JP6166602B2 - 両面塗工装置及び両面塗工方法 - Google Patents

Description

本発明は、基材の両面に塗工液を塗工する両面塗工装置及び両面塗工方法に関する。

従来、帯状の基材を搬送しながら、ダイヘッドを用いて基材の両面に塗工液を塗工する両面塗工装置が提案されている（特許文献１，２参照）。ダイヘッドは、基材の片面へ塗工液を吐出することによって、基材の片面に塗工液を塗工する。以下では、基材に塗工された塗工液の膜を塗工膜という。
特許文献１に記載の両面塗工装置（文中「両面同時塗工装置」）においては、対向配置された２個のダイヘッドが、縦姿勢に配された基材の両面に同時的に塗工液を塗工する。この後、両面塗工装置は、基材の両面の塗工膜を乾燥させる。

特許文献２に記載の両面塗工装置（文中「塗工装置」）においては、まず、バックアップロールに支持された基材の一面に、第１のダイヘッドが塗工液を塗工し、次に、他面を下に向けて横姿勢に配された基材の他面に、第２のダイヘッドが塗工液を塗工する。この後、両面塗工装置は、基材の両面の塗工膜を乾燥させる。

特許第２９２９１８９号公報 特許第３３１４３３８号公報

しかしながら、特許文献１に記載されている両面塗工装置を用いる場合、塗工液を精密に塗工することが困難な場合がある。何故ならば、例えば同じ膜厚を有する塗工膜を基材の両面に形成するときに、一方のダイヘッドから吐出される塗工液の圧力が他方のそれより高いと、両面の塗工膜の膜厚に差が生じるからである。
一方、特許文献２に記載されている両面塗工装置を用いる場合、基材の一面及び他面に個別に塗工液を塗工するため、所定の膜厚を有する塗工膜を片面毎に精密に形成することが容易である。

とはいえ、幅広の基材、延性が高い基材、又は、いわゆる腰が弱い基材等は、幅狭の基材、延性が低い基材、又は、いわゆる腰が強い基材等に比べると、基材に加わる外力又は自重等によって、無用に変形し易い（例えば、幅方向に弛み易い）。また、第２のダイヘッドが塗工液を高圧で吐出すると、基材は、塗工液に押されて無用に変形し易くなる。
基材が平かでない状態では、特許文献２に記載されている両面塗工装置を用いたとしても、均一な塗工膜を形成することはできない。故に、特許文献２に記載されている両面塗工装置を用いる場合には、基材の無用な変形を抑制すべく、基材のサイズ又は機械的強度等が限定され、吐出時の塗工液の圧力が制限される。

ところで、基材の塗工効率を向上させるために、基材を高速で搬送しながら塗工することが望まれている。ところが、吐出時の塗工液の圧力が一定であれば、基材の搬送速度が高いほど塗工膜は薄くなる。一方、基材の搬送速度が一定であれば、吐出時の塗工液の圧力が高いほど塗工膜は厚くなる。故に、基材を従来よりも高速で搬送し、しかも、塗工膜を従来のものと同じ膜厚にするためには、塗工液を従来よりも高圧で吐出しなければならない。

つまり、特許文献２に記載されている両面塗工装置を用いる場合には、基材を高速で搬送することによって基材の塗工効率を向上させることはできない。何故ならば、吐出時の塗工液の圧力が制限されているため、基材の搬送速度も制限されるからである。

本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、基材のサイズ又は機械的強度等を問わず、種々の基材の両面に塗工液を精密に塗工することができ、しかも、基材の塗工効率を向上させることができる両面塗工装置及び両面塗工方法を提供することにある。

本発明に係る両面塗工装置は、両面塗工すべき基材の一面に塗工液を塗工するための一面塗工部と、前記基材の他面に塗工液を塗工するための他面塗工部と、前記基材の両面に塗工された塗工液を乾燥させるための乾燥部と、前記一面塗工部、他面塗工部、及び乾燥部へ、この順に前記基材を相対的に搬送する搬送部とを備える両面塗工装置において、前記他面塗工部は、前記他面に前記塗工液を塗工するダイヘッドと、該ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配される棒状部材とを備え、前記棒状部材は、前記一面に塗工されている前記塗工液を掻き均す掻き均し部を有し、該掻き均し部と前記ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配されるようにしてあり、前記棒状部材は、長さ方向に平行な平面状の前記掻き均し部を有するメタリングバーを用いてなることを特徴とする。

本発明に係る両面塗工装置は、前記棒状部材の長さ方向の撓みを補正すべく、前記棒状部材の長さ方向の適宜の箇所に、前記長さ方向に交差する方向の外力を加える補正部を更に備えることを特徴とする。

本発明に係る両面塗工装置は、前記棒状部材は横姿勢に配されており、前記補正部は、縦姿勢に配された軸部と、該軸部を上下移動可能に支持し、前記軸部を上下移動／静止させる軸可動部と、前記軸部に連結されており、前記棒状部材の長さ方向の一部分を把持する把持部と、該把持部を上下移動可能に支持し、前記棒状部材の前記把持部に把持されている部分の軸心を配すべき所定位置から上下方向に第１所定距離だけ離隔した位置に配されている支持部と、前記把持部に設けられており、前記軸心から上下方向に第２所定距離だけ離隔した位置に配されている位置指標部と、該位置指標部及び前記支持部の離隔距離を検出する検出部とを有することを特徴とする。

本発明に係る両面塗工方法は、両面塗工すべき基材の一面に塗工液を塗工するための一面塗工部と、前記基材の他面に塗工液を塗工するための他面塗工部と、前記基材の両面に塗工された塗工液を乾燥させるための乾燥部と、前記一面塗工部、他面塗工部、及び乾燥部へ、この順に前記基材を相対的に搬送する搬送部とを備え、前記他面塗工部は、前記他面に前記塗工液を塗工するダイヘッドと、該ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配される棒状部材とを備え、前記棒状部材は、前記一面に塗工されている前記塗工液を掻き均す掻き均し部を有し、該掻き均し部と前記ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配されるようにしてある両面塗工装置を用いて、両面塗工すべき基材の一面に、塗工液を第１膜厚及び第１幅の膜状に塗工し、前記基材の他面に、塗工液を第２膜厚及び第２幅の膜状に塗工し、次いで、前記両面塗工装置が備える乾燥部にて、前記基材の両面に塗工されている塗工液を乾燥させる両面塗工方法であって前記両面塗工装置が備える搬送部が、前記基材を、前記両面塗工装置が備える一面塗工部又は他面塗工部に対して相対的に搬送している場合に、まず、前記一面塗工部にて、前記一面に、塗工液を前記第１膜厚よりも厚く前記第２幅よりも狭い膜状に塗工し、次に、前記他面塗工部にて、該他面塗工部が有するダイヘッドが、前記他面に、塗工液を前記第２膜厚及び第２幅の膜状に塗工すると共に、前記他面塗工部が有する棒状部材が、前記一面に塗工されている塗工液を前記第１膜厚及び第１幅の膜状となるよう掻き均すことを特徴とする。

本発明にあっては、基材の、ダイヘッドによって塗工される部分（以下、被塗工部分という）は、ダイヘッドと棒状部材との間に配される。このため、被塗工部分の無用な変形が抑制される。無用な変形が生じていない被塗工部分に対して、塗工液を精密に塗工することは容易である。
また、棒状部材は、例えばドクターブレードのような板状の部材に比べて、無用な変形（例えば撓み）が生じ難い。従って、棒状部材の無用な変形に起因する被塗工部分の無用な変形が抑制される。

本発明にあっては、本発明に係る両面塗工装置（具体的には、掻き均し部を有する棒状部材を備える両面塗工装置）を用いて、本発明に係る両面塗工方法が実現される。

まず、一面塗工部にて、基材の一面に、第１膜厚及び第１幅よりも厚く狭い塗工膜が形成される。次に、他面塗工部にて、基材の他面に、第２膜厚及び第２幅の塗工膜が形成されると共に、基材の一面にて、第１膜厚及び第１幅よりも厚く狭い塗工膜が、第１膜厚及び第１幅の塗工膜になるよう掻き均される。このため、他面塗工部にて基材の一面の塗工膜に棒状部材が接触することによって、基材の一面の塗工膜が第１膜厚及び第１幅よりも薄く広くなるという不都合が抑制される。

本発明にあっては、マイクロバー又はメタリングバーを用いて棒状部材が構成される。
マイクロバーが有する掻き均し部は、円柱棒状であるマイクロバーの周面に連なる曲面状をなす。このため、棒状部材の長さ方向に平行な平面状の掻き均し部に比べると、掻き均し部の精度（特に棒状部材の長さ方向の均一性）を容易に向上させることができる。従って、マイクロバーを用いてなる棒状部材は、自身の精度不足に起因する被塗工部分の無用な変形を抑制することができる。

一方、メタリングバーが有する掻き均し部は、メタリングバーの長さ方向に平行な平面状をなす。このため、掻き均し部とダイヘッドとの間で、被塗工部分を平坦状に保持することができる。従って、メタリングバーは、基材の他面における塗工膜の膜厚の均一性を更に向上させることができる。

本発明にあっては、補正部が棒状部材の長さ方向の撓みを補正する。このため、棒状部材の長さ方向の無用な撓みに起因する被塗工部分の無用な変形を抑制することができる。

本発明にあっては、軸部が静止している状態で、検出部の検出結果（以下、離隔距離Ｌという）と第２所定距離との和が、第１所定距離に等しくなるよう、軸可動部による軸部の上下移動が行なわれる。以下では、第１所定距離Ｌ1 及び第２所定距離Ｌ2 とする（Ｌ1 ，Ｌ2 は正数）。
第１所定距離Ｌ1 は、支持部と、棒状部材の把持部に把持されている部分の軸心を配すべき所定位置（以下、所定軸心位置という）との離隔距離である。第２所定距離Ｌ2 は、位置指標部と、棒状部材の把持部に把持されている部分の軸心との離隔距離である。離隔距離Ｌは、位置指標部と支持部との離隔距離である。

棒状部材が長さ方向に撓んでいなければ、棒状部材の把持部に把持されている部分の軸心は、所定軸心位置に位置している。このとき、Ｌ＋Ｌ2 ＝Ｌ1 となる。故に、Ｌ＋Ｌ2 ≠Ｌ1 であれば、棒状部材が長さ方向に撓んでいることがわかる。従って、Ｌ＋Ｌ2 ≠Ｌ1 である場合に、自動又は手動によって、軸可動部による軸部の上下移動が行なわれる。この結果、Ｌ＋Ｌ2 ＝Ｌ1 となる。

本発明の両面塗工装置による場合、被塗工部分がダイヘッドと棒状部材との間に介在する。このため、被塗工部分の無用な変形を抑制することができる。従って、基材のサイズ又は機械的強度等を問わず、種々の基材の両面に塗工液を精密に塗工することができる。
また、被塗工部分の無用な変形が抑制されているため、塗工液が高圧で吐出されても、塗工液を精密に塗工することができる。従って、基材の搬送速度を上昇させることができる。この結果、基材の塗工効率を向上させることができる。

本発明の両面塗工装置及び両面塗工方法による場合、基材の一面に対する塗工液の塗工及び塗工膜の掻き均しを、一面塗工部及び他面塗工部にて精密に行なうことができ、基材の他面に対する塗工を、他面塗工部にて精密に行なうことができる。以上の結果、基材の両面に塗工膜を精密に形成することができる。

本発明の実施の形態１に係る両面塗工装置の側面視の構成を示す模式図である。 両面塗工装置が備える他面塗工部の部分拡大縦断面図である。 両面塗工装置による塗工膜の形成手順を説明するための模式図（側面視）である。 両面塗工装置による塗工膜の形成手順を説明するための模式図（平面視）である。 本発明の実施の形態２に係る両面塗工装置が備える他面塗工部の部分拡大縦断面図である。 本発明の実施の形態３に係る両面塗工装置が備える補正部の側面視の構成を示す模式図である。 本発明の実施の形態３に係る両面塗工装置が備える補正部の背面視の構成を示す模式図である。

以下、本発明を、その実施の形態を示す図面に基づいて詳述する。以下の説明では、図において矢符で示す上下、前後、及び左右を使用する。

実施の形態 １．
図１は、本発明の実施の形態１に係る両面塗工装置１の側面視の構成を示す模式図である。図中上側／下側は両面塗工装置１の上側／下側であり、図中手前側／奥側は両面塗工装置１の左側／右側である。本実施の形態では、後述する基材２の搬送方向（図中白抜矢符方向）の下流側を前側又は正面側といい、上流側を後ろ側又は背面側という。
図２は、両面塗工装置１が備える他面塗工部１２の部分拡大縦断面図である。
両面塗工装置１は、帯状の基材２を搬送しながら、基材２の両面に塗工膜を形成する。
基材２は、例えば1200mm程度の幅を有する帯状の金属箔を用いてなる。塗工液（塗布液）は、例えば3000cps 〜10000cps程度の粘度を有する。基材２の搬送速度は、例えば20m/min 〜50m/min 程度である。

図１に示すように、両面塗工装置１は、一面塗工部１１、他面塗工部１２、乾燥部１３、搬送部１４、及び皺抑制部１５を備えている。搬送部１４は、基材２を一面塗工部１１、他面塗工部１２、及び乾燥部１３へ、順に搬送する。基材２の搬送方向は、基材２の長さ方向に等しい。このとき、基材２の幅方向は、両面塗工装置１の左右方向に等しい。一面塗工部１１では、基材２の一面に塗工液が塗工される。他面塗工部１２では、基材２の他面に塗工液が塗工され、且つ、基材２の一面に形成されている塗工膜に対して後述するような掻き均しが行なわれる。他面塗工部１２の前後では、皺抑制部１５が基材２に無用の皺が生じることを抑制する。乾燥部１３では、基材２の両面に形成されている塗工膜が乾燥する。

まず、図１を参照しつつ、搬送部１４について説明する。
搬送部１４は、搬送ロール１４１，１４２を有する。更に、後述するバックアップロール１１１が、搬送部１４の一部として機能する。搬送ロール１４１，１４２及びバックアップロール１１１夫々の回転軸は、左右方向に配されている。
基材２は、搬送ロール１４１、バックアップロール１１１、及び搬送ロール１４２に、後ろ側（搬送方向上流側）から、順に架け渡される。このとき、基材２には、前後方向（基材２の長さ方向）に弛まないよう適宜の張力が加えられる。

搬送ロール１４１には、両面未塗工の基材２が掛回される。バックアップロール１１１には、基材２の一面が露出し、基材２の他面がバックアップロール１１１に接触するようにして、基材２が掛回される。搬送ロール１４２には、一面が塗工済み、且つ他面が未塗工の基材２が掛回される。このとき、基材２の他面が搬送ロール１４２に接触する。
搬送ロール１４１，１４２及びバックアップロール１１１の回転に伴って、まず、両面未塗工の基材２が一面塗工部１１に搬入される。また、一面が塗工済み、且つ他面が未塗工の基材２が、一面塗工部１１から搬出される。一面塗工部１１から搬出された基材２は、一面が上向き、他面が下向きの横姿勢で、他面塗工部１２に搬入される。更に、両面塗工済みの基材２が、他面塗工部１２から搬出される。他面塗工部１２から搬出された基材２は、乾燥部１３に搬入される。

次に、一面塗工部１１について説明する。
一面塗工部１１は、第１ダイヘッド３１及びバックアップロール１１１を有する。一面塗工部１１においては、バックアップロール１１１に支持された基材２の一面に、第１ダイヘッド３１が塗工液を塗工する。

第１ダイヘッド３１には、塗工液を吐出するためのスリットが形成されている。第１ダイヘッド３１のスリット開口は、第１ダイヘッド３１のリップ部分の先端面（以下、リップ面という）に位置している。第１ダイヘッド３１は、スリット開口の長手方向が左右方向に一致するよう配されている。第１ダイヘッド３１のスリット開口の左右方向の長さ（即ちスリット開口の長手方向の長さ。以下、スリットの開口長さという）は調節可能である。スリットの開口長さを調節するためには、例えば図示しない公知の調節部材を第１ダイヘッド３１のスリットに着脱すればよい。

第１ダイヘッド３１のリップ面は、バックアップロール１１１の周面に対向配置されている。第１ダイヘッド３１のリップ面と、バックアップロール１１１の周面との間の離隔距離は、基材２の厚みと後述する第３膜厚Ｄ3 との和である。
第１ダイヘッド３１のスリット開口は、基材２の被塗工部分に臨む。つまり、基材２の被塗工部分は、第１ダイヘッド３１のリップ面と、バックアップロール１１１の周面との間に配される。

第１ダイヘッド３１は、スリットを通して塗工液を吐出する。すると、吐出された塗工液が、被塗工部分に付着する。つまり、一面塗工部１１における基材２の被塗工部分とは、基材２の一面における第１ダイヘッド３１のリップ面に対面している部分である。
搬送されている基材２に対して第１ダイヘッド３１が塗工液を連続的に吐出し続ければ、基材２の一面に連続的に塗工膜が形成される（いわゆる「全面ベタ塗り」）。塗工膜の膜厚は、第１ダイヘッド３１が塗工液を高圧で吐出するほど厚くなり、搬送部１４が基材２を高速で搬送するほど薄くなる。塗工膜の幅は、第１ダイヘッド３１のスリットの開口長さに対応する。
なお、搬送されている基材２に対して第１ダイヘッド３１が塗工液を間欠的に吐出し続ければ、基材２の一面に断続的に塗工膜が形成される。塗工膜の長さは、塗工液の吐出が持続する時間の長さと基材２の搬送速度とに依存する。

一面塗工部１１における基材２には、例えば塗工液の吐出に起因する外力が印加される。しかしながら、基材２はバックアップロール１１１の周面に接触することによってバックアップロール１１１に支持されている。このため、基材２に加えられる外力又は基材２の自重等によって、基材２の被塗工部分が無用に変形することが抑制されている。
基材２の被塗工部分における無用な変形が抑制されているため、一面塗工部１１では、基材２の一面に塗工液を精密に塗工することができる。

以上のような一面塗工部１１は、第１ダイヘッド３１及びバックアップロール１１１を有する従来のダイコータと同様に構成すればよい。
なお、一面塗工部１１は、ダイコータを用いてなる構成に限定されるものではない。例えば、一面塗工部１１は、従来のロールコータと同様に構成されていてもよい。とはいえ、一面塗工部１１は、ダイコータを用いてなる構成である方が望ましい。何故ならば、他面塗工部１２が後述する第２ダイヘッド（ダイヘッド）３２を有しているため、一面塗工部１１と他面塗工部１２との間で、塗工作業者の作業手順及び各部を構成する部品の種類等を共通化することができるからである。

次に、図１及び図２を参照しつつ、他面塗工部１２について説明する。
他面塗工部１２は、第１ダイヘッド３１と同様の構成を有する第２ダイヘッド３２と、メタリングバーを用いてなるバックアップバー（棒状部材）４とを有する。他面塗工部１２においては、基材２の他面（下面）に、第２ダイヘッド３２が塗工液を塗工する。また、他面塗工部１２においては、バックアップバー４が、基材２の一面（上面）に形成されている塗工膜の掻き均しを行なう。
第２ダイヘッド３２にはスリット３２ａが形成されている。第２ダイヘッド３２のスリット開口は、第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂに位置している。リップ面３２ｂは平面状である。第２ダイヘッド３２は、リップ面３２ｂを上向きの横姿勢にし、スリット開口の長手方向が左右方向に一致するよう配されている。第２ダイヘッド３２のスリット３２ａの開口長さは調節可能である。

バックアップバー４（後述する図６及び図７参照）は、円柱棒状である。バックアップバー４の断面形状は、バックアップバー４の軸心を中心とする点対称形状である。バックアップバー４は、長さ方向が左右方向に一致する横姿勢で、両端部を図示しない支持部材に支持されている。
バックアップバー４には、各２個の掻き均し部４１，４１及び凹部４１１，４１１（図２には各１個のみ図示）が設けられている。このようなバックアップバー４は、例えば円柱状の金属棒の周面の一部を切削することによって形成される。
掻き均し部４１，４１と凹部４１１，４１１とは１個ずつ隣接している。一方の掻き均し部４１及び凹部４１１は上側に配され、他方の掻き均し部４１及び凹部４１１は下側に配されている。図２には、下側に配されている掻き均し部４１及び凹部４１１が示されている。

各掻き均し部４１は、バックアップバー４の軸心に平行な矩形平面状である。掻き均し部４１の長辺方向は、バックアップバー４の長さ方向に等しい。掻き均し部４１の長さは、基材２の幅よりも長い。
掻き均し部４１の周方向一端部（図２に示す掻き均し部４１の場合、前側端部）は凹部４１１に隣接している。掻き均し部４１の周方向他端部（図２に示す掻き均し部４１の場合、後ろ側端部）は徐々に傾斜して、バックアップバー４の周面に円滑に連続している。
以下では、単に掻き均し部４１という場合は、下側の掻き均し部４１を意味する。

掻き均し部４１は、周方向一端部が前側を向き、周方向他端部が後ろ側を向く姿勢で、第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂに平行に対面配置されている。掻き均し部４１及びリップ面３２ｂ夫々の前側端部の前後方向の位置は一致している。リップ面３２ｂと掻き均し部４１との間の離隔距離は、基材２の厚みと後述する第１膜厚Ｄ1 及び第２膜厚Ｄ2 との和である。
第２ダイヘッド３２のスリット開口は、基材２の被塗工部分に臨む。つまり、基材２の被塗工部分は、第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂと、掻き均し部４１との間に配される。

第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂと基材２の他面とは、第１ダイヘッド３１のリップ面と基材２の一面とがそうであったように、離隔して対面配置される。第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂと基材２の他面との離隔距離は、第２膜厚Ｄ2 と等しい。
一方、掻き均し部４１と基材２の一面とは、バックアップロール１１１の周面と基材２の他面とが接触していたのとは異なり、離隔して対面配置される。掻き均し部４１と基材２の一面との離隔距離は、第１膜厚Ｄ1 に等しい。このため、掻き均し部４１は、基材２からは離隔しているが、後述するように一面塗工部１１にて基材２の一面に形成される塗工膜には接触する。

塗工膜に接触した掻き均し部４１は、塗工膜を掻き均すことによって、塗工膜を薄くすると共に、塗工膜を幅方向に拡げる。換言すれば、一面塗工部１１にて基材２の一面に形成された塗工膜は、他面塗工部１２にて膜厚が減少し、その分、幅が増大する。
掻き均し部４１は、塗工膜から余分な塗工液を掻き落とすわけではない。このため、塗工液の掻き落としに伴う無駄は生じない。
本実施の形態のバックアップバー４は、例えば周面にワイヤが巻き付けられており、周方向に回転するメタリングバーの周面を用いて塗工膜を掻き均した場合に比べて、掻き均した後の塗工膜の表面を平滑にすることができる。また、バックアップバー４を回転させる駆動源が不要である。

第２ダイヘッド３２は、スリットを通して塗工液を上方へ吐出する。すると、吐出された塗工液が、被塗工部分に付着する。つまり、他面塗工部１２における基材２の被塗工部分とは、基材２の他面における第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂに対面している部分である。
搬送されている基材２に対して第２ダイヘッド３２が塗工液を連続的に吐出し続ければ、基材２の他面に、所定の膜厚及び幅を有する塗工膜が連続的に形成される（いわゆる「全面ベタ塗り」）。塗工膜の膜厚は、基材２の搬送速度が一定であれば、第２ダイヘッド３２が塗工液を高圧で吐出するほど厚くなり、第２ダイヘッド３２から吐出される塗工液の圧力が一定であれば、搬送部２４が基材２を高速で搬送するほど薄くなる。塗工膜の幅は、第２ダイヘッド３２のスリットの開口長さに対応する。

なお、搬送されている基材２に対して第２ダイヘッド３２が塗工液を間欠的に吐出し続ければ、基材２の他面に、所定の膜厚、幅、及び長さを有する塗工膜が、断続的に形成される。塗工膜の長さは、塗工液の吐出が持続する時間の長さと基材２の搬送速度とに依存する。

他面塗工部１２における基材２には、例えば塗工液の吐出に起因する外力が印加される。この外力は、基材２の被塗工部分を上方へ押し上げようとする。また、基材２は、自重によって幅方向に弛もうとする。つまり、基材２の被塗工部分は、塗工液の吐出に起因する外力及び自重等によって、無用に変形しようとする。

しかしながら、基材２の他面の下側には第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂが存在している。しかも、第２ダイヘッド３２のスリット開口からは塗工液が吐出されている。換言すれば、基材２の被塗工部分は、第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂ及び塗工液によって下側から支えられている。故に、基材２の被塗工部分が下方へ突出するように変形しようとしても、このような変形は抑制される。
一方、基材２の一面の上側にはバックアップバー４が有する掻き均し部４１が存在している。基材２の一面と掻き均し部４１との間には、塗工膜が介在している。換言すれば、基材２の被塗工部分は、掻き均し部４１及び塗工膜によって上側から支えられている。故に、基材２の被塗工部分が上方へ突出するように変形しようとしても、このような変形は抑制される。

以上の結果、基材２に加えられる外力又は基材２の自重等によって、基材２の被塗工部分が無用に変形することが抑制されている。更に、掻き均し部４１及びリップ面３２ｂは互いに平行な平面状であるため、掻き均し部４１とリップ面３２ｂとの間に配されている被塗工部分が、前後左右両方向に平坦状に保持される。このため、他面塗工部１２では、基材２の他面に、所定の膜厚及び幅を有する塗工膜が精密に形成される。また、基材２の一面に形成されている塗工膜が平滑に掻き均される。

ここで、バックアップバー４に２個の掻き均し部４１，４１が設けられている理由について説明する。
この理由は、一方の掻き均し部４１の保守点検中に、他方の掻き均し部４１を用いて塗工膜を掻き均すことができるからである。仮に、バックアップバー４が１個の掻き均し部４１のみを有する場合、掻き均し部４１の保守点検を行なっている間、両面塗工装置１を使用することができない。このような不都合を解消するために、２本のバックアップバー４，４を交互に両面塗工装置１にセットすることが考えられるが、この場合、部材点数が増加する分、両面塗工装置１のコストが高くなり、また、部材管理の手間が増える。

次に、ドクターブレードのような板状部材と比べた場合のバックアップバー４の利点について説明する。
バックアップバー４は棒状部材であるため、板状部材に比べて、長さ方向の剛性を容易に向上させることができる。つまり、バックアップバー４は、板状部材よりも変形し難い。仮に、バックアップバー４が無用に変形していると、被塗工部分の無用な変形を抑制することができなくなる。

次に、図１を参照しつつ、乾燥部１３について説明する。
乾燥部１３は、複数のノズル１３１，１３１，…（１個のみ図示）を有する熱風乾燥機を用いてなる。各ノズル１３１からは、熱風が吹き出す。
ノズル１３１，１３１，…には、基材２の一面に向けて上側から下側へ熱風を吹き付けるように基材２の一面に対向配置されているものと、基材２の他面に向けて下側から上側へ熱風を吹き付けるように基材２の他面に対向配置されているものとがある。基材２の一面に対向配置されているノズル１３１，１３１，…と、基材２の他面に対向配置されているノズル１３１，１３１，…とは千鳥に配されている。

次に、皺抑制部１５について説明する。
皺抑制部１５はクロスガイダを用いてなる。皺抑制部１５はピンチロール部１５１，１５２，１５３を有する。
ピンチロール部１５１は他面塗工部１２の後ろ側（他面塗工部１２の入口付近）に配されている。ピンチロール部１５２は他面塗工部１２の前側（他面塗工部１２の出口付近）に配されている。ピンチロール部１５３は乾燥部１３の後ろ側（乾燥部１３の入り口付近）に配されている。
ピンチロール部１５１は、基材２をニップする２本１組のピンチロールを、基材２の左右両端部に１組ずつ備えている。ピンチロール部１５２，１５３夫々は、ピンチロール部１５１と同様の構成である。
ピンチロール部１５１，１５２，１５３夫々は、適宜のタイミングで断続的に基材２の左右両端部をニップし、基材２を左右方向（基材２の幅方向）に伸長するような外力を基材２に加える。この結果、基材２に無用の皺が生じることが抑制される。

図３及び図４は、両面塗工装置１による塗工膜の形成手順を説明するための模式図である。図３は、他面塗工部１２の側面視の構成を示し、図４は、他面塗工部１２の平面視の構成を示している。図３及び図４に記載のハッチングは、塗工膜が形成されている範囲を強調するためのものであり、断面を意味しない。
ここで、第１膜厚Ｄ1 、第２膜厚Ｄ2 、第３膜厚Ｄ3 、第１幅Ｂ1 、第２幅Ｂ2 、及び第３幅Ｂ3 を定義する。これらは何れも正数である。また、Ｄ1 ＜Ｄ3 、且つ、Ｂ1 ＞Ｂ3 である。本実施の形態ではＤ1 ＝Ｄ2 であるが、Ｄ1 ≠Ｄ2 でもよい。また、本実施の形態ではＢ1 ＞Ｂ2 であるが、Ｂ1 ≦Ｂ2 でもよい。

両面塗工装置１は、基材２の一面に第１膜厚Ｄ1 及び第１幅Ｂ1 の塗工膜２１を形成し、基材２の他面に第２膜厚Ｄ2 及び第２幅Ｂ2 の塗工膜２２を形成する。
しかしながら、仮に、一面塗工部１１にて基材２の一面に塗工膜２１を形成すると、他面塗工部１２にて塗工膜２１が第１膜厚Ｄ1 未満及び第１幅Ｂ1 超過の塗工膜に掻き均されてしまう虞がある。

そこで、両面塗工装置１においては、まず、一面塗工部１１にて、第１ダイヘッド３１が、基材２の一面に第３膜厚Ｄ3 及び第３幅Ｂ3 の塗工膜２０を形成する。
次に、他面塗工部１２にて、第２ダイヘッド３２が、基材２の他面に第２膜厚Ｄ2 及び第２幅Ｂ2 の塗工膜２２を形成すると共に、バックアップバー４の掻き均し部４１が、基材２の一面に形成されている塗工膜２０を掻き均すことによって、塗工膜２０を塗工膜２１となす。つまり、基材２の一面に形成されている塗工膜の膜厚及び幅が、厚く狭い第３膜厚Ｄ3 及び第３幅Ｂ3 から薄く広い第１膜厚Ｄ1 及び第１幅Ｂ1 に調整される。
以上の結果、他面塗工部１２から搬出された基材２においては、一面に第１膜厚Ｄ1 及び第１幅Ｂ1 の塗工膜２１が形成されており、他面に第２膜厚Ｄ2 及び第２幅Ｂ2 の塗工膜２２が形成されている。

この後、両面塗工装置１は、基材２の両面に形成されている塗工膜２１，２２を、乾燥部１３にて乾燥させる。
ところで、第１膜厚Ｄ1 及び第１幅Ｂ1 の値が同じでも、塗工液の粘度が異なれば、第３膜厚Ｄ3 及び第３幅Ｂ3 夫々の値を変える必要がある。何故ならば、塗工液の粘度が高ければ（又は低ければ）、塗工膜は拡がり難い（又は広がり易い）からである。具体的には、3000cps 程度の塗工液からなる塗工膜は、バックアップバー４によって掻き均された結果、幅方向に約２％広がる。

次に、本実施の形態の両面塗工装置１と、特許文献２に記載されている両面塗工装置のような従来の両面塗工装置とのハードウェア構成の差異について説明する。両者の差異は、バックアップバー４の有無である。即ち、両面塗工装置１は、他面塗工部１２がバックアップバー４を有しているが、従来の両面塗工装置は、他面塗工部１２がバックアップバー４を有していない。

次に、両面塗工装置１及び従来の両面塗工装置夫々が塗工すべき基材２の種類及び基材２の搬送速度について説明する。
幅広の基材２、延性が高い基材２、又は、いわゆる腰が弱い基材２等は、幅狭の基材２、延性が低い基材２、又は、いわゆる腰が強い基材２等に比べると、基材２に加わる外力又は基材２の自重等によって無用に変形し易い。例えば、基材２の幅が広いほど、基材２の自重による幅方向の弛みを抑制することが困難になる。また、延性が高い基材２は、搬送ロール１４１，１４２及びバックアップロール１１１に架け渡されたり皺抑制部１５のピンチロール部１５１，１５２，１５３にニップされたりすることによる外力のせいで、無用な塑性変形が生じ易い。

更に、基材２の搬送速度を上昇させる場合には、塗工膜の膜厚が無用に薄くなることを防ぐべく、第１ダイヘッド３１及び第２ダイヘッド３２夫々に係る吐出時の塗工液の圧力を高くする必要がある。しかしながら、他面塗工部１２における吐出時の塗工液の圧力は、基材２を上方へ押し上げて無用に変形させる要因になる。
基材２が無用に変形していると、均一な膜厚を有する塗工膜を形成することができない。何故ならば、例えば基材２が弛んでいる場合、基材２の他面へ吐出された塗工液は、吐出時の圧力によって、基材２の弛んでいる部分へ流れ込む（いわゆる「弛みがある部分へ逃げていく」）ため、この部分だけ膜厚が他の部分よりも厚くなるからである。

両面塗工装置１は、他面塗工部１２における塗工時に、基材２の被塗工部分が変形することを抑制することができる。従って、両面塗工装置１は、無用に変形し易い基材２を高速で搬送しながら、高圧で吐出された塗工液を基材２に塗工することができる。無論、両面塗工装置１が、無用に変形し難い基材２を高速で搬送しながら、高圧で吐出された塗工液を基材２に塗工しても、特段の問題はない。
一方、従来の両面塗工装置は、バックアップバー４を備えていないため、他面塗工部１２における塗工時に基材２の被塗工部分が無用に変形することを抑制することができない。従って、従来の両面塗工装置は、無用に変形し易い基材２に精密に塗工すること、及び、基材２を高速で搬送しながら、高圧で吐出された塗工液を基材２に精密に塗工することは、何れも不得手である。

具体的には、従来の両面塗工装置においては、基材２の幅は600mm 程度であり、基材２の搬送速度の上限は30m/min 程度である。また、アルミニウム箔よりも延性が高い銅箔、又は一般的に腰が弱いとされるポリエチレンフィルム等に、塗工液を精密に塗工することが困難である。
一方、両面塗工装置１においては、1200mm程度の幅を有する基材２を、30m/min を超える40m/min 〜50m/min 程度の搬送速度で搬送しながら、基材２の両面に塗工液を精密に塗工することができる。更に、基材２として、銅箔又はポリエチレンフィルム等を選択することができる。
つまり、両面塗工装置１は、基材２のサイズ又は機械的強度等を問わず、種々の基材２の両面に、所定の寸法を有する塗工膜を精密に形成することができる。しかも、基材２の塗工効率を向上させることができる。

ところで、本実施の形態の両面塗工装置１は、膜厚の精密化の点で、特許文献１に記載の両面塗工装置のような従来の両面塗工装置よりも有利である。何故ならば、両面塗工装置１は、基材２の両面の塗工膜を個別に形成するため、基材２の両面の塗工膜を同時的に形成する場合よりも、塗工時の膜厚の設定が容易だからである。

実施の形態 ２．
図５は、本発明の実施の形態２に係る両面塗工装置１が備える他面塗工部１２の部分拡大縦断面図である。図５は、実施の形態１の図２に対応する。
本実施の形態の両面塗工装置１は、実施の形態１の両面塗工装置１と略同様の構成である。以下では、実施の形態１との差異について説明し、その他、実施の形態１に対応する部分には同一符号を付してそれらの説明を省略する。

実施の形態１のバックアップバー４はメタリングバーを用いてなり、各２個の掻き均し部４１，４１及び凹部４１１，４１１を有するが、本実施の形態のバックアップバー４はマイクロバーを用いてなり、各２個の掻き均し部４２，４２及び凹部４２１，４２１（図５には各１個のみ図示）を有する。掻き均し部４２の周方向一端部（図５に示す掻き均し部４２の場合、前側端部）は凹部４２１に隣接している。
掻き均し部４１，４２の構成の差異は、掻き均し部４１が、バックアップバー４の軸心に平行な平面状であるのに対し、掻き均し部４２は、バックアップバー４の周面に連なる曲面状である点である。図５には、下側に配されている掻き均し部４２及び凹部４２１が示されている。
以下では、単に掻き均し部４２という場合は、下側の掻き均し部４２を意味する。

掻き均し部４２は、周方向一端部が前側を向く姿勢で、第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂに対面配置されている。掻き均し部４２及びリップ面３２ｂ夫々の前側端部の前後方向の位置は一致している。リップ面３２ｂと掻き均し部４２との間の離隔距離は、後ろ側から前側へ（即ち、搬送方向上流側から下流側へ）徐々に短くなる。リップ面３２ｂと掻き均し部４２との間の最短距離は、基材２の厚みと第１膜厚Ｄ1 及び第２膜厚Ｄ2 との和に等しい。掻き均し部４２と基材２の一面との離隔距離は、後ろ側から前側へ徐々に短くなり、最短距離が第１膜厚Ｄ1 に等しい。このため、掻き均し部４２は、基材２からは離隔しているが、少なくとも掻き均し部４２の前側端部が、一面塗工部１１にて基材２の一面に形成される塗工膜に接触する。

塗工膜に接触した掻き均し部４２は、塗工膜を掻き均すことによって、塗工膜を薄くすると共に、塗工膜を幅方向に拡げる。このとき、塗工液の掻き落としに伴う無駄は生じない。また、掻き均し部４２は、基材２の被塗工部分が無用に変形することを抑制する。何故ならば、基材２の被塗工部分が、第２ダイヘッド３２のリップ面３２ｂ及び塗工液によって下側から支えられ、掻き均し部４２及び塗工膜によって上側から支えられているからである。つまり、掻き均し部４２は、実施の形態１の掻き均し部４１と同様の作用効果を奏する。このため、他面塗工部１２では、基材２の他面に、所定の膜厚及び幅を有する塗工膜が精密に形成される。また、基材２の一面に形成されている塗工膜が平滑に掻き均される。

ここで、実施の形態１，２のバックアップバー４，４夫々の利点及び欠点について述べる。
掻き均し部４２は、掻き均し部４１に比べて、バックアップバー４の長さ方向の均一性が高い。何故ならば、円柱状の金属棒を加工することによって金属棒の軸心に平行な平面を得ることに比べれば、金属棒の周面に連なる曲面を得ることは容易だからである。
つまり、掻き均し部４２を有するバックアップバー４には、掻き均し部４１を有するバックアップバー４よりも、入手又は製造が容易である、という利点がある。

とはいえ、掻き均し部４２は、前側から後ろ側へ向けてリップ面３２ｂから離隔するような曲面状である。このため、掻き均し部４２とリップ面３２ｂとの間で被塗工部分を左右方向に平坦状に保持することはできても、前後方向に平坦状に保持することはできない。このため、基材２の両面夫々に付着している塗工液が、掻き均し部４２とリップ面３２ｂとの間から後方へ無用に流動し易い（いわゆる「塗工液が逃げ易い」）。
一方、掻き均し部４１は、リップ面３２ｂに平行な平面である。このため、掻き均し部４２とリップ面３２ｂとの間で被塗工部分を前後左右両方向に平坦状に保持することができる。このため、基材２の両面夫々に付着している塗工液が、掻き均し部４２とリップ面３２ｂとの間から後方へ逃げ難い。
つまり、掻き均し部４１を有するバックアップバー４には、掻き均し部４２を有するバックアップバー４よりも、塗工膜の膜厚の精密化に寄与することができる、という利点がある。

実施の形態 ３．
図６及び図７は、本発明の実施の形態３に係る両面塗工装置１が備える補正部５の構成を示す模式図である。図６は補正部５の側面視の構成を示し、図７は補正部５の背面視の構成を示している。
本実施の形態の両面塗工装置１は、実施の形態１の両面塗工装置１と略同様の構成である。以下では、実施の形態１との差異について説明し、その他、実施の形態１に対応する部分には同一符号を付してそれらの説明を省略する。
本実施の形態の両面塗工装置１は、実施の形態１の両面塗工装置１に、補正部５を追加してなる。

長いバックアップバー４は、短いバックアップバー４よりも長さ方向に変形し易い（具体的には撓み易い）。しかしながら、基材２の幅が長ければ長いほど、より長い掻き均し部４１、延いては、より長いバックアップバー４を使用しなければならない。
そこで、補正部５がバックアップバー４の撓みを補正する。このために、補正部５は、バックアップバー４の長さ方向の適宜の箇所に、バックアップバー４の長さ方向に交差する方向の外力を加える。
本実施の形態のように横姿勢で配されているバックアップバー４は、長さ方向に撓み易い。従って、補正部５は、バックアップバー４の長さ方向の１箇所又は複数個所夫々を引き上げる（又は押し上げる）ことによって、バックアップバー４を直棒状に維持する。
以下では、補正部５が、バックアップバー４の長さ方向中央部１箇所を引き上げる構成である場合を例示する。

補正部５は、軸可動部５１、軸部５２、把持部５３、支持梁（支持部）５４、位置指標部５５、及び検出部５６を有する。
支持梁５４は横姿勢の四角筒状である。支持梁５４は、各縦姿勢の支持柱５４１，５４１間に架け渡されている。支持柱５４１，５４１は左右方向に離隔して対向配置されている。従って、支持梁５４は左右方向に配されている。支持柱５４１，５４１の先端部分には、互いに対面する支持板５４２，５４２が取り付けられている。支持梁５４の両端部は、支持板５４２，５４２を介して支持柱５４１，５４１に取り付けられている。

支持梁５４は、撓みが生じていない状態のバックアップバー４の軸心を配すべき所定位置から上方に第１所定距離Ｌ1 （Ｌ1 ＞０）だけ離隔した位置に配されている。基材２は支持柱５４１，５４１間に配される。基材２の幅方向中央部と、支持梁５４の長さ方向中央部とは、左右方向の同じ位置に配される。
支持梁５４の形状、寸法、及び材質等は、バックアップバー４の形状、寸法、及び材質等に比べて設計の自由度が高い。従って、支持梁５４は、バックアップバー４に比べて容易に剛性を向上させることができる。故に、支持梁５４の撓みは無視することができる。

支持梁５４の長さ方向中央部において、支持梁５４の上部には軸可動部５１が配されており、支持梁５４の内部には、円柱状の軸部５２が縦姿勢に配されている。
支持梁５４には、筒状のアーム支持部５４４が縦姿勢に配されている。アーム支持部５４４は、支持梁５４の下面を貫通して支持梁５４の下面に支持されている。

軸可動部５１は、ケース５１０、ハンドル５１１、回転軸部５１２、及び伝達部５１３を有する。
ケース５１０は伝達部５１３を収容している。
ハンドル５１１はケース５１０の外側に配されている。
回転軸部５１２はケース５１０を貫通して横姿勢に配されている。回転軸部５１２の、ケース５１０の外部側の端部はハンドル５１１に連結されており、ケース５１０の内部側の端部は伝達部５１３に連結されている。
伝達部５１３は支持梁５４の上面に支持されている。伝達部５１３の下部は、支持梁５４の上面を貫通して支持梁５４の内部に配されている。伝達部５１３は、軸部５２を上下移動可能に支持している。

塗工作業者によってハンドル５１１が一方向又は他方向に操作されると、回転軸部５１２が正回転又は逆回転する。伝達部５１３は、回転軸部５１２の正回転運動又は逆回転運動を軸部５２に伝達する。従って、塗工作業者がハンドル５１１を操作すると、軸部５２は正回転運動又は逆回転運動する。ハンドル５１１の操作が終了すると、軸部５２の回転運動は停止する。ハンドル５１１が操作されていない場合、軸部５２は静止している。

把持部５３は、ハンド５３１と縦姿勢のアーム５３２とを有する。
ハンド５３１には、横姿勢の平板状の位置指標部５５が突設されている。ハンド５３１は、支持梁５４の長さ方向中央部において、支持梁５４の下方に配されている。ハンド５３１は、バックアップバー４の周方向の上半分を握り持つようにして、バックアップバー４を把持する。ハンド５３１によるバックアップバー４の把持位置は、バックアップバー４の長さ方向中央部である。ハンド５３１がバックアップバー４を把持している場合、ハンド５３１によるバックアップバー４の把持位置における軸心の上下方向の位置は、位置指標部５５から下方へ第２所定距離Ｌ2 （Ｌ2 はＬ1 ＞Ｌ2 ＞０）だけ離隔している。

アーム５３２は、アーム支持部５４４の内部を貫通して、上下移動可能に支持されている。アーム５３２の上端部は、支持梁５４の内部にて軸部５２に連結されている。軸部５２の回転運動は、アーム５３２の上下移動に変換されるようにしてある。このために、例えばナット状の部分を有するアーム５３２に、ネジ状の部分を有する軸部５２を螺嵌してある。アーム５３２の下端部は、支持梁５４の外部にてハンド５３１に連結されている。軸部５２が回転運動又は静止すると共に、アーム５３２が上下移動又は静止する。アーム５３２の上下移動又は静止に伴い、ハンド５３１も上下移動又は静止する。

なお、把持部５３は、バックアップバー４を把持したハンド５３１が上側の掻き均し部４１に接触することによって上側の掻き均し部４１に無用の変形又は損傷等が生じてしまうことを抑制する構成でもよい。
また、ハンド５３１及びバックアップバー４の少なくとも一方に、バックアップバー４のハンド５３１に把持されている部分の位置決めを行なう位置決め部が設けられていてもよい。例えば、ハンド５３１に凸状の位置決め部が設けられており、これがバックアップバー４の周面に接触することによって、バックアップバー４の位置決めが行なわれる。

検出部５６は、ダイヤルゲージを用いてなる。検出部５６は支持梁５４に取り付けられている。検出部５６は、位置指標部５５に接触して、支持梁５４と位置指標部５５との離隔距離Ｌを間接的に検出する。
ここで、所定距離Ｌ3 を定義する。所定距離Ｌ3 は、第１所定距離Ｌ1 と第２所定距離Ｌ2 との差に等しい。即ち、次の（１）式が成り立つ。
Ｌ3 ＝Ｌ1 −Ｌ2 …（１）

検出部５６が直接的に検出するものは、支持梁５４から下方へ所定距離Ｌ3 だけ離隔している基準位置から位置指標部５５までの離隔距離である。ここでは、基準位置から、基準位置よりも上方の位置までの離隔距離を負値とする。検出部５６の検出結果をｈとすると、次の（２）式が成り立つ。
Ｌ＝Ｌ3 ＋ｈ＝Ｌ1 −Ｌ2 ＋ｈ…（２）
Ｌ1 ，Ｌ2 は所与であるため、検出結果ｈがわかれば、離隔距離Ｌがわかる。換言すれば、検出部５６は離隔距離Ｌを間接的に検出する。

バックアップバー４が撓んでいない場合、バックアップバー４の把持部５３に把持されている部分の軸心位置は、所定軸心位置に一致している。このとき、次の（３）式が成り立つ。何故ならばｈ＝０だからである。
Ｌ＝Ｌ3 ＋ｈ＝Ｌ1 −Ｌ2 …（３）
一方、バックアップバー４が例えば自重によって下方へ撓んでいる場合、バックアップバー４の把持部５３に把持されている部分の軸心位置は、所定軸心位置よりも下方へズレている。このとき、次の（４）式が成り立つ。何故ならばｈ＞０だからである。
Ｌ＝Ｌ3 ＋ｈ＞Ｌ1 −Ｌ2 …（４）
故に、検出部５６に検出結果ｈとして“０”が表示されていれば、バックアップバー４が撓んでいないことがわかる。
一方、検出部５６に検出結果ｈとして正値又は負値が表示されていれば、バックアップバー４が撓んでいることがわかる。

検出部５６に正値又は負値の検出結果ｈが表示されている場合、塗工作業者は、検出部５６の検出結果ｈが“０”になるようハンドル５１１を操作する。例えば検出部５６の検出結果ｈが負値である場合、塗工作業者は、ハンドル５１１を操作することによって、検出部５６の検出結果ｈを“０”にする。このとき、ハンドル５１１の操作に伴い、軸部５２が上方移動し、延いては把持部５３が上方移動する。この結果、撓んでいたバックアップバー４が把持部５３によって引き上げられるため、バックアップバー４の撓みが補正される。
以上のようにして、補正部５はバックアップバー４の撓みを補正する。

なお、伝達部５１３は、軸部５２、延いては把持部５３を電動で上下移動させる構成でもよい。この場合、補正部５は、検出部５６の検出結果に基づいて伝達部５１３の動作を制御し、バックアップバー４の撓みを自動的に補正する構成でもよい。検出部５６は、支持梁５４と位置指標部５５との離隔距離Ｌを直接的に検出する構成でもよい。

以上のような両面塗工装置１は、補正部５がバックアップバー４の長さ方向の撓みを補正する。このため、バックアップバー４の長さ方向の撓みに起因する被塗工部分の無用な変形を抑制することができる。この結果、長く撓み易いバックアップバー４を用いて、幅広の基材２の両面に塗工膜を精密に形成することができる。
本実施の形態の補正部５は、バックアップバー４を上側から把持する構成である。このため、補正部５は、基材２の搬送又はバックアップバー４による掻き均し等を阻害しない。

なお、実施の形態１〜３において、塗工液の材質及び粘度等は特に限定されない。塗工液又は塗工膜の寸法等は、基材２の両面で相異なっていてもよい。
また、基材２の形状は帯状に限定されず、例えば板状でもよい。
更に、両面塗工装置１は基材２が搬送される構成に限定されない。例えば、一面塗工部１１では、平坦な支持台に載置された静止状態の基材２に対して第１ダイヘッド３１を搬送しつつ第１ダイヘッド３１による塗工を行なってもよい。他面塗工部１２では、横姿勢に支持された静止状態の基材２に対して第２ダイヘッド３２及びバックアップバー４を搬送しつつ第２ダイヘッド３２による塗工及びバックアップバー４による掻き均しを行なってもよい。

更にまた、両面塗工装置１は、基材２の幅方向に複数に分かれているストライプ状の塗工膜を形成してもよい。
また、他面塗工部１２における基材２の姿勢は横姿勢に限定されず、基材２の幅方向が左右方向に一致し、基材２の長さ方向が傾斜する傾斜姿勢、又は縦姿勢等でもよい。何れにせよ、バックアップバー４は左右方向の横姿勢に配される。

今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述した意味ではなく、特許請求の範囲と均等の意味及び特許請求の範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
また、本発明の効果がある限りにおいて、両面塗工装置１に、実施の形態１〜３に開示されていない構成要素が含まれていてもよい。
各実施の形態に開示されている構成要件（技術的特徴）はお互いに組み合わせ可能であり、組み合わせによって新しい技術的特徴を形成することができる。

１ 両面塗工装置
１１ 一面塗工部
１２ 他面塗工部
１３ 乾燥部
１４ 搬送部
２ 基材
３２ 第２ダイヘッド（ダイヘッド）
４ バックアップバー（棒状部材）
４１，４２ 掻き均し部
５ 補正部
５１ 軸可動部
５２ 軸部
５３ 把持部
５４ 支持梁（支持部）
５５ 位置指標部
５６ 検出部

Claims (4)

1. 両面塗工すべき基材の一面に塗工液を塗工するための一面塗工部と、
   前記基材の他面に塗工液を塗工するための他面塗工部と、
   前記基材の両面に塗工された塗工液を乾燥させるための乾燥部と、
   前記一面塗工部、他面塗工部、及び乾燥部へ、この順に前記基材を相対的に搬送する搬送部と
   を備える両面塗工装置において、
   前記他面塗工部は、
   前記他面に前記塗工液を塗工するダイヘッドと、
   該ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配される棒状部材と
   を備え、
   前記棒状部材は、前記一面に塗工されている前記塗工液を掻き均す掻き均し部を有し、
   該掻き均し部と前記ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配されるようにしてあり、
   前記棒状部材は、長さ方向に平行な平面状の前記掻き均し部を有するメタリングバーを用いてなることを特徴とする両面塗工装置。
2. 前記棒状部材の長さ方向の撓みを補正すべく、前記棒状部材の長さ方向の適宜の箇所に、前記長さ方向に交差する方向の外力を加える補正部を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の両面塗工装置。
3. 前記棒状部材は横姿勢に配されており、
   前記補正部は、
   縦姿勢に配された軸部と、
   該軸部を上下移動可能に支持し、前記軸部を上下移動／静止させる軸可動部と、
   前記軸部に連結されており、前記棒状部材の長さ方向の一部分を把持する把持部と、
   該把持部を上下移動可能に支持し、前記棒状部材の前記把持部に把持されている部分の軸心を配すべき所定位置から上下方向に第１所定距離だけ離隔した位置に配されている支持部と、
   前記把持部に設けられており、前記軸心から上下方向に第２所定距離だけ離隔した位置に配されている位置指標部と、
   該位置指標部及び前記支持部の離隔距離を検出する検出部と
   を有することを特徴とする請求項２に記載の両面塗工装置。
4. 両面塗工すべき基材の一面に塗工液を塗工するための一面塗工部と、
   前記基材の他面に塗工液を塗工するための他面塗工部と、
   前記基材の両面に塗工された塗工液を乾燥させるための乾燥部と、
   前記一面塗工部、他面塗工部、及び乾燥部へ、この順に前記基材を相対的に搬送する搬送部と
   を備え、
   前記他面塗工部は、
   前記他面に前記塗工液を塗工するダイヘッドと、
   該ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配される棒状部材と
   を備え、
   前記棒状部材は、前記一面に塗工されている前記塗工液を掻き均す掻き均し部を有し、
   該掻き均し部と前記ダイヘッドとの間に、前記基材の前記ダイヘッドによって塗工される部分が配されるようにしてある両面塗工装置を用いて、
   両面塗工すべき基材の一面に、塗工液を第１膜厚及び第１幅の膜状に塗工し、前記基材の他面に、塗工液を第２膜厚及び第２幅の膜状に塗工し、
   次いで、前記両面塗工装置が備える乾燥部にて、前記基材の両面に塗工されている塗工液を乾燥させる両面塗工方法であって
   前記両面塗工装置が備える搬送部が、前記基材を、前記両面塗工装置が備える一面塗工部又は他面塗工部に対して相対的に搬送している場合に、
   まず、前記一面塗工部にて、前記一面に、塗工液を前記第１膜厚よりも厚く前記第２幅よりも狭い膜状に塗工し、
   次に、前記他面塗工部にて、該他面塗工部が有するダイヘッドが、前記他面に、塗工液を前記第２膜厚及び第２幅の膜状に塗工すると共に、前記他面塗工部が有する棒状部材が、前記一面に塗工されている塗工液を前記第１膜厚及び第１幅の膜状となるよう掻き均すことを特徴とする両面塗工方法。

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