JP6169093B2 - パターン付ロール及びその製造方法 - Google Patents
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Description
前記パルスレーザとしてナノ秒以下のパルス幅を有するレーザを用いることを特徴とする。
円周600mm、面長1100mmの版母材(アルミ中空ロール)を準備し、全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置(製品名:New FX、株式会社シンク・ラボラトリー製)を用いて、下記に示すDLC被覆膜の成膜までを行った。まず、版母材(アルミ中空ロール)を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて20A/dm2、6.0Vで100μmの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4ヘッド型研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。次いで、ニッケルメッキ槽に装着し、メッキ液に半没させて2A/dm2、7.0Vで2μmのニッケルメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なニッケルメッキ層を得た。上記形成したニッケルメッキ層を基材としてその基材の表面にDLC被覆膜をCVD法で形成した。雰囲気アルゴン/水素ガス雰囲気、原料ガスにヘキサメチルジシロキサン、成膜温度80−120℃、成膜時間60分で膜厚0.1μmの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度80−120℃、成膜時間180分で膜厚2.7μmのDLC被覆膜を成膜した。
波長:355nm、
加工エネルギー:10μJ/P(パルス)、
パルス繰り返し率:100KHz〜200KHz、
加工点の平均出力:2W、
スピード:500mm/s。
円周600mm、面長1100mmの版母材(アルミ中空ロール)を準備し、全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置(製品名:New FX、株式会社シンク・ラボラトリー製)を用いて、下記に示すDLC被覆膜の成膜までを行った。まず、版母材(アルミ中空ロール)を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて20A/dm2、6.0Vで100μmの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4ヘッド型研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。次いで、クロムメッキ槽に装着し、メッキ液に半没させて2A/dm2、7.0Vで2μmのクロムメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なクロムメッキ層を得た。上記形成したクロムメッキ層を基材としてその基材の表面にDLC被覆膜をCVD法で形成した。雰囲気アルゴン/水素ガス雰囲気、原料ガスにヘキサメチルジシロキサン、成膜温度80−120℃、成膜時間60分で膜厚0.1μmの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度80−120℃、成膜時間180分で膜厚2.7μmのDLC被覆膜を成膜した。
波長:355nm、
加工エネルギー:10μJ/P(パルス)、
パルス繰り返し率:100KHz〜200KHz、
加工点の平均出力:2W、
スピード:500mm/s。
円周600mm、面長1100mmの版母材(アルミ中空ロール)を準備し、全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置(製品名:New FX、株式会社シンク・ラボラトリー製)を用いて、下記に示すDLC被覆膜の成膜までを行った。まず、版母材(アルミ中空ロール)を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて20A/dm2、6.0Vで100μmの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4ヘッド型研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度80−120℃、成膜時間180分で膜厚2.7μmのDLC被覆膜を成膜した。
波長:355nm、
加工エネルギー:10μJ/P(パルス)、
パルス繰り返し率:100KHz〜200KHz、
加工点の平均出力:2W、
スピード:500mm/s。
円周600mm、面長1100mmの版母材(アルミ中空ロール)を準備し、全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置(製品名:New FX、株式会社シンク・ラボラトリー製)を用いて、下記に示すDLC被覆膜の成膜までを行った。まず、版母材(アルミ中空ロール)を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて20A/dm2、6.0Vで100μmの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4ヘッド型研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。次いで、ニッケルメッキ槽に装着し、メッキ液に半没させて2A/dm2、7.0Vで2μmのニッケルメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なニッケルメッキ層を得た。上記形成したニッケルメッキ層を基材としてその基材の表面にDLC被覆膜をCVD法で形成した。雰囲気アルゴン/水素ガス雰囲気、原料ガスにヘキサメチルジシロキサン、成膜温度80−120℃、成膜時間60分で膜厚0.1μmの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度80−120℃、成膜時間180分で膜厚10μmのDLC被覆膜を成膜した。
波長:355nm、
加工エネルギー:80μJ/P(パルス)、
パルス繰り返し率:100KHz〜200KHz、
加工点の平均出力:8W、
スピード:300mm/s。
Claims (4)
- 基材を準備する工程と、該基材の表面にDLC被覆膜を形成する工程と、該DLC被覆膜にパルスレーザを照射してレーザアブレーションを行い、前記DLC被覆膜を前記レーザアブレーションにより剥離せしめることにより該基材の表面は削られることなく該基材の表面にDLCパターンを形成する工程と、を含み、前記パルスレーザとしてナノ秒以下のパルス幅を有するレーザを用いることを特徴とし、エッチングを行うことのないパターン付ロールの製造方法。
- 前記DLC被覆膜が形成される基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、銀、ステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項1記載のパターン付ロールの製造方法。
- 前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項1又は2記載のパターン付ロールの製造方法。
- 前記DLC被覆膜の厚さが、0.1μm〜20μmであることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のパターン付ロールの製造方法。
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