JP6170707B2 - 検査方法および検査装置 - Google Patents
検査方法および検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6170707B2 JP6170707B2 JP2013075922A JP2013075922A JP6170707B2 JP 6170707 B2 JP6170707 B2 JP 6170707B2 JP 2013075922 A JP2013075922 A JP 2013075922A JP 2013075922 A JP2013075922 A JP 2013075922A JP 6170707 B2 JP6170707 B2 JP 6170707B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- die
- optical image
- defect
- dimensional
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Description
前記繰り返しパターンの光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式で比較して、欠陥のある光学画像を検出する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像と、該繰り返しパターンとダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像の繰り返しパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める工程と、
前記欠陥が検出された光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出する工程と、
前記欠陥が検出された光学画像と、該光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較し、前記欠陥が検出された光学画像から再度欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、前記欠陥が検出された光学画像から欠陥が検出されない場合には、該光学画像には欠陥がないとする工程とを有することを特徴とする検査方法に関する。
前記欠陥が検出された光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出する工程では、前記欠陥が検出された光学画像を有するダイのX軸方向およびY軸方向の少なくとも一方と同じ方向に位置するダイが優先して抽出されることが好ましい。
前記寸法分布を用いて、前記最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出することが好ましい。
前記繰り返しパターンの光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式で比較する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像と、該繰り返しパターンとダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像の繰り返しパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める工程と、
前記複数のダイのそれぞれについて、最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出する工程と、
前記複数のダイの各光学画像を、最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイの各光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較し、欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出されない場合には欠陥はないとする工程とを有することを特徴とする検査方法に関する。
前記最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出する工程では、X軸方向およびY軸方向の少なくとも一方について、前記複数のダイのそれぞれと同じ方向に位置するダイが優先して抽出されることが好ましい。
前記寸法分布を用いて、前記最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出することが好ましい。
前記光学画像取得部から出力された光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式によって比較して欠陥のある光学画像を検出する第1の比較部と、
前記光学画像のパターンと、該光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像のパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める寸法差/寸法比率取得部と、
前記第1の比較部で欠陥が検出された光学画像と、該光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第2の比較部と、
前記第2の比較部での比較により、前記第1の比較部で欠陥が検出された光学画像から再度欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、前記第1の比較部で欠陥が検出された光学画像から欠陥が検出されない場合には、該光学画像には欠陥がないとする制御部とを有することを特徴とする検査装置に関する。
前記制御部は、前記寸法分布取得部から出力された前記寸法分布を用いて、前記最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出し、前記第2の比較部に出力することが好ましい。
前記光学画像取得部から出力された光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第1の比較部と、
前記光学画像のパターンと、該光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像のパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める寸法差/寸法比率取得部と、
前記光学画像と、該光学画像を有するダイと最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第2の比較部と、
前記第2の比較部での比較により、欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出されない場合には欠陥はないとする制御部とを有することを特徴とする検査装置に関する。
前記制御部は、前記寸法分布取得部から出力された前記寸法分布を用いて、前記最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出し、前記第2の比較部に出力することが好ましい。
図1は、本実施の形態における検査装置の概略構成図である。また、図2は、図1の検査装置におけるデータの流れを示す図である。尚、これらの図では、本実施の形態で必要な要素を記載しているが、検査に必要な他の公知要素が含まれていてもよい。また、本明細書において、「〜部」または「〜回路」と記載したものは、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができるが、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せやファームウェアとの組合せによって実施されるものであってもよい。プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置等の記録装置に記録される。
寸法測定回路125におけるパターンの寸法測定は、マスク101の光学画像を取得するのと並行して行われる。但し、これに限られるものではなく、例えば、比較回路108で検査を行うのと並行して、寸法測定回路125でパターンの寸法測定を行ってもよい。
図1の構成部Aにおいて、マスク101の光学画像が取得される。図4は、光学画像の取得手順を説明する図である。尚、既に述べたように、光学画像は、図2のマスク採取データ204に対応する。
比較回路108は、第1の比較部と第2の比較部とを有している。本実施の形態では、まず、第1の比較部において、マスク採取データ204同士が、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較される。具体的には、検査対象となるデータと、欠陥判定の基準となるデータとが、適切な比較判定アルゴリズムを用いて比較される。そして、両者の差が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定される。
寸法測定工程では、マスク採取データから、マスク101に描画されたパターンの寸法(CD)が測定され、次いで、ダイ−トゥ−ダイ比較方式で検査対象となる光学画像と、基準となる光学画像とにおけるパターンの寸法差(ΔCD)が求められる。図1の検査装置100では、寸法測定回路125が、センサ回路106から出力されたマスク採取データ204を用いて、パターンの寸法(CD)を測定し、さらに、この値を用いて光学画像同士のパターンの寸法差(ΔCD)を求める。このとき、位置回路107から送られた、XYθテーブル102上でのマスク101の位置情報が加味される。パターンの寸法差(ΔCD)は、パターン線幅の寸法差でもよく、パターン線幅の寸法比率でもよい。あるいは、パターン間距離の差や、パターン間距離の比率であってもよい。さらには、これらを任意に組み合わせて複数の寸法差を求めてもよい。
寸法測定回路125でパターンの寸法差(ΔCD)が求められると、得られたデータはマップ作成回路126へ送られる。マップ作成回路126では、蓄積されたΔCD値から、マスク面内での寸法分布を表すΔCDマップが作成される。このマップによれば、マスク101の検査領域において、パターンの線幅が細くなっている領域や太くなっている領域を容易に把握することができる。例えば、パターンの描画に使用される描画装置にマスクの特定部分で線幅が細くなる傾向があれば、そうした傾向を把握可能である。また、検査対象となるダイと同じまたは類似したΔCD値を有するダイを、このマップを用いて探索することができる。さらに、検出された欠陥位置のΔCD値と同じまたは類似したΔCD値を有するダイも探索可能である。
実施の形態1では、欠陥が検出されたダイについて、欠陥位置の寸法差と最も近い寸法差を有するダイと比較することで、検出すべき欠陥を有するダイであるか否かを判定した。これに対して、本実施の形態では、全てのダイについて寸法差または寸法比率の分布が近いダイを探して再検査を行う。このようにすることで、欠陥として検出する必要のない形状や線幅を欠陥としてしまう問題を低減できるとともに、検出されるべき欠陥が見逃されるのを防ぐこともできる。
以下、本願出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[C1]
繰り返しパターンを有する複数のダイが設けられた試料の光学画像を取得する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式で比較して、欠陥のある光学画像を検出する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像と、該繰り返しパターンとダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像の繰り返しパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める工程と、
前記欠陥が検出された光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出する工程と、
前記欠陥が検出された光学画像と、該光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較し、前記欠陥が検出された光学画像から再度欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、前記欠陥が検出された光学画像から欠陥が検出されない場合には、該光学画像には欠陥がないとする工程とを有することを特徴とする検査方法。
[C2]
前記試料の光学画像を取得する工程では、前記試料をX軸方向またはY軸方向に沿って短冊状に複数のストライプで仮想分割するとともに、前記試料をX軸方向とY軸方向に移動可能なXYテーブルの上に載置し、前記ストライプが連続的に走査されるように前記XYテーブルを移動させ、
前記欠陥が検出された光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出する工程では、前記欠陥が検出された光学画像を有するダイのX軸方向およびY軸方向の少なくとも一方と同じ方向に位置するダイが優先して抽出されることを特徴とする[C1]に記載の検査方法。
[C3]
前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記繰り返しパターンの寸法分布を求める工程を有し、
前記寸法分布を用いて、前記最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出することを特徴とする[C1]または[C2]に記載の検査方法。
[C4]
繰り返しパターンを有する複数のダイが設けられた試料の光学画像を取得する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式で比較する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像と、該繰り返しパターンとダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像の繰り返しパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める工程と、
前記複数のダイのそれぞれについて、最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出する工程と、
前記複数のダイの各光学画像を、最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイの各光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較し、欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出されない場合には欠陥はないとする工程とを有することを特徴とする検査方法。
[C5]
前記試料の光学画像を取得する工程では、前記試料をX軸方向またはY軸方向に沿って短冊状に複数のストライプで仮想分割するとともに、前記試料をX軸方向とY軸方向に移動可能なXYテーブルの上に載置し、前記ストライプが連続的に走査されるように前記XYテーブルを移動させ、
前記最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出する工程では、X軸方向およびY軸方向の少なくとも一方について、前記複数のダイのそれぞれと同じ方向に位置するダイが優先して抽出されることを特徴とする[C4]に記載の検査方法。
[C6]
前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記繰り返しパターンの寸法分布を求める工程を有し、
前記寸法分布を用いて、前記最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出することを特徴とする[C4]または[C5]に記載の検査方法。
[C7]
前記寸法差は、前記繰り返しパターンの線幅の差、または、前記繰り返しパターンの線間距離の差であることを特徴とする[C1]〜[C6]のいずれか1項に記載の検査方法。
[C8]
前記寸法比率は、前記繰り返しパターンの線幅の比率、または、前記繰り返しパターンの線間距離の比率であることを特徴とする[C1]〜[C6]のいずれか1項に記載の検査方法。
[C9]
試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、
前記光学画像取得部から出力された光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式によって比較して欠陥のある光学画像を検出する第1の比較部と、
前記光学画像のパターンと、該光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像のパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める寸法差/寸法比率取得部と、
前記第1の比較部で欠陥が検出された光学画像と、該光学画像を有するダイと最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第2の比較部と、
前記第2の比較部での比較により、前記第1の比較部で欠陥が検出された光学画像から再度欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、前記第1の比較部で欠陥が検出された光学画像から欠陥が検出されない場合には、該光学画像には欠陥がないとする制御部とを有することを特徴とする検査装置。
[C10]
前記寸法差/寸法比率取得部から出力された、前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記パターンの寸法分布を求める寸法分布取得部を有し、
前記制御部は、前記寸法分布取得部から出力された前記寸法分布を用いて、前記最も欠陥位置の寸法差または寸法比率が近いダイを抽出し、前記第2の比較部に出力することを特徴とする[C9]に記載の検査装置。
[C11]
試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、
前記光学画像取得部から出力された光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第1の比較部と、
前記光学画像のパターンと、該光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較された光学画像のパターンとの寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める寸法差/寸法比率取得部と、
前記光学画像と、該光学画像を有するダイと最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第2の比較部と、
前記第2の比較部での比較により、欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出されない場合には欠陥はないとする制御部とを有することを特徴とする検査装置。
[C12]
前記寸法差/寸法比率取得部から出力された、前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記パターンの寸法分布を求める寸法分布取得部を有し、
前記制御部は、前記寸法分布取得部から出力された前記寸法分布を用いて、前記最も寸法差または寸法比率の分布が近いダイを抽出し、前記第2の比較部に出力することを特徴とする[C11]に記載の検査装置。
101 マスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 フレキシブルディスク装置
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
125 寸法測定回路
126 マップ作成回路
130 オートローダ
170 照明光学系
204 マスク採取データ
205 マスク検査結果
207 欠陥情報リスト
500 レビュー装置
600 修正装置
Claims (12)
- 繰り返しパターンを有する複数のダイが設けられた試料の光学画像を取得する工程と、
前記繰り返しパターンの光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式で比較して、欠陥のあるダイの光学画像を検出する工程と、
取得された前記試料の光学画像を用いて、前記試料の複数の地点でパターンに関連する寸法を測定する工程と、
前記試料の光学画像の複数の地点の各々で測定された前記パターンに関連する寸法と前記試料の基準となる光学画像における対応するパターンに関連する寸法との間の寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める工程と、
前記欠陥が検出された光学画像を有するダイのパターンに関連する寸法差または寸法比率に最も近い寸法差または寸法比率のパターンを有するダイを抽出する工程と、
前記欠陥が検出されたダイの光学画像と、前記抽出されたダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較し、前記欠陥が検出されたダイの光学画像から再度欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、前記欠陥が検出されたダイの光学画像から欠陥が検出されない場合には、該ダイの光学画像には欠陥がないとする工程とを有することを特徴とする検査方法。 - 前記試料の光学画像を取得する工程では、前記試料をX軸方向またはY軸方向に沿って短冊状に複数のストライプで仮想分割するとともに、前記試料をX軸方向とY軸方向に移動可能なXYテーブルの上に載置し、前記ストライプが連続的に走査されるように前記XYテーブルを移動させ、
前記欠陥が検出された光学画像を有するダイのパターンに関連する寸法差または寸法比率に最も近い寸法差または寸法比率のパターンを有するダイを抽出する工程では、前記欠陥が検出された光学画像を有するダイのX軸方向およびY軸方向の少なくとも一方と同じ方向に位置するダイが優先して抽出されることを特徴とする請求項1に記載の検査方法。 - 前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記試料の面内におけるパターンに関連する前記寸法差または寸法比率の分布を求める工程を有し、
前記分布を用いて、前記欠陥が検出されたダイの光学画像における欠陥位置のパターンに関連する寸法差または寸法比率に最も近い寸法差または寸法比率に関連するパターンを有するダイを抽出することを特徴とする請求項1または2に記載の検査方法。 - 繰り返しパターンを有する複数のダイが設けられた試料の光学画像を取得する工程と、
取得された前記試料の光学画像を用いて、前記試料の複数の地点でパターンに関連する寸法を測定する工程と、
前記試料の複数の地点の各々で測定された前記パターンに関連する寸法と前記試料の基準となる光学画像における対応するパターンに関連する寸法との間の寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める工程と、
前記複数のダイのそれぞれについて、寸法差または寸法比率が最も近い関連するパターンを有するダイを抽出する工程と、
前記複数のダイの各光学画像を、寸法差または寸法比率が最も近い関連するパターンを有するダイの各光学画像とダイ−トゥ−ダイ方式によって比較し、欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出されない場合には欠陥はないとする工程とを有することを特徴とする検査方法。 - 前記試料の光学画像を取得する工程では、前記試料をX軸方向またはY軸方向に沿って短冊状に複数のストライプで仮想分割するとともに、前記試料をX軸方向とY軸方向に移動可能なXYテーブルの上に載置し、前記ストライプが連続的に走査されるように前記XYテーブルを移動させ、
前記寸法差または寸法比率が最も近い関連するパターンを有するダイを抽出する工程では、X軸方向およびY軸方向の少なくとも一方について、前記複数のダイのそれぞれと同じ方向に位置するダイが優先して抽出されることを特徴とする請求項4に記載の検査方法。 - 前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記試料の面内におけるパターンに関連する前記寸法差または寸法比率の分布を求める工程を有し、
前記分布を用いて、前記寸法差または寸法比率が最も近い関連するパターンを有するダイを抽出することを特徴とする請求項4または5に記載の検査方法。 - 前記寸法差は、前記繰り返しパターンの線幅の差、または、前記繰り返しパターンの線間距離の差であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の検査方法。
- 前記寸法比率は、前記繰り返しパターンの線幅の比率、または、前記繰り返しパターンの線間距離の比率であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の検査方法。
- 繰り返しパターンを有する複数のダイが設けられた試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、
前記光学画像取得部から出力された光学画像同士をダイ−トゥ−ダイ方式によって比較して欠陥のあるダイの光学画像を検出する第1の比較部と、
取得された前記試料の光学画像を用いて、前記試料の複数の地点でパターンに関連する寸法を測定する寸法測定部と、
前記試料の光学画像の複数の地点の各々で測定された前記パターンに関連する寸法と前記試料の基準となる光学画像における対応するパターンに関連する寸法と間の寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める寸法差または寸法比率取得部と、
前記第1の比較部で欠陥が検出されたダイの光学画像と、該光学画像を有するダイのパターンに関連した寸法差または寸法比率と寸法差または寸法比率が最も近い寸法差または寸法比率のパターンを有するダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する第2の比較部と、
前記第2の比較部での比較により、前記第1の比較部で欠陥が検出されたダイの光学画像から再度欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、前記第1の比較部で欠陥が検出されたダイの光学画像から欠陥が検出されない場合には、該ダイの光学画像には欠陥がないとする制御部とを有することを特徴とする検査装置。 - 前記寸法差/寸法比率取得部から出力された、前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記試料の面内におけるパターンに関連する前記寸法差または寸法比率の分布を求める寸法分布取得部を有し、
前記制御部は、前記寸法分布取得部から出力された前記分布を用いて、前記欠陥が検出されたダイの光学画像における欠陥位置のパターンに関連する寸法差または寸法比率に最も近い寸法差または寸法比率に関連するパターンを有するダイの光学画像を抽出し、前記第2の比較部に出力することを特徴とする請求項9に記載の検査装置。 - 繰り返しパターンを有する複数のダイが設けられた試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、
取得された前記試料の光学画像を用いて、前記試料の複数の地点でパターンに関連する寸法を測定する寸法測定部と、
前記試料の複数の地点の各々で測定された前記パターンに関連する寸法と前記試料の基準となる光学画像における対応するパターンに関連する寸法との間の寸法差および寸法比率の少なくとも一方を求める寸法差または寸法比率取得部と、
前記ダイの光学画像と、該光学画像を有するダイのパターンに関連する寸法差または寸法比率に最も近い寸法差または寸法比率に関連するパターンを有するダイの光学画像とを、ダイ−トゥ−ダイ方式によって比較する比較部と、
前記比較部での比較により、欠陥が検出された場合には該欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出されない場合には欠陥はないとする制御部とを有することを特徴とする検査装置。 - 前記寸法差/寸法比率取得部から出力された、前記寸法差および前記寸法比率の少なくとも一方から、前記試料の面内におけるパターンに関連する前記寸法差または寸法比率の分布を求める寸法分布取得部を有し、
前記制御部は、前記寸法分布取得部から出力された前記分布を用いて、前記寸法差または寸法比率が最も近いパターンを有するダイの光学画像を抽出し、前記比較部に出力することを特徴とする請求項11に記載の検査装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013075922A JP6170707B2 (ja) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | 検査方法および検査装置 |
US14/228,448 US9767547B2 (en) | 2013-04-01 | 2014-03-28 | Inspection method and inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013075922A JP6170707B2 (ja) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | 検査方法および検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014202482A JP2014202482A (ja) | 2014-10-27 |
JP6170707B2 true JP6170707B2 (ja) | 2017-07-26 |
Family
ID=51620899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013075922A Active JP6170707B2 (ja) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | 検査方法および検査装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9767547B2 (ja) |
JP (1) | JP6170707B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9207530B2 (en) * | 2010-02-23 | 2015-12-08 | Carl Zeiss Sms Ltd. | Analyses of measurement data |
JP6043662B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2016-12-14 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法および検査装置 |
JP6368081B2 (ja) | 2013-11-06 | 2018-08-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 計測装置 |
JP6259642B2 (ja) | 2013-11-06 | 2018-01-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 計測装置 |
JP6513982B2 (ja) * | 2015-03-16 | 2019-05-15 | 株式会社東芝 | 欠陥検査装置並びに欠陥検査装置の管理方法及び管理装置 |
JP2018180578A (ja) * | 2017-04-03 | 2018-11-15 | 富士通株式会社 | 設計支援プログラム、情報処理装置、および設計支援方法 |
EP3454128B1 (en) * | 2017-09-12 | 2020-01-29 | IMEC vzw | A method and system for detecting defects of a lithographic pattern |
US10755405B2 (en) * | 2017-11-24 | 2020-08-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and system for diagnosing a semiconductor wafer |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69208413T2 (de) * | 1991-08-22 | 1996-11-14 | Kla Instr Corp | Gerät zur automatischen Prüfung von Photomaske |
JP4236825B2 (ja) | 2001-03-30 | 2009-03-11 | ライトロン株式会社 | フォトマスク検査装置及びフォトマスク検査方法 |
JP3824542B2 (ja) | 2002-01-25 | 2006-09-20 | 株式会社東芝 | 線幅検査方法とその装置 |
JP3668215B2 (ja) * | 2002-08-21 | 2005-07-06 | 株式会社東芝 | パターン検査装置 |
JP4199786B2 (ja) * | 2006-08-10 | 2008-12-17 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | 試料検査装置、画像位置合わせ方法及びプログラム |
US9207530B2 (en) * | 2010-02-23 | 2015-12-08 | Carl Zeiss Sms Ltd. | Analyses of measurement data |
JP5514754B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2014-06-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置および検査方法 |
JP5753461B2 (ja) * | 2011-08-18 | 2015-07-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
US20130108146A1 (en) * | 2011-11-01 | 2013-05-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and System for Optical Inspection Using Known Acceptable Dies |
-
2013
- 2013-04-01 JP JP2013075922A patent/JP6170707B2/ja active Active
-
2014
- 2014-03-28 US US14/228,448 patent/US9767547B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9767547B2 (en) | 2017-09-19 |
US20140294283A1 (en) | 2014-10-02 |
JP2014202482A (ja) | 2014-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6170707B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP6043662B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP6134565B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP4336672B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
US10460435B2 (en) | Pattern inspection method and pattern inspection apparatus | |
JP4185516B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP4323475B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP5514754B2 (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP4970569B2 (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
JP2017053674A (ja) | パターン幅寸法のずれ量測定方法及びパターン検査装置 | |
JP2011196952A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP5010701B2 (ja) | 検査装置および検査方法 | |
CN109314067B (zh) | 在逻辑及热点检验中使用z层上下文来改善灵敏度及抑制干扰的系统及方法 | |
JP2017058190A (ja) | 参照画像作成用の基準データ作成方法及びパターン検査装置 | |
US20070053578A1 (en) | Pattern inspection apparatus and method and reticle for use therein | |
JP6625478B2 (ja) | パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置 | |
JP2019135464A (ja) | パターン検査方法およびパターン検査装置 | |
TWI686673B (zh) | 檢查方法 | |
JP4922381B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP4199759B2 (ja) | インデックス情報作成装置、試料検査装置、レビュー装置、インデックス情報作成方法及びプログラム | |
JP4185515B2 (ja) | 試料検査方法、プログラム及び試料検査装置 | |
JP6255191B2 (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2015105897A (ja) | マスクパターンの検査方法 | |
JP4131728B2 (ja) | 画像作成方法、画像作成装置及びパターン検査装置 | |
JP4977123B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160218 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20160712 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160729 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170703 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6170707 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |