JP6152502B2 - フラーレン誘導体および潤滑剤 - Google Patents
フラーレン誘導体および潤滑剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6152502B2 JP6152502B2 JP2017506933A JP2017506933A JP6152502B2 JP 6152502 B2 JP6152502 B2 JP 6152502B2 JP 2017506933 A JP2017506933 A JP 2017506933A JP 2017506933 A JP2017506933 A JP 2017506933A JP 6152502 B2 JP6152502 B2 JP 6152502B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fullerene
- compound
- lubricant
- group
- mmol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 115
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 title claims description 70
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 51
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 48
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 40
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 40
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 31
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 23
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 17
- FSYKKLYZXJSNPZ-UHFFFAOYSA-N sarcosine Chemical compound C[NH2+]CC([O-])=O FSYKKLYZXJSNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 12
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 11
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- BZBLUUDREZEDDJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrachloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)C(F)(F)F BZBLUUDREZEDDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N (2S,3R)-N-[(2S)-3-(cyclopenten-1-yl)-1-[(2R)-2-methyloxiran-2-yl]-1-oxopropan-2-yl]-3-hydroxy-3-(4-methoxyphenyl)-2-[[(2S)-2-[(2-morpholin-4-ylacetyl)amino]propanoyl]amino]propanamide Chemical compound C1(=CCCC1)C[C@@H](C(=O)[C@@]1(OC1)C)NC([C@H]([C@@H](C1=CC=C(C=C1)OC)O)NC([C@H](C)NC(CN1CCOCC1)=O)=O)=O GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 108010077895 Sarcosine Proteins 0.000 description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 6
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 5
- UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 1-[6-[2-[3-[3-[3-[2-[2-[3-[[2-[2-[[(2r)-1-[[2-[[(2r)-1-[3-[2-[2-[3-[[2-(2-amino-2-oxoethoxy)acetyl]amino]propoxy]ethoxy]ethoxy]propylamino]-3-hydroxy-1-oxopropan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]-3-[(2r)-2,3-di(hexadecanoyloxy)propyl]sulfanyl-1-oxopropan-2-yl Chemical compound O=C1C(SCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(=O)N[C@@H](CSC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CO)C(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(N)=O)CC(=O)N1CCNC(=O)CCCCCN\1C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2CC/1=C/C=C/C=C/C1=[N+](CC)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1 UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 5
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 5
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N (1s,2s,3r,4r)-3-[[5-chloro-2-[(1-ethyl-6-methoxy-2-oxo-4,5-dihydro-3h-1-benzazepin-7-yl)amino]pyrimidin-4-yl]amino]bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide Chemical compound CCN1C(=O)CCCC2=C(OC)C(NC=3N=C(C(=CN=3)Cl)N[C@H]3[C@H]([C@@]4([H])C[C@@]3(C=C4)[H])C(N)=O)=CC=C21 GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N 0.000 description 4
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 4
- ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 1-[2-[(2s,3r,4s,5r)-3,4-dihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxy-4,6-dihydroxyphenyl]-3-(4-hydroxyphenyl)propan-1-one Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 0.000 description 4
- BTQAJGSMXCDDAJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC(O)=C(C=O)C(O)=C1 BTQAJGSMXCDDAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N (1S,2S,4R,8S,9S,11S,12R,13S,19S)-6-[(3-chlorophenyl)methyl]-12,19-difluoro-11-hydroxy-8-(2-hydroxyacetyl)-9,13-dimethyl-6-azapentacyclo[10.8.0.02,9.04,8.013,18]icosa-14,17-dien-16-one Chemical compound C([C@@H]1C[C@H]2[C@H]3[C@]([C@]4(C=CC(=O)C=C4[C@@H](F)C3)C)(F)[C@@H](O)C[C@@]2([C@@]1(C1)C(=O)CO)C)N1CC1=CC=CC(Cl)=C1 AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N 0.000 description 3
- 229940126657 Compound 17 Drugs 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 3
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 3
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 3
- 229940126142 compound 16 Drugs 0.000 description 3
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 3
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 3
- UVNPEUJXKZFWSJ-LMTQTHQJSA-N (R)-N-[(4S)-8-[6-amino-5-[(3,3-difluoro-2-oxo-1H-pyrrolo[2,3-b]pyridin-4-yl)sulfanyl]pyrazin-2-yl]-2-oxa-8-azaspiro[4.5]decan-4-yl]-2-methylpropane-2-sulfinamide Chemical compound CC(C)(C)[S@@](=O)N[C@@H]1COCC11CCN(CC1)c1cnc(Sc2ccnc3NC(=O)C(F)(F)c23)c(N)n1 UVNPEUJXKZFWSJ-LMTQTHQJSA-N 0.000 description 2
- IUNJCFABHJZSKB-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C(O)=C1 IUNJCFABHJZSKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CLFRCXCBWIQVRN-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(O)C(C=O)=C1 CLFRCXCBWIQVRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDBQJSCPCGTAFG-QHCPKHFHSA-N 4,4-difluoro-N-[(1S)-3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-pyridin-3-ylpropyl]cyclohexane-1-carboxamide Chemical compound FC1(CCC(CC1)C(=O)N[C@@H](CCN1CCC(CC1)N1C(=NN=C1C)C(C)C)C=1C=NC=CC=1)F WDBQJSCPCGTAFG-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 2
- BWGRDBSNKQABCB-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluoro-N-[3-[3-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)-8-azabicyclo[3.2.1]octan-8-yl]-1-thiophen-2-ylpropyl]cyclohexane-1-carboxamide Chemical compound CC(C)C1=NN=C(C)N1C1CC2CCC(C1)N2CCC(NC(=O)C1CCC(F)(F)CC1)C1=CC=CS1 BWGRDBSNKQABCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUGPIZCTELGDOS-QHCPKHFHSA-N N-[(1S)-3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-pyridin-3-ylpropyl]cyclopentanecarboxamide Chemical compound C(C)(C)C1=NN=C(N1C1CCN(CC1)CC[C@@H](C=1C=NC=CC=1)NC(=O)C1CCCC1)C NUGPIZCTELGDOS-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 2
- LFZAGIJXANFPFN-UHFFFAOYSA-N N-[3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-thiophen-2-ylpropyl]acetamide Chemical compound C(C)(C)C1=NN=C(N1C1CCN(CC1)CCC(C=1SC=CC=1)NC(C)=O)C LFZAGIJXANFPFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- FGSGHBPKHFDJOP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxocyclohexane-1-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCCCC1=O FGSGHBPKHFDJOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- -1 fluorinated triethylene glycol monobutyl ether trifluoromethanesulfonate ester Chemical class 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000194 supercritical-fluid extraction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(F)C(F)(F)C(F)(F)F RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHPPIJMARIVBGU-UHFFFAOYSA-N 1-iodonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(I)=CC=CC2=C1 NHPPIJMARIVBGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNKHYQYAZLEEP-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-yloxynaphthalene Chemical group C1=CC=C2C(OC=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ARNKHYQYAZLEEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDIFKQOHZPTQIR-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-2-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutoxy)ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound OCC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F WDIFKQOHZPTQIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- OAMZXMDZZWGPMH-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;toluene Chemical compound CCOC(C)=O.CC1=CC=CC=C1 OAMZXMDZZWGPMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- NSNPSJGHTQIXDO-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)Cl)=CC=CC2=C1 NSNPSJGHTQIXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000013558 reference substance Substances 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- ZJPIWVHURHLHMV-UHFFFAOYSA-N trimethyl 5-formylbenzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound COC(=O)C=1C(=CC(=C(C=1)C(=O)OC)C=O)C(=O)OC ZJPIWVHURHLHMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/22—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains four or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/58—[b]- or [c]-condensed
- C07D209/70—[b]- or [c]-condensed containing carbocyclic rings other than six-membered
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/08—Bridged systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/12—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains three hetero rings
- C07D487/18—Bridged systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M103/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being an inorganic material
- C10M103/02—Carbon; Graphite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
- C10M105/50—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen
- C10M105/54—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
- C10M105/56—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing nitrogen
- C10M105/70—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing nitrogen as ring hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2213/06—Perfluoro polymers
- C10M2213/0606—Perfluoro polymers used as base material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2215/00—Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2215/22—Heterocyclic nitrogen compounds
- C10M2215/223—Five-membered rings containing nitrogen and carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2020/00—Specified physical or chemical properties or characteristics, i.e. function, of component of lubricating compositions
- C10N2020/01—Physico-chemical properties
- C10N2020/055—Particles related characteristics
- C10N2020/06—Particles of special shape or size
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
- C10N2030/54—Fuel economy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
- C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
- C10N2050/015—Dispersions of solid lubricants
- C10N2050/02—Dispersions of solid lubricants dissolved or suspended in a carrier which subsequently evaporates to leave a lubricant coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2080/00—Special pretreatment of the material to be lubricated, e.g. phosphatising or chromatising of a metal
Description
[1]分子中に、フラーレン骨格と、該フラーレン骨格に3位および4位で縮合したn個のピロリジン環とを有し、
該ピロリジン環は、m個のパーフルオロポリエーテル鎖を有するアリール基を1個有し、
mは2〜5の整数であり、nは1〜5の整数であり、
前記パーフルオロポリエーテル鎖が、
−(CF 2 ) x O−(ただし、式中xは1〜5の整数である。)
から選ばれる少なくとも一つの部分構造を有するフラーレン誘導体。
[2]前記フラーレン誘導体が下記一般式(1)で表される化合物である、前項[1]に記載のフラーレン誘導体。
(式中、FLNはフラーレン骨格であり、Aはパーフルオロポリエーテル鎖であり、R1は水素原子または炭素数24以下の炭化水素基である。)
[3]前記R1が炭素数24以下のアルキル基またはアリール基である前項[2]に記載のフラーレン誘導体。
[4]前記フラーレン骨格がC60である前項[1]〜[3]のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体。
[5]前記パーフルオロポリエーテル鎖が、−(CF2CF2O)y(CF2O)z−で表される部分構造を有する前項[1]〜[4]のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体。(ただし、式中yおよびzは、1〜50の整数である。)
[6]前記パーフルオロポリエーテル鎖が、直鎖である前項[1]〜[5]のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体。
[7]前項[1]〜[6]のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体を含有する潤滑剤。
[8]フラーレン骨格を有しないパーフルオロポリエーテル化合物をさらに含有する前項[7]に記載の潤滑剤。
前記一般式(1)におけるR1は水素原子または炭素数1〜24の炭化水素基であり、炭化水素基としては、例えば、メチル基やエチル基などのアルキル基、フェニル基やナフチル基などのアリール基、ベンジル基やフェニルプロピル基などのアラルキル基が挙げられ、その中でもアルキル基またはアリール基であることが好ましく、メチル基またはフェニル基であることが特に好ましい。
(潤滑剤)
本発明の潤滑剤は、本発明のフラーレン誘導体を含有する。該潤滑剤は、本発明のフラーレン誘導体を単独で用いても良いし、本発明のフラーレン誘導体に加えて、フラーレン骨格を有しないパーフルオロポリエーテル化合物を同時に含有しても良い。フラーレン骨格を有しないパーフルオロポリエーテル化合物としては、特に限定されないが、例えば、従来から潤滑剤として知られているパーフルオロポリエーテル化合物が使用できる。このような化合物としては、例えば、フォンブリン(登録商標)シリーズ(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製)などが挙げられる。
(本発明のフラーレン誘導体の製造方法)
本発明のフラーレン誘導体は、例えば下記に挙げる2種類の合成法に従って製造することができる。
(NMR分析)
1H−NMRは下記の条件にて測定した。
試料調製:試料(約10mg〜30mg)をCDCl3/ヘキサフルオロベンゼン混合溶媒(約0.5mL)に溶解させた後、直径5mmのNMR試料管に入れた。
基準物質:溶媒に添加されたテトラメチルシランのシグナルを基準とした。
(潤滑剤層の膜厚測定)
潤滑剤層の膜厚は赤外吸収スペクトルのC−F結合の伸縮振動エネルギーに相当する吸収ピークの強度より求めた。それぞれの潤滑剤層について4点ずつ測定し、その平均値を膜厚とした。
測定方法:高感度反射法
(潤滑剤層の繰り返し摩擦時の平滑性評価)
潤滑剤層の繰り返し摩擦時の平滑性評価は、クボタ社製のSAFテスターを用いて行った。すなわち、潤滑剤を塗布したハードディスクを12000rpmで回転させながら、ヘッドをディスク表面の同一半径上の箇所へのロードおよび引き続くアンロードを1回/3秒の速度で20000回繰り返した後、光学顕微鏡でディスクの表面を観察し、ヘッドの通過痕の有無を確認した。
(潤滑剤塗布膜の光学表面検査における平滑性の評価)
光学表面検査機を用いて、表面の膜厚分布を観察した。
(合成例1)
フッ素化トリエチレングリコールモノブチルエーテル(Exfluor社製、13g、24mmol)、ピリジン(2.3g、29mmol)をジクロロメタン(120mL)に加え、得られた溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物(8.2g、29mmol)のジクロロメタン(120mL)溶液を滴下した。室温で16時間攪拌した後、反応混合物を純水(100mL)と飽和炭酸ナトリウム水溶液(100mL)で一度ずつ洗浄した。得られた有機層を濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、フッ素化トリエチレングリコールモノブチルエーテルトリフルオロメタンスルホン酸エステル(化合物1)(15g、22mmol、収率92%)を淡黄色油状物質として得た。この粗生成物は精製を行わずに引き続く反応に使用した。
(合成例2)
合成例1で得た化合物1(4.5g、6.6mmol)と2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド(0.41g、3.0mmol)とをN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に加え、得られた溶液に炭酸セシウム(2.9g、9.0mmol)を加えた。70℃で1時間攪拌した後、反応混合物を室温まで冷やし、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた混合物を純水(30mL)とAK―225(30mL)を用いて分液し、さらに水層をAK―225(20mL)で二度抽出した。得られた有機層を水洗し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、赤褐色油状の粗生成物(3.8g)を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン―酢酸エチル(9:1))で精製することで、2,4−ジアルコキシベンズアルデヒド(化合物2)を淡黄色油状物質(3.4g、2.8mmol、収率95%)として得た。
(合成例3)
合成例2で得た化合物2(3.4g、2.8mmol)とN−メチルグリシン(2.2g、25mmol)とをヘキサフルオロテトラクロロブタン(30mL)に加え、得られた混合物にC60フラーレン(1.0g、1.4mol)のオルトジクロロベンゼン(60mL)溶液を速やかに加えた。ジムロート冷却管を取り付け、160℃に設定した湯浴で加熱し、3時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のAK―225に溶解させ濾過した。得られた溶液を純水(50mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(4.0g)を得た。
(合成例4)
合成例1で得た化合物1(4.5g、6.6mmol)と2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド(0.41g、3.0mmol)とをN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に加え、得られた溶液に炭酸セシウム(2.9g、9.0mmol)を加えた。70度で1時間攪拌した後、反応混合物を室温まで冷やし、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた混合物を純水(30mL)とAK―225(30mL)を用いて分液し、さらに水層をAK―225(20mL)で二度抽出した。得られた有機層を水洗し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、赤褐色油状の粗生成物(3.1g)を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン―酢酸エチル(9:1))で精製することで、2,5−ジアルコキシベンズアルデヒド(化合物4)を淡黄色固体(2.3g、1.9mmol、収率65%)として得た。
(合成例5)
合成例4で得た化合物4(2.3g、1.9mmol)とN−メチルグリシン(1.6g、18mmol)とをヘキサフルオロテトラクロロブタン(30mL)に加え、得られた混合物にC60フラーレン(0.75g、1.0mmol)のオルトジクロロベンゼン(60mL)溶液を速やかに加えた。ジムロート冷却管を取り付け、160℃に設定した湯浴で加熱し、3時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のAK―225に溶解させ濾過した。得られた溶液を純水(50mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(1.8g)を得た。
(合成例6)
合成例1で得た化合物1(6.5g、10mmol)、2,4,6−トリヒドロキシベンズアルデヒド(0.47g、3.0mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(60mL)に加え、得られた溶液に炭酸セシウム(4.4g、14mmol)を加えた。70℃で2時間攪拌した後、反応混合物を室温まで冷やし、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた混合物を純水(30mL)とAK―225(30mL)を用いて分液し、さらに水層をAK―225(20mL)で二度抽出した。得られた有機層を水洗し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、赤褐色油状の粗生成物(5.2g)を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン―酢酸エチル(9:1))で精製することで、2,4,6−トリアルコキシベンズアルデヒド(化合物6)を淡黄色油状物質(4.4g、2.5mmol、収率83%)として得た。
(合成例7)
合成例6で得た化合物6(4.4g、2.5mmol)とN−メチルグリシン(2.0g、23mmol)をヘキサフルオロテトラクロロブタン(20mL)に加え、得られた混合物にC60フラーレン(1.9g、2.6mmol)のオルトジクロロベンゼン(40mL)溶液を速やかに加えた。ジムロート冷却管を取り付け、160℃に設定した湯浴で加熱し、4時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のAK―225に溶解させ濾過した。得られた溶液を純水(50mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(5.4g)を得た。
(合成例8)
合成例6で得た化合物6(1.7g、1.0mmol)とN−メチルグリシン(0.80g、9.0mmol)とをヘキサフルオロテトラクロロブタン(20mL)に加え、得られた混合物にC60フラーレン(0.36g、0.50mmol)のオルトジクロロベンゼン(100mL)溶液を速やかに加えた。ジムロート冷却管を取り付け、160℃に設定した湯浴で加熱し、20時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のAK―225に溶解させ濾過した。得られた溶液を純水(50mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(2.1g)を得た。
(合成例9)
数平均分子量(Mn)約1300のフォンブリンZdol(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製、7.8g、6mmol)、ヨウ化銅(I)(0.18g、0.95mmol)、2−シクロヘキサノンカルボン酸エチル(0.31g、1.8mmol)、1−ヨードナフタレン(2.3g、9.0mmol)を混合し、溶媒を加えずに攪拌しながら炭酸セシウム(4.9g、15mmol)を加えた。100℃で20時間攪拌した後、反応混合物を希塩酸(50mL)とAK225(50mL)で分液し、水層をさらにAK225(50mL)で二度抽出した。得られた有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、粗生成物(8.1g)を黄褐色油状物質として得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン―酢酸エチル(9:1〜3:1))で精製することで、片方の末端部にナフチルエーテル構造を持つフォンブリン(化合物9)を無色油状物質(3.0g、2.1mmol、収率35%)として得た。
(合成例10)
合成例9で得た化合物9(2.6g、1.9mmol)、ピリジン(0.22g、2.7mmol)をAK225(20mL)に加え、得られた溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物(0.8g、2.8mmol)のAK225(20mL)溶液を滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応混合物を純水(100mL)と飽和炭酸ナトリウム水溶液(100mL)で一度ずつ洗浄した。得られた有機層を濾過した後、フォンブリン構造を持つトリフルオロメタンスルホン酸エステル(化合物10)(2.5g、1.6mmol、収率84%)を無色油状物質として得た。この粗生成物は精製を行わずに引き続く反応に使用した。
(合成例11)
合成例10で得た化合物10(2.2g、1.4mmol)、2,4,6−トリヒドロキシベンズアルデヒド(89mg、0.58mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に加え、得られた溶液に炭酸セシウム(0.66g、2.0mmol)を加えた。70℃で2時間攪拌した後、反応混合物を室温まで冷やし、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた混合物を純水(20mL)とAK―225(20mL)を用いて分液し、さらに水層をAK―225(20mL)で二度抽出した。得られた有機層を水洗し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、赤褐色油状の粗生成物(2.9g)を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン―酢酸エチル(17:3))で精製することで、2,4,6−トリアルコキシベンズアルデヒド(化合物11)を無色油状物質(1.5g、0.35mmol、収率61%)として得た。
(合成例12)
合成例11で得た化合物11(1.5g、0.35mmol)とN−メチルグリシン(0.30g、3.3mmol)とをヘキサフルオロテトラクロロブタン(15mL)に加え、得られた混合物にC60フラーレン(0.25g、0.34mmol)のオルトジクロロベンゼン(30mL)溶液を速やかに加えた。ジムロート冷却管を取り付け、180℃に設定した湯浴で加熱し、3時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のAK―225に溶解させ濾過した。得られた溶液を純水(50mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(0.45g)を得た。
(合成例13)
合成例11で得た化合物11(1.0g、0.24mmol)とN−メチルグリシン(0.20g、2.2mmol)とをヘキサフルオロテトラクロロブタン(15mL)に加え、得られた混合物にC60フラーレン(0.06g、0.08mmol)のオルトジクロロベンゼン(30mL)溶液を速やかに加えた。ジムロート冷却管を取り付け、180℃に設定した湯浴で加熱し、5時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のAK―225に溶解させ濾過した。得られた溶液を純水(50mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(0.32g)を得た。
(合成例14)
4−ホルミル−1,2,5ベンゼントリカルボン酸トリメチルエステル(0.62g、2.2mmol)とN−メチルグリシン(0.98g、11mmol)の混合物に、C60フラーレン(0.64g、0.89mmol)のオルトジクロロベンゼン(50mL)溶液を速やかに加え、150℃に設定した湯浴で加熱し、3時間攪拌した。室温まで冷やした反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、適量のトルエンに溶解させ濾過した。得られた溶液をロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色固体状の粗生成物(2.4g)を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:トルエン―酢酸エチル(9:1))で精製することで、3個のピロリジン環を持つフラーレン誘導体(化合物14)を黒色固体(0.34g、0.21mmol、収率23%)として得た。
(合成例15)
合成例14で得た化合物14(0.19g、0.11mmol)のオルトジクロロベンゼン(60mL)溶液に数平均分子量(Mn)約2000のフォンブリンZdol(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製、3.8g、1.9mmol)のヘキサフルオロテトラクロロブタン(60mL)溶液を加えた。得られた混合物にトリフルオロメタンスルホン酸(1mL)を滴下した後、モレキュラーシーブス4Aが入ったソックスレー抽出器とジムロート冷却管を取り付け、190℃に設定した湯浴で加熱し、5時間攪拌しながら還流した。室温まで冷やした反応混合物にアンモニア水(10mL)を加えて中和した後に、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた油状物質を適量のAK―225に溶解させ濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(3.3g)を得た。
(合成例16)
合成例15で得た化合物15(0.17g、8.7umol)とトリエチルアミン(16mg、0.16mmol)をAK225(10mL)に加えた。得られた混合物を氷浴によって冷却した後、1−ナフトイルクロリド(20mg、0.10mmol)を加えた。混合物を室温に戻し、15時間攪拌した。反応混合物にアンモニア水(1mL)を加えた後に、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた白色の粉末を含む油状物質を適量のテトラデカフルオロヘキサンに溶解させ濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(0.10g)を得た。
(実施例1)
化合物3に、フッ素系溶媒であるテトラデカフルオロヘキサン(スリーエム社製PF−5060)にそれぞれ0.005質量%の濃度になるように混合し、溶解したかどうかを目視で評価した。結果を表1に示す。
(実施例2〜7)
化合物3に代えて、化合物5、化合物7、化合物8、化合物12、化合物13、化合物16をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様に溶解性の評価を行った。結果を同様に表1に示す。
(比較例1)
化合物3に代えて、特許文献5(特許第5600202号公報)に記載されている下記フラーレン誘導体(化合物17(C17))を用いた以外は実施例1と同様にして溶解性の評価を行った。結果を同様に表1に示す。
(実施例8)
Arガス雰囲気中で、カーボンをターゲットとして用いた高周波マグネトロンスパッタにより、磁気ディスク用2.5インチガラスプランク上にDLC(Diamond−Like Carbon)からなるカーボン保護膜を成膜し、模擬ディスクを作製した。
(実施例11)
実施例9で作製したディスク(化合物8、潤滑剤溶液濃度0.005質量%)に対して繰り返し摩擦時の平滑性評価を行った。クボタ社製のSAFテスターを用いたロード/アンロード動作の後、ディスクの表面を光学顕微鏡で観察したところディスク表面の平滑性の乱れは観察されなかった。
(比較例2)
潤滑剤として特許文献5(特許第5600202号公報)に記載されている化合物17を化合物8の代わりに用いた以外は実施例9と同様にして潤滑剤層を形成しようとしたところ、化合物17はテトラデカフルオロヘキサンに溶けず、潤滑剤層を形成することができなかった。
(比較例3)
潤滑剤として特許文献5(特許第5600202号公報)に記載されている化合物12を化合物8の代わりに用い、溶媒として1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン(三井デュポンフロロケミカル社製、バートレル(登録商標)XF)を用いた以外は実施例9と同様にして潤滑剤層を形成した。このようにして得られた潤滑剤層の膜厚は10.5Åであった。また、実施例11と同様に繰り返し摩擦時の平滑性評価を行った。その結果、ヘッドがロードされる円周上に凹凸が観察された。
(実施例12)
実施例9と同様の方法で作製したディスクの表面を、光学表面検査機を用いて観察した。結果として十分均一に潤滑剤塗布膜が形成されていることが確認された。得られた塗布膜分布の画像を図1に示す。なお、ディスク周囲の3点で塗布膜が不均一に見える部分があるが、これらはディスク支持部の痕跡なので塗布膜分布の評価には含めない。
(実施例13)
化合物8に代えて、化合物12を用いた以外は実施例9と同様の方法で作製したディスクの表面を、光学表面検査機を用いて観察した。結果として、実施例12よりもさらに均一に潤滑剤塗布膜が形成され、ディスク上に直線状の塗布膜ムラがまったく観察されなかった。得られた塗布膜分布の画像を図2に示す。
Claims (8)
- 分子中に、フラーレン骨格と、該フラーレン骨格に3位および4位で縮合したn個のピロリジン環とを有し、
該ピロリジン環は、m個のパーフルオロポリエーテル鎖を有するアリール基を1個有し、
mは2〜5の整数であり、nは1〜5の整数であり、
前記パーフルオロポリエーテル鎖が、
−(CF 2 ) x O−(ただし、式中xは1〜5の整数である。)
から選ばれる少なくとも一つの部分構造を有するフラーレン誘導体。 - 前記R1が炭素数24以下のアルキル基またはアリール基である請求項2に記載のフラーレン誘導体。
- 前記フラーレン骨格がC60である請求項1〜3のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体。
- 前記パーフルオロポリエーテル鎖が、
−(CF2CF2O)y(CF2O)z−
で表される部分構造を有する請求項1〜4のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体。
(ただし、式中yおよびzは、1〜50の整数である。) - 前記パーフルオロポリエーテル鎖が、直鎖である請求項1〜5のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体を含有する潤滑剤。
- フラーレン骨格を有しないパーフルオロポリエーテル化合物をさらに含有する請求項7に記載の潤滑剤。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015134576 | 2015-07-03 | ||
JP2015134576 | 2015-07-03 | ||
PCT/JP2016/069159 WO2017006812A1 (ja) | 2015-07-03 | 2016-06-28 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6152502B2 true JP6152502B2 (ja) | 2017-06-21 |
JPWO2017006812A1 JPWO2017006812A1 (ja) | 2017-07-06 |
Family
ID=57685511
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016120380A Active JP6820675B2 (ja) | 2015-07-03 | 2016-06-17 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
JP2017506933A Active JP6152502B2 (ja) | 2015-07-03 | 2016-06-28 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016120380A Active JP6820675B2 (ja) | 2015-07-03 | 2016-06-17 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10336764B2 (ja) |
EP (1) | EP3318553B1 (ja) |
JP (2) | JP6820675B2 (ja) |
CN (1) | CN107709296B (ja) |
WO (1) | WO2017006812A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6893443B2 (ja) * | 2017-06-08 | 2021-06-23 | 昭和電工株式会社 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
JP6603440B2 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-11-06 | 昭和電工株式会社 | 有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法 |
CN111278956B (zh) | 2017-10-25 | 2022-11-04 | 昭和电工株式会社 | 润滑油组合物及其制造方法 |
CN115058280B (zh) * | 2017-10-25 | 2024-02-13 | 株式会社力森诺科 | 润滑油组合物及其制造方法 |
WO2019240058A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 昭和電工株式会社 | フラーレン化合物、磁気記録媒体用潤滑剤及び磁気記録媒体 |
JP6826694B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2021-02-03 | 昭和電工株式会社 | グリース組成物 |
WO2020129538A1 (ja) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | 昭和電工株式会社 | 潤滑油組成物 |
JP7377439B2 (ja) | 2020-03-16 | 2023-11-10 | 株式会社レゾナック | 冷媒組成物及び冷却装置 |
JP2022062423A (ja) * | 2020-10-08 | 2022-04-20 | 昭和電工株式会社 | 湿式クラッチ装置及び湿式ブレーキ装置 |
CN116462198B (zh) * | 2023-04-14 | 2024-04-23 | 同济大学 | 富勒烯共价功能化少层碳化钛MXene非线性光学纳米杂化材料及其合成与应用 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006131874A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 潤滑剤および磁気記録媒体 |
JP5643572B2 (ja) * | 2009-12-09 | 2014-12-17 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、それを含有する電荷移動材料、それを含有するn型半導体材料、およびそれを含有するn型半導体薄膜 |
JP2011121886A (ja) * | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Daikin Industries Ltd | フラーレン誘導体、およびそれを含有する半導体材料、およびそれを含有する半導体薄膜 |
JP2013140923A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-07-18 | Osaka Univ | 有機半導体薄膜、及び有機薄膜太陽電池 |
JP2013170137A (ja) | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Osaka Univ | フラーレン誘導体 |
JP2015013844A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP5600202B1 (ja) * | 2013-12-05 | 2014-10-01 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP5600222B1 (ja) | 2014-01-16 | 2014-10-01 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 |
WO2015125940A1 (ja) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | 昭和電工株式会社 | フラーレン誘導体、フッ素樹脂組成物および潤滑剤 |
JP6145424B2 (ja) * | 2014-05-15 | 2017-06-14 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置 |
-
2016
- 2016-06-17 JP JP2016120380A patent/JP6820675B2/ja active Active
- 2016-06-28 JP JP2017506933A patent/JP6152502B2/ja active Active
- 2016-06-28 CN CN201680034790.2A patent/CN107709296B/zh active Active
- 2016-06-28 WO PCT/JP2016/069159 patent/WO2017006812A1/ja active Application Filing
- 2016-06-28 EP EP16821281.9A patent/EP3318553B1/en active Active
-
2017
- 2017-12-01 US US15/828,987 patent/US10336764B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107709296B (zh) | 2020-10-02 |
EP3318553B1 (en) | 2020-06-17 |
US10336764B2 (en) | 2019-07-02 |
CN107709296A (zh) | 2018-02-16 |
EP3318553A1 (en) | 2018-05-09 |
JPWO2017006812A1 (ja) | 2017-07-06 |
WO2017006812A1 (ja) | 2017-01-12 |
EP3318553A4 (en) | 2018-12-05 |
US20180086771A1 (en) | 2018-03-29 |
JP2017014192A (ja) | 2017-01-19 |
JP6820675B2 (ja) | 2021-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6152502B2 (ja) | フラーレン誘導体および潤滑剤 | |
JP6606785B2 (ja) | フラーレン誘導体、フッ素樹脂組成物および潤滑剤 | |
JP5909837B2 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
JP5613916B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、その製造方法、該化合物を含有する潤滑剤、および磁気ディスク | |
US10246553B2 (en) | Organic fluorine compound and lubricant | |
JP6695480B2 (ja) | 化合物およびフラーレン誘導体の製造方法 | |
JP6603440B2 (ja) | 有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法 | |
WO2011099131A1 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、その製造方法、該化合物を含有する潤滑剤、および磁気ディスク | |
WO2019240058A1 (ja) | フラーレン化合物、磁気記録媒体用潤滑剤及び磁気記録媒体 | |
TW201245437A (en) | Lubricant compositions containing fluorooxiranes | |
JP6893443B2 (ja) | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20170301 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170516 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170529 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6152502 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |