JP6157592B2 - ジケトナト−ロジウム(i)−カルボニル錯体を調製するためのプロセス - Google Patents
ジケトナト−ロジウム(i)−カルボニル錯体を調製するためのプロセス Download PDFInfo
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Description
R基は、C1〜C10アルキル、C5〜C10シクロアルキル、C6〜C12アリール、C4〜C12ヘテロアリール基であり、
R’およびR’’は、それぞれ互いに独立に、C1〜C5アルキル、C5〜C10シクロアルキル、C6〜C12アリール基であり、
R、R’およびR’’は、場合により置換されていてもよい)を有する、ジケトナトカルボニルトリオルガノホスフィンロジウム(I)化合物を調製するためのプロセスであって、
次に示す反応ステップ:
(a)前駆体であるRh(III)ハロゲン化物を溶媒に導入する反応ステップと、
(b)一酸化炭素(CO)ガスで処理する反応ステップと、
(c)R’−C(=O)−CH2−C(=O)−R’’型のジケトンおよび塩基を添加し、中間体である(ジケトナト)Rh(CO)2を形成する反応ステップと、
(d)PR3型のトリオルガノホスフィンを添加する反応ステップと、
(e)反応混合物を加熱して、式(I)のジケトナトカルボニルトリオルガノホスフィンロジウム(I)錯体を単離する反応ステップと
を含むプロセスを提供する。
式1):
RhCl3 + 2CO + CH3CH2OH −−−> 1/2[Rh(CO)2Cl]2 + 2HCl + CH3CHO
式2):
1/2[Rh(CO)2Cl]2 + Hacac + NaHCO3 −−−> [Rh(CO)2(acac)] + NaCl + H2O + CO2
式3):
[Rh(CO)2(acac)] + PPh3 −−−> [Rh(CO)(PPh3)(acac)] + CO
少なくとも一部が可溶なRh(III)ハロゲン化物前駆体の溶媒への導入
前駆体であるRhハロゲン化物としては、一般に、溶液または可溶性固体の形態にある塩化ロジウム(III)(例えば、RhCl3xH2O)が、好ましくは調製済みの水性塩化ロジウム(III)溶液の形態で使用される。ロジウム含有率が<30重量%である、水を含む塩化ロジウム(III)溶液が市販されており、例えば、金属ロジウムを濃塩酸および塩素ガスの存在下に溶解することにより製造されたものが通常使用される。しかしながら、好適な塩化ロジウム(III)溶液として、貴金属再利用または工業用貴金属化学処理(noble metal chemistry)のプロセス流れを流用することもできる。さらに、塩化ロジウム(III)溶液は、慣用されている、より安価でより素早く処理できる固体RhCl3水和物よりも有利である。それは、RhCl3水和物を前もって蒸発に付し、単離して分析を行う(出発物質の量を求めるため)ことが不要になるためである。したがって、出発物質としての調製済みの塩化Rh(III)溶液の方が、入手が簡単で取扱いも容易である。
一酸化炭素(CO)ガスによる処理
次いで、反応ステップa)で得られた溶液に一酸化炭素(CO)を混合することによってカルボニル化合物[Rh(CO)2Cl]2が生成する。それによって、塩化ジカルボニルロジウム(I)二量体の黄色透明な溶液が生成する。特定の実施形態においては、気体処理ステップは、ジケト化合物の存在下に実施することができる(すなわち、反応ステップc)をステップb)の前に行うことができる)。
好ましい形態においては、反応は、加圧雰囲気を用いなくても進行する。一方、反応を大気圧よりもわずかに低い圧力下で実施することも同様に可能である。
ジケト化合物(好ましくはアセチルアセトン)および塩基を添加することによる中間体(ジケトナト)Rh(CO)2の生成
ステップb)により得られた反応混合物は、in situで得られた中間体[Rh(CO)2Cl]2を途中で単離することなく、40℃未満、好ましくは35℃未満の温度に冷却される。次いでジケト化合物および塩基が添加される。本発明においては、塩基は、水溶液のpHを上昇させるかまたはpHを7以上に固定することができる化合物であり、本発明によれば、pHは、好ましくはpH7〜10の範囲、より好ましくはpH7〜8の範囲にある。
トリオルガノホスフィンの反応混合物への添加
上述したプロセスにより生成した中間体である(ジケトナト)Rh(CO)2は、さらに目的生成物である(ジケトナト)Rh(CO)(PR3)に変換される。これは一般に黄色固体の形態で得られる。驚くべきことに、(ジケトナト)Rh(CO)(PR3)の調製には、中間体である(ジケトナト)Rh(CO)2の単離が不要であることが見出された。したがって、本発明によれば、(ジケトナト)Rh(CO)(PR3)acacの調製は、反応ステップc)で得られた反応混合物にトリ有機リン化合物(好ましくはトリフェニルホスフィン、PPh3)を直接添加することにより行われる。
反応混合物の加熱、それに続く冷却およびRh(I)目的生成物の単離
トリオルガノホスフィンを添加した後、反応混合物が還流下に加熱され(「還流され」)る。使用される溶媒または溶媒混合物に応じて、温度は50〜120℃の範囲に設定される。混合物を加熱する最高温度は使用される溶媒または溶媒混合物に依存する。反応を完了させるための還流時間は、一般に1〜20時間、好ましくは2〜16時間とすべきである。この反応ステップは、どの場合においても必須ではないが、非常に純度の高い生成物を単離することが可能になる。
本発明により調製される(ジケトナト)(PR3)(CO)Rh型のRh化合物、特にRh(CO)(PPh3)acac(「Ropac」)は、塩素含有率が低い(Wickboldt法により測定された、遊離塩素および結合塩素を含む総塩素含有率)。塩素分析装置(Analytik Jenaから)を用いて測定された、塩化物を含む不純物の比率は、一般には<0.1重量%(1000ppm)、好ましくは<0.03%(300ppm)である。このように塩素の値を低くすることで、本発明により調製された化合物に良好な触媒活性が確保される。
エタノール(工業用)1.6kgを、撹拌機と、バッフルと、還流冷却器と、焼結ガラスフィルター(glass frit)を備えたガス導入管とを取り付けた10L容の二重壁反応器に装入し、撹拌する。この溶液を連続的に撹拌しながら、塩化ロジウム(III)溶液の形態にあるロジウム(1.94mol)200.0g(塩化Rh(III)溶液、Umicore 品番68.2565.2720;Rh含有率約20重量%)を加える。
塩化Rh(III)水和物101.9gの形態にあるロジウム40.0g(0.39mol)(Umicore 品番68.2562.1138、Rh含有率39.25%)、アセチルアセトン437ml(4.29mol)およびエタノール431ml(工業用)を、還流冷却器、精密ガラス撹拌器(precision glass stirrer)および気体導入管を備えた1L容の二重壁反応器に装入する。この混合物を、COガス流を20L/hで流しながら撹拌を行うと同時に60℃に加熱することによって処理する。この条件を13時間維持した後、混合物を約30℃に冷却する。COガスによる処理を停止する。次いでこの溶液にNaHCO3を326.5gを少量ずつ約30分間かけて導入する。その結果としてCO2が遊離する。この混合物を1時間撹拌する。次いでトリフェニルホスフィン105.0g(0.4mol)をトルエン400mlに溶解し、激しく撹拌しながら反応混合物に20分間かけて加える。その直後に(途中に撹拌を行う時間を設けずに)反応混合物を還流温度(約73℃)に加熱する。8時間還流した後、混合物を25℃に冷却し、結果として得られた固体を焼結ガラスフィルターで濾去し、塩化物を含まなくなるようにDI水を少量ずつ導入しながら(計15リットル)洗浄する。次いで固体の重量が一定になるまで40℃の減圧下で乾燥させる。こうすることにより(PPh3)(CO)Rh(acac)182.0gの形態でロジウム38.04gを得る。Rh含有率は20.9%であり、ロジウムを基準とする収率は95.1%である。
Claims (21)
- 式(I):
Rは、C 5〜C10シクロアルキル、C6〜C12アリールまたはC4〜C12ヘテロアリールであり、
R’およびR’’は、それぞれ互いに独立に、C1〜C5アルキル(式中、R、R’およびR’’は、場合により置換されていてもよい)である)のジケトナトカルボニルトリオルガノホスフィンロジウム(I)錯体を調製するためのプロセスであって:
(a)前駆体であるRh(III)ハロゲン化物を溶媒に導入する反応ステップと、
(b)一酸化炭素(CO)ガスで処理する反応ステップと、
(c)R’−C(=O)−CH2−C(=O)−R’’型のジケト化合物および塩基を添加し、中間体である(ジケトナト)Rh(CO)2を生成する反応ステップと、
(d)PR3型のトリオルガノホスフィンを添加する反応ステップと、
(e)反応混合物を加熱し、式(I)のジケトナトカルボニルトリオルガノホスフィンロジウム(I)錯体を単離する反応ステップと
を含み、
反応ステップa)における溶媒として、アルコールが、場合により水との混合物として使用され、
中間体の単離を行うことなく1段階で行われる、プロセス。 - ジケト化合物として、アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、2,2−ジメチル−3,5−ヘキサンジオン、2,4−ヘプタンジオンまたは6−メチル−2,4−ヘプタンジオンが使用される、請求項1に記載のプロセス。
- 反応ステップa)における前駆体であるRh(III)ハロゲン化物として、水を含む塩化ロジウム(III)溶液または固体Rh(III)Cl3水和物が使用される、請求項1または2に記載のプロセス。
- PR3型のトリオルガノホスフィンとして、トリフェニルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンまたはトリ(o−トリル)ホスフィンが使用される、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップa)における溶媒として、メタノール、エタノールおよびイソプロパノールならびにこれらの混合物からなる群からの低級脂肪族アルコールが使用される、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップa)における溶媒として、エタノールが、場合により水との混合物として使用される、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプロセス。
- ステップc)において生成する前記中間体であるジケトナトRh(CO)2が、前記反応混合物中に懸濁して存在する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップb)におけるCOガスによる前記処理が、25〜80℃の範囲の温度で行われる、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプロセス。
- COガスによる前記処理が、2〜24時間にわたって行われる、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップc)における塩基として、NaHCO3、Na2CO3、K2CO3、CaCO3およびBaCO3からなる群から選択される無機塩基またはアルカリ金属ジケトネートもしくはアルカリ土類金属ジケトネートからなる群から選択される有機塩基が使用される、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプロセス。
- ステップc)において、前記ジケト化合物が、Rh1モル当たり2〜12モル当量の量で添加される、請求項1〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップd)において、前記トリオルガノホスフィンが、Rh1モル当たり0.98〜1.08モル当量の量で添加される、請求項1〜11のいずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップd)における前記トリオルガノホスフィンの前記添加が15〜40℃の温度で行われる、請求項1〜12いずれか一項に記載のプロセス。
- 反応ステップd)における前記加熱が、50〜120℃の範囲の温度で、1〜20時間にわたって行われる、請求項1〜13のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記プロセスがワンポット合成である、請求項1〜14のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記ジケトナトカルボニルトリオルガノホスフィンロジウム(I)錯体を前記反応混合物から分離することをさらに含む、請求項1〜15のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記ジケトナトカルボニルトリオルガノホスフィンロジウム(I)錯体を、水と混和性を有する有機溶媒を用いて洗浄することをさらに含む、請求項16に記載のプロセス。
- 均一触媒反応方法であって、
−請求項1〜18のいずれか一項の記載のプロセスにより得られた式(I)の化合物を提供するステップと、
−前記式(I)の化合物を、触媒または触媒前駆体として使用して、均一触媒反応を実施するステップと
を含む方法。 - 前記均一触媒反応が、ヒドロホルミル化反応である、請求項19に記載の方法。
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