましい。
第22パターンW22は、供給量が10%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第22パターンW22は、第22パターンW22における「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」のいずれの供給がそれぞれ10%ずつ「ON」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「10%」が「ON」であると、1/2周期の供給量は、「100%×25%×10%=2.5%」になる。このような供給が「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」で行われるため、第22パターンW22の全体として供給量は、「2.5%×4=10%」となる。
第23パターンW23は、供給量が25%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第23パターンW23は、第23パターンW23における「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」のいずれの供給がそれぞれ25%ずつ「ON」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「25%」が「ON」であると、1/2周期の供給量は、「100%×25%×25%=6.25%」になる。このような供給が「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」で行われるため、第23パターンW23の全体として供給量は、「6.25%×4=25%」となる。
第24パターンW24は、供給量が40%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第24パターンW24は、第24パターンW24における「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」のいずれの供給がそれぞれ40%ずつ「ON」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「40%」が「ON」であると、1/2周期の供給量は、「100%×25%×40%=10%」になる。このような供給が「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」で行われるため、第24パターンW24の全体として供給量は、「10%×4=40%」となる。
第25パターンW25は、供給量が50%の場合に用いられるパターンの例である。図示するように、第25パターンW25は、第25パターンW25における「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」のいずれの供給がそれぞれ50%ずつ「ON」となるように制御するパターンである。
1/2周期のうち、「50%」が「ON」であると、1/2周期の供給量は、「100%×25%×50%=12.5%」になる。このような供給が「第1期」、「第2期」、「第3期」及び「第4期」で行われるため、第25パターンW25の全体として供給量は、「12.5%×4=50%」となる。
以上のような第2パターンを用いると、ヒータ制御装置60は、1セットにおいて、主に全体的に均等に電力を供給する。このようなパターンであると、フリッカの発生を抑制できる。例えば、ハロゲンヒータは、温度によってインピーダンスが変化する。そのため、供給量を均等にすると、ハロゲンヒータのインピーダンス変化が小さくなり、電圧変動を抑制でき、フリッカを抑制できる。
ステップS7では、ヒータ制御装置60は、供給量を記憶する。すなわち、現セットのステップS5又はステップS6における制御によって、第2供給量がヒータ52に供給される。そこで、ステップS7では、ステップS5又はステップS6のいずれかで供給された供給量を記憶する。このように、ヒータ制御装置60は、供給量を記憶し、以降のセットでは、記憶した供給量を前セットで供給された供給量、すなわち、第1供給量として扱う。例えば、ヒータ制御装置60は、以降の周期におけるステップS4の計算等に記憶した供給量を用いる。
なお、ヒータ制御装置60は、前セット以前で供給された複数回の供給量を記憶してもよい。すなわち、ヒータ制御装置60は、前セット以前、例えば、2回前の周期、又は、3回前のセットで供給された供給量を記憶してもよい。そして、ヒータ制御装置60は、複数回の供給量の平均又は移動平均を計算して、平均供給量又は移動平均供給量を第1供給量にしてもよい。このような平均又は移動平均を用いると、ヒータ制御装置60は、1回分の供給量でステップS4等を計算する場合より精度よく制御ができる。
ステップS8では、ヒータ制御装置60は、周期が終了したか否かを判断する。次に、周期が終了したと判断すると(ステップS8でYES)、ヒータ制御装置60は、ステップS9に進む。一方で、周期が終了していないと判断すると(ステップS8でNO)、ヒータ制御装置60は、ステップS8を繰り返す、すなわち、1周期が終了するまで待機する。
ステップS9では、ヒータ制御装置60は、終了か否かを判断する。次に、終了すると判断すると(ステップS9でYES)、ヒータ制御装置60は、全体処理を終了する。一方で、終了しないと判断すると(ステップS9でNO)、ヒータ制御装置60は、ステップS2に進む、すなわち、次の周期について全体処理を行う。
ステップS4は、前セットのステップS7で記憶される第1供給量と、現セットのステップS3で算出される第2供給量に基づいて判断する処理である。
具体的には、第1供給量を「d」、第2供給量を「d」、閾値を「Dth」とすると、ステップS4は、下記(1)式のように判断する処理である。

|d-d|>Dth (1)

上記(1)式における左辺は、第1供給量と第2供給量の差を計算する例を示す。また、上記(1)式における右辺、すなわち、閾値「Dth」は、あらかじめ設定される値である。したがって、左辺の値が大きくなり、上記(1)式を満たすような場合には、ヒータ制御装置60は、ステップS4でYESと判断する。
上記(1)式において、左辺の値が大きくなる場合は、前セットで供給された第1供給量と、現セットで供給する第2供給量とが大きく異なる場合である。このように、供給量が大きく変化すると、ヒータ52の温度も大きく変化しやすい。このような場合に、フリッカが発生しやすい。そこで、上記(1)式、すなわち、ステップS4による判断で、第1供給量と第2供給量の差が大きいと判断する場合には、ヒータ制御装置60は、フリッカを抑制できる第2パターンを選択して制御するようにする。このようにすると、ヒータ制御装置60は、フリッカの発生を抑制できる。一方で、第1供給量と第2供給量の差があまり大きくない場合には、ヒータ制御装置60は、高調波電流を抑制できる第1パターンを選択して制御するようにする。このような全体処理が行われると、ヒータ制御装置60は、フリッカの発生及び高調波電流の発生を抑制できる。
<機能構成例>
図6は、機能構成例を示す図である。例えば、ヒータ制御装置60は、供給部FN1及び制御部FN2を備える機能構成である。また、ヒータ制御装置60は、図示するように、記憶部FN3、測定部FN4及び特定部FN5等を更に備える機能構成であるのが望ましい。以下、図示する機能構成を例に説明する。
供給部FN1は、交流電源53からヒータ52に交流電圧を供給する供給手順を行う。
制御部FN2は、第1パターン及び第2パターンのうち、いずれかのパターンを選択して交流電圧を制御する制御手順を行う。
記憶部FN3は、前セットで供給された第1供給量を記憶する記憶手順を行う。
測定部FN4は、ヒータ52の温度を測定する測定手順を行う。
特定部FN5は、測定部FN4が測定した温度に基づいて、ヒータ52を目標温度とするのに用いられる供給量を特定する特定手順を行う。
例えば、ヒータ制御装置60、定着装置又は画像形成装置は、商用電源等の交流電源から電力をケーブル等で入力して、交流電圧をヒータ52に供給する。そして、ヒータ52に供給する交流電圧は、ヒータ制御装置60、定着装置又は画像形成装置が有する制御装置等によって制御される。また、ヒータ52の温度を示すデータ等は、ヒータ制御装置60、定着装置又は画像形成装置が有する記憶装置等が記憶する。そして、ヒータ制御装置60、定着装置又は画像形成装置は、ヒータ制御装置60、演算装置によって、供給量の特定又はパターンの選択等といった各処理を行う。
ヒータ制御装置60は、例えば、図3が示すような手順で、図4に示すような第1パターンと図5に示すような第2パターンを切り替えてヒータ52を制御する。
すなわち、フリッカが発生しやすい状況に合わせて、ヒータ制御装置60は、第2パターンを選択して制御を行う。このように、フリッカ等の不具合が発生しやすい条件に合わせて、ヒータ制御装置60は、発生する可能性が高い不具合を抑制できる有利なパターンを選択する。
このように、高調波電流を抑制できる第1パターンと、フリッカを抑制できる第2パターンを組み合わせて制御することで、ヒータ制御装置60は、フリッカの発生及び高調波電流の発生を抑制できる。
<比較例>
図7は、比較例におけるヒータの制御例を示す図である。図示するようなパターンによる制御では、フリッカが発生する、又は、高調波が発生する場合がある。
<その他の実施形態>
上記に説明する装置は、1つの装置でなくともよい。すなわち、それぞれの装置は、複数の装置で構成されてもよい。
なお、本発明に係る各処理の全部又は一部は、コンピュータにヒータ制御方法を実行させるためのプログラムによって実現されてもよい。したがって、プログラムに基づいてヒータ制御方法が実行されると、コンピュータが有する演算装置及び制御装置は、各処理を実行するため、プログラムに基づいて演算及び制御を行う。また、コンピュータが有する記憶装置は、各処理を実行するため、プログラムに基づいて、処理に用いられるデータを記憶する。
また、プログラムは、コンピュータが読み取り可能な記録媒体に記録されて頒布することができる。なお、記録媒体は、磁気テープ、フラッシュメモリ、光ディスク、光磁気ディスク又は磁気ディスク等のメディアである。さらに、プログラムは、電気通信回線を通じて頒布することができる。
以上、実施形態における一例について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されない。すなわち、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。
52 ヒータ
53 交流電源
55 温度センサ
56 制御装置
100 画像形成装置
FN1 供給部
FN2 制御部
FN3 記憶部
FN4 測定部
FN5 特定部
W11 第11パターン
W12 第12パターン
W13 第13パターン
W14 第14パターン
W15 第15パターン
W16 第16パターン
W21 第21パターン
W22 第22パターン
W23 第23パターン
W24 第24パターン
W25 第25パターン
W26 第26パターン
特開2018-87922号公報

Claims (7)

  1. ヒータを制御するヒータ制御装置であって、
    前記ヒータに交流電圧を供給する供給部と、
    前記交流電圧の2周期を1セットとし、前記1セットを1/2周期ごとに第1期、第2期、第3期、及び、第4期に分けた上で、前記第1期及び前記第2期で前記交流電圧を供給し、前記第3期及び前記第4期で前記交流電圧を供給しない第1パターン、並びに、前記第1期、前記第2期、前記第3期、及び、前記第4期で前記交流電圧を供給する第2パターンのうち、いずれかのパターンを選択して前記交流電圧を制御する制御部と
    前記第1パターン又は前記第2パターンで供給する前記交流電圧の供給量を記憶する記憶部と、を備え、
    前セットで供給された第1供給量と現セットで供給される第2供給量の差が閾値を超えると、前記制御部は、前記第2パターンを選択し、
    前記差が前記閾値を超えないと、前記制御部は、前記第1パターンを選択する
    ヒータ制御装置。
  2. 前記記憶部は、前セット以前のセットで供給された複数回の供給量を記憶し、
    前記複数回の供給量に基づいて計算される移動平均供給量又は平均供給量を前記第1供給量にした前記差に基づいて、前記制御部は、前記第1パターン又は前記第2パターンを選択する
    請求項に記載のヒータ制御装置。
  3. 前記ヒータの温度を測定する測定部と、
    前記温度に基づいて、前記ヒータを目標温度にするのに供給する供給量を特定する特定部とを更に備える
    請求項1又は2に記載のヒータ制御装置。
  4. 前記第1パターンは、供給量を前記第1期及び前記第2期に均等に配分したパターンであり、
    前記第2パターンは、供給量を前記第1期、前記第2期、前記第3期、及び、前記第4期に均等に配分したパターンである
    請求項1~3のいずれか1項に記載のヒータ制御装置。
  5. 請求項1~4のいずれか1項に記載のヒータ制御装置を有する定着装置。
  6. 請求項に記載の定着装置を有する画像形成装置。
  7. ヒータを制御するヒータ制御装置が行うヒータ制御方法であって、
    ヒータ制御装置が、前記ヒータに交流電圧を供給する供給手順と、
    ヒータ制御装置が、前記交流電圧の2周期を1セットとし、前記1セットを1/2周期ごとに第1期、第2期、第3期、及び、第4期に分けた上で、前記第1期及び前記第2期で前記交流電圧を供給し、前記第3期及び前記第4期で前記交流電圧を供給しない第1パターン、並びに、前記第1期、前記第2期、前記第3期、及び、前記第4期で前記交流電圧を供給する第2パターンのうち、いずれかのパターンを選択して前記交流電圧を制御する制御手順とを含み、
    前セットで供給された第1供給量と現セットで供給される第2供給量の差が閾値を超えると、前記第2パターンを選択し、
    前記差が前記閾値を超えないと、前記第1パターンを選択する
    ヒータ制御方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011187238A (ja) 2010-03-05 2011-09-22 Ricoh Co Ltd ヒータ制御装置、画像形成装置、ヒータ制御方法およびプログラム
JP2013167751A (ja) 2012-02-15 2013-08-29 Murata Mach Ltd 画像形成装置
JP2014222328A (ja) 2013-05-14 2014-11-27 キヤノン株式会社 像加熱装置
JP2015219461A (ja) 2014-05-20 2015-12-07 コニカミノルタ株式会社 定着装置および画像形成装置
JP2016138944A (ja) 2015-01-26 2016-08-04 キヤノン株式会社 像加熱装置及び像加熱装置に用いるヒータ
JP2018087922A (ja) 2016-11-29 2018-06-07 株式会社リコー ヒータ制御装置、ヒータ制御方法およびプログラム

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011187238A (ja) 2010-03-05 2011-09-22 Ricoh Co Ltd ヒータ制御装置、画像形成装置、ヒータ制御方法およびプログラム
JP2013167751A (ja) 2012-02-15 2013-08-29 Murata Mach Ltd 画像形成装置
JP2014222328A (ja) 2013-05-14 2014-11-27 キヤノン株式会社 像加熱装置
JP2015219461A (ja) 2014-05-20 2015-12-07 コニカミノルタ株式会社 定着装置および画像形成装置
JP2016138944A (ja) 2015-01-26 2016-08-04 キヤノン株式会社 像加熱装置及び像加熱装置に用いるヒータ
JP2018087922A (ja) 2016-11-29 2018-06-07 株式会社リコー ヒータ制御装置、ヒータ制御方法およびプログラム

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