JP6695480B2 - 化合物およびフラーレン誘導体の製造方法 - Google Patents
化合物およびフラーレン誘導体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6695480B2 JP6695480B2 JP2019112534A JP2019112534A JP6695480B2 JP 6695480 B2 JP6695480 B2 JP 6695480B2 JP 2019112534 A JP2019112534 A JP 2019112534A JP 2019112534 A JP2019112534 A JP 2019112534A JP 6695480 B2 JP6695480 B2 JP 6695480B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- fullerene
- compound
- fullerene derivative
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 112
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 62
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 15
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 13
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000000194 supercritical-fluid extraction Methods 0.000 claims description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 238000010485 C−C bond formation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 101100386054 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) CYS3 gene Proteins 0.000 claims description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 3
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 claims description 3
- 101150035983 str1 gene Proteins 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 65
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 25
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 12
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 9
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 7
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 6
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BZBLUUDREZEDDJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrachloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)C(F)(F)F BZBLUUDREZEDDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 5
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 4
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N (2S,3R)-N-[(2S)-3-(cyclopenten-1-yl)-1-[(2R)-2-methyloxiran-2-yl]-1-oxopropan-2-yl]-3-hydroxy-3-(4-methoxyphenyl)-2-[[(2S)-2-[(2-morpholin-4-ylacetyl)amino]propanoyl]amino]propanamide Chemical compound C1(=CCCC1)C[C@@H](C(=O)[C@@]1(OC1)C)NC([C@H]([C@@H](C1=CC=C(C=C1)OC)O)NC([C@H](C)NC(CN1CCOCC1)=O)=O)=O GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N 0.000 description 3
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 3
- 0 BC(C(C)(C(C)(C)C(OC)=*1)C1=O)C(OC)=O Chemical compound BC(C(C)(C(C)(C)C(OC)=*1)C1=O)C(OC)=O 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 3
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 2
- UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 1-[6-[2-[3-[3-[3-[2-[2-[3-[[2-[2-[[(2r)-1-[[2-[[(2r)-1-[3-[2-[2-[3-[[2-(2-amino-2-oxoethoxy)acetyl]amino]propoxy]ethoxy]ethoxy]propylamino]-3-hydroxy-1-oxopropan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]-3-[(2r)-2,3-di(hexadecanoyloxy)propyl]sulfanyl-1-oxopropan-2-yl Chemical compound O=C1C(SCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(=O)N[C@@H](CSC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CO)C(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(N)=O)CC(=O)N1CCNC(=O)CCCCCN\1C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2CC/1=C/C=C/C=C/C1=[N+](CC)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1 UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- OAMZXMDZZWGPMH-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;toluene Chemical compound CCOC(C)=O.CC1=CC=CC=C1 OAMZXMDZZWGPMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 2
- -1 polymethylene group Polymers 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- UVNPEUJXKZFWSJ-LMTQTHQJSA-N (R)-N-[(4S)-8-[6-amino-5-[(3,3-difluoro-2-oxo-1H-pyrrolo[2,3-b]pyridin-4-yl)sulfanyl]pyrazin-2-yl]-2-oxa-8-azaspiro[4.5]decan-4-yl]-2-methylpropane-2-sulfinamide Chemical compound CC(C)(C)[S@@](=O)N[C@@H]1COCC11CCN(CC1)c1cnc(Sc2ccnc3NC(=O)C(F)(F)c23)c(N)n1 UVNPEUJXKZFWSJ-LMTQTHQJSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDBQJSCPCGTAFG-QHCPKHFHSA-N 4,4-difluoro-N-[(1S)-3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-pyridin-3-ylpropyl]cyclohexane-1-carboxamide Chemical compound FC1(CCC(CC1)C(=O)N[C@@H](CCN1CCC(CC1)N1C(=NN=C1C)C(C)C)C=1C=NC=CC=1)F WDBQJSCPCGTAFG-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- QHYCHEVVSZSDCU-UHFFFAOYSA-N BrC(C(C(C)(C(=O)OC)C)(C(=O)OC)C)C(=O)OC Chemical compound BrC(C(C(C)(C(=O)OC)C)(C(=O)OC)C)C(=O)OC QHYCHEVVSZSDCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUGPIZCTELGDOS-QHCPKHFHSA-N N-[(1S)-3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-pyridin-3-ylpropyl]cyclopentanecarboxamide Chemical compound C(C)(C)C1=NN=C(N1C1CCN(CC1)CC[C@@H](C=1C=NC=CC=1)NC(=O)C1CCCC1)C NUGPIZCTELGDOS-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- AMZMQXJQIYKBJU-UHFFFAOYSA-N O=C(c1ccccc1)OI Chemical compound O=C(c1ccccc1)OI AMZMQXJQIYKBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- POYILCADXMESKZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl 4-bromo-2,2-dimethylpentanedioate Chemical compound COC(=O)C(Br)CC(C)(C)C(=O)OC POYILCADXMESKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- NSNPSJGHTQIXDO-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)Cl)=CC=CC2=C1 NSNPSJGHTQIXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M107/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound
- C10M107/38—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/62—Halogen-containing esters
- C07C69/63—Halogen-containing esters of saturated acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/321—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
- C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
- C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
- C08G65/3324—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof cyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
- C10M105/50—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen
- C10M105/54—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M131/00—Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing halogen
- C10M131/08—Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing halogen containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
- C10M131/12—Acids; Salts or esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2211/00—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2211/04—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions containing carbon, hydrogen, halogen, and oxygen
- C10M2211/044—Acids; Salts or esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2213/06—Perfluoro polymers
- C10M2213/0606—Perfluoro polymers used as base material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
- C10N2030/06—Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
- C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
- C10N2050/08—Solids
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/54—Improvements relating to the production of bulk chemicals using solvents, e.g. supercritical solvents or ionic liquids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyethers (AREA)
Description
[1] フラーレン骨格に縮合したn個のシクロプロパン環を有する化合物であって、一般式(5)
R 1 −O−CO−
で表される基のいずれかであり、2m個のRのうち、少なくとも1個は、前記炭化水素基であり、mは1〜5の整数であり、nは1〜6の整数である。)
で表される、化合物。
[2]前記フラーレン骨格がC60骨格である、[1]に記載の化合物。
[3]前記2m個のRのうち、カルボニル基のα位の炭素原子に結合するRの少なくとも1つが、前記炭化水素基である、[1]又は[2]に記載の化合物。
[4]前記2m個のRのうち、少なくとも1つは、非結合末端基がアリール基である、[1]乃至[3]のいずれか一項に記載の化合物。
[5]前記mが2以上である、[1]乃至[4]のいずれか一項に記載の化合物。
[6][1]乃至[5]のいずれか一項に記載の化合物を用いて、フラーレン誘導体を製造する方法であって、前記フラーレン誘導体は、一般式(1)
Ar−COO−CH 2 −A 1 −CH 2 − または HO−CH 2 −A 1 −CH 2 −
(式中、Arは、アリール基またはアラルキル基であり、A 1 は、2価のパーフルオロポリエーテル基である。)
で表される基であり、A以外は、前記一般式(5)と同一である。)
で表され、前記化合物と、2価のパーフルオロポリエーテル基を有するアルコール誘導体を、酸触媒の存在下、エステル交換反応させる工程を含む、フラーレン誘導体の製造方法。
[7]一般式(6)
で表されるα−ハロエステルに塩基を作用させることで生成するエノラート種のフラーレンへの付加反応および引き続くフラーレン骨格上に生成したカルボアニオン種のハロゲン元素を有する炭素原子への求核攻撃に基づく炭素−炭素結合生成反応によって前記化合物を得る工程をさらに含む、[6]に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
[8]前記酸触媒は、有機スルホン酸である、[6]又は[7]に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
[10]前記エステル交換反応を、不活性ガス雰囲気中で実施する、[6]乃至[9]のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
[11]前記エステル交換反応の生成物を、フッ素系溶媒に溶解させ、濾過することで、不純物を除く工程をさらに含む、[6]乃至[10]のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
[12]前記不純物が除かれたエステル交換反応の生成物を、二酸化炭素超臨界流体抽出法により、精製する工程をさらに含む、[11]に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
本実施形態のフラーレン誘導体は、一般式(1)
で表される。
A−O−CO−
で表される基であることが望ましい。即ち、Rにおける2価のパーフルオロポリエーテル基を含むアルコキシ基が一般式
A−O−
で表される基であることが好ましい。
−(CF2)xO−
(式中、xは1〜5の整数である。)
で表される部分構造から選ばれる少なくとも一つの部分構造を有することが好ましい。本実施形態のフラーレン誘導体は、2価のパーフルオロポリエーテル基がこれらの部分構造を有することで、2価のパーフルオロポリエーテル基が当該部分構造を有しないフラーレン誘導体に対し、フッ素系溶媒に対する溶解性が増し、その結果、被塗布面に、より均一にフラーレン誘導体を塗布することが可能になる。また、2価のパーフルオロポリエーテル基を有する化合物の中でも、xが1〜3である2価のパーフルオロポリエーテル基を有する化合物は、工業的に製造されており、容易に入手することができるため、産業上利用しやすい。
−(CF2CF2O)y(CF2O)z−
(式中、yおよびzは、それぞれ独立に、1〜50の整数である。)
で表される部分構造を有することがより好ましい。
−(CF2CF2O)y(CF2O)z−
で表される部分構造の平均式量は、500から6000の範囲内であることが好ましく、600から3000の範囲内であることがより好ましい。これにより、フラーレン誘導体の潤滑性やフッ素系溶媒への溶解性が向上する。
−(CF2)xO−
で表される部分構造、または、一般式
−(CF2CF2O)y(CF2O)z−
で表される部分構造は、シクロプロパン環等を介して、何れの方向にフラーレン骨格が結合してもよい。
Ar−COO−CH2−A1−CH2−
(式中、Arはアリール基またはアラルキル基であり、A1は、2価のパーフルオロポリエーテル基である。)
で表される基であることが好ましい。
本実施形態の潤滑剤は、本実施形態のフラーレン誘導体を含有する。本実施形態の潤滑剤は、本実施形態のフラーレン誘導体を単独で用いても良いし、本実施形態のフラーレン誘導体に、本実施形態の潤滑剤の効果を損なわない範囲で、他の潤滑剤成分や一般的に潤滑剤に用いられる添加剤等を添加して用いても良い。
本実施形態のフラーレン誘導体は、例えば、下記の合成方法に従って合成することができる。
−(C=O)−O−R1
で表される基であることが好ましい。)
で表されるα−ハロエステルに塩基を作用させることで生成するエノラート種のフラーレンへの付加反応および引き続くフラーレン骨格上に生成したカルボアニオン種のハロゲン元素を有する炭素原子への求核攻撃に基づく炭素−炭素結合生成反応によって得ることができる。
化合物1〜3の合成:
1−ブロモ−3−メチル−1,3−ブタンジカルボン酸ジメチル(東京化成工業社製)(0.4g、1.5mmol)と、C60フラーレン(0.36g、0.50mmol)を、o−ジクロロベンゼン(40mL)に加えた。得られた混合物にカリウムt−ブトキシド(0.22g、2.0mmol)を加え、室温で3日攪拌した後、反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた黒色油状物質を適量のトルエンに溶解させ、濾過した後、再びロータリーエバポレーターで濃縮することで、粗生成物(0.62g)を黒色固体として得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:トルエン−酢酸エチル(100:0〜9:1))により、粗生成物を精製した。これにより、2個のシクロプロパン環を有するフラーレン誘導体(化合物1)を黒色固体(94mg、86μmol、収率17%)として、3個のシクロプロパン環を有するフラーレン誘導体(化合物2)を黒色固体(40mg、31μmol、収率6%)として、4〜6個のシクロプロパン環を有するフラーレン誘導体(化合物3)を黒色固体(132mg、混合物)として得た。
化合物4の合成:
合成例1で得た化合物1(94mg、86μmol)のo−ジクロロベンゼン(25mL)溶液に、数平均分子量約2000のパーフルオロポリエーテル化合物フォンブリンZdol(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製)(2.5g、1.3mmol)のヘキサフルオロテトラクロロブタン(25mL)溶液を加えた後、トリフルオロメタンスルホン酸(1mL)を滴下した。次に、モレキュラーシーブス4A(以下、「MS4A」と記すことがある。)入りガラス繊維製円筒濾紙を備え付けたソックスレー抽出器とジムロート冷却管とを取り付けた後、190℃に設定した湯浴で加熱し、3時間攪拌しながら還流した。反応混合物を室温まで冷却し、アンモニア水(10mL)を加えて中和した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた油状物質を適量のフッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)に溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(3.2g)を得た。
化合物5の合成:
合成例2で得た化合物4(0.22g、25μmol)と、トリエチルアミン(23mg、0.23mmol)を、フッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)(10mL)に加え、氷浴によって冷却した後、ベンゾイルクロリド(21mg、0.15mmol)を加えた。混合物を室温に戻した後、15時間攪拌した。反応混合物にアンモニア水(1mL)を加えた後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた白色の粉末を含む油状物質を適量のテトラデカフルオロヘキサンに溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(0.20g)を得た。
化合物6の合成:
合成例1で得た化合物2(22mg、17μmol)のo−ジクロロベンゼン(25mL)溶液に、数平均分子量約2000のパーフルオロポリエーテル化合物フォンブリンZdol(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製)(1.0g、0.5mmol)のヘキサフルオロテトラクロロブタン(25mL)溶液を加えた後、トリフルオロメタンスルホン酸(0.5mL)を滴下した。次に、モレキュラーシーブス4A入りガラス繊維製円筒濾紙を備え付けたソックスレー抽出器とジムロート冷却管とを取り付けた後、190℃に設定した湯浴で加熱し、15時間攪拌しながら還流した。反応混合物を室温まで冷却し、アンモニア水(10mL)を加えて中和した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた油状物質を適量のフッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)に溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(1.1g)を得た。
化合物7の合成:
合成例4で得た化合物6(65g、5.0μmol)と、トリエチルアミン(22mg、0.22mmol)を、フッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)(10mL)に加え、氷浴によって冷却した後、ベンゾイルクロリド(10mg、71μmol)を加えた。混合物を室温に戻した後、15時間攪拌した。反応混合物にアンモニア水(1mL)を加えた後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた白色の粉末を含む油状物質を適量のテトラデカフルオロヘキサンに溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(60mg)を得た。
化合物8の合成:
合成例1で得た化合物3(0.13g、混合物)のo−ジクロロベンゼン(30mL)溶液に、数平均分子量約2000のパーフルオロポリエーテル化合物フォンブリンZdol(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製)(3.6g、1.8mmol)のヘキサフルオロテトラクロロブタン(30mL)溶液を加えた後、トリフルオロメタンスルホン酸(1mL)を滴下した。次に、モレキュラーシーブス4A入りガラス繊維製円筒濾紙を備え付けたソックスレー抽出器とジムロート冷却管とを取り付けた後、190℃に設定した湯浴で加熱し、3時間攪拌しながら還流した。反応混合物を室温まで冷却し、アンモニア水(10mL)を加えて中和した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた油状物質を適量のフッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)に溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(3.6g)を得た。
化合物9の合成:
合成例6で得た化合物8(0.19g)と、トリエチルアミン(40mg、0.40mmol)を、フッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)(10mL)に加え、氷浴によって冷却した後、1−ナフトイルクロリド(43mg、2.3mmol)を加えた。混合物を室温に戻した後、15時間攪拌した。反応混合物にアンモニア水(1mL)を加えた後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた白色の粉末を含む油状物質を適量のテトラデカフルオロヘキサンに溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(91mg)を得た。
化合物10の合成:
1−ブロモ−2,3−ジメチル−1,2,3−ブタントリカルボン酸トリメチル(東京化成工業社製)(1.0g、3.0mmol)と、水素化ナトリウム(純度約50%、1.0g、21mmol)を、トルエン(100mL)に加えた。得られた混合物に、C60フラーレン(0.73g、1.0mmol)を加え、ジムロート冷却管を取り付けた後、130℃に設定した湯浴で加熱し、7日攪拌しながら還流した。反応混合物を室温まで冷却し、希塩酸(5mL)を加えた後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた黒色油状物質を適量のトルエンに溶解させ、濾過した後、再びロータリーエバポレーターで濃縮することで、粗生成物(0.72g)を黒色固体として得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:トルエン−酢酸エチル(9:1))により、粗生成物を精製することで、3個のシクロプロパン環を有するフラーレン誘導体(化合物10)を黒色固体(0.23g、0.15mmol、収率15%)として得た。
化合物11の合成:
合成例8で得た化合物10(0.23g、0.16mmol)のo−ジクロロベンゼン(60mL)溶液に、数平均分子量約2000のパーフルオロポリエーテル化合物フォンブリンZdol(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製)(5.7g、2.9mmol)のヘキサフルオロテトラクロロブタン(60mL)溶液を加えた後、トリフルオロメタンスルホン酸(1mL)を滴下した。次に、モレキュラーシーブス4A入りガラス繊維製円筒濾紙を備え付けたソックスレー抽出器とジムロート冷却管とを取り付けた後、190℃に設定した湯浴で加熱し、5時間攪拌しながら還流した。反応混合物を室温まで冷却し、アンモニア水(10mL)を加えて中和した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた油状物質を適量のフッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)に溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物(5.7g)を得た。
化合物12の合成:
合成例9で得た化合物11(0.11g、6.0μmol)と、トリエチルアミン(22mg、0.22mmol)を、フッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製)(10mL)に加え、氷浴によって冷却した後、ベンゾイルクロリド(28mg、0.20mmol)を加えた。混合物を室温に戻した後、15時間攪拌した。反応混合物にアンモニア水(1mL)を加えた後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた白色の粉末を含む油状物質を適量のテトラデカフルオロヘキサンに溶解させ、濾過した後、ロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色固体状の粗生成物(95mg)を得た。
Arガス雰囲気中で、カーボンをターゲットとして用いた高周波マグネトロンスパッタにより、磁気ディスク用2.5インチガラスブランク上にDLC(Diamond−Like Carbon)からなる保護層を成膜し、模擬ディスクを作製した。
化合物5に代えて、化合物7、化合物9、化合物12をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして、模擬ディスクの保護層上に潤滑剤層を形成した。
特許文献5に記載されている、化学式
溶媒として、バートレル(登録商標)XF(1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン)(三井デュポンフロロケミカル社製)を用いた以外は、比較例1と同様にして、模擬ディスクの保護層上に潤滑剤層を形成した。
特許文献7に記載されている、化学式
溶媒として、バートレル(登録商標)XF(1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン)(三井デュポンフロロケミカル社製)を用いた以外は、比較例3と同様にして、模擬ディスクの保護層上に潤滑剤層を形成した。
下記の測定装置および測定方法により測定される、赤外吸収スペクトルのC−F結合の伸縮振動エネルギーに相当する吸収ピークの強度より、潤滑剤層の膜厚を求めた。それぞれの潤滑剤層について、膜厚を4点ずつ測定し、その平均値を平均膜厚とした。
測定方法:高感度反射法
(潤滑剤層の耐摩耗性)
ピンオンディスク型摩擦摩耗試験機FRICTION PLAYER FRR−2000(RHESCA社製)を用いて、潤滑剤層の耐摩耗性を評価した。このとき、接触子としては、直径2mmのAlTiCの球を用い、荷重40gf、摺動速度0.25m/sの条件で、摩擦摩耗試験を実施した。潤滑剤の摩耗が進行し、潤滑剤層がなくなると、接触子と基板が接触する。これにより、模擬ディスクの表面の摩擦係数が大きく変動する。耐摩耗性の評価指標として、模擬ディスクの表面の摩擦係数が急激に変動するまでの時間を測定した。それぞれの潤滑剤層について、摩擦係数が急激に変動するまでの時間を4回ずつ測定し、その平均値を潤滑剤層の耐摩耗性の評価指標とした。
Claims (12)
- 前記フラーレン骨格は、C60骨格である、請求項1に記載の化合物。
- 前記2m個のRのうち、カルボニル基のα位の炭素原子に結合するRの少なくとも1つが、前記炭化水素基である、請求項1又は2に記載の化合物。
- 前記2m個のRのうち、少なくとも1つは、非結合末端基がアリール基である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の化合物。
- 前記mが2以上である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の化合物。
- 前記酸触媒は、有機スルホン酸である、請求項6又は7に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 前記エステル交換反応を、芳香族系溶媒とフッ素系溶媒との混合溶媒中で実施する、請求項6乃至8のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 前記エステル交換反応を、不活性ガス雰囲気中で実施する、請求項6乃至9のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 前記エステル交換反応の生成物を、フッ素系溶媒に溶解させ、濾過することで、不純物を除く工程をさらに含む、請求項6乃至10のいずれか一項に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 前記不純物が除かれたエステル交換反応の生成物を、二酸化炭素超臨界流体抽出法により、精製する工程をさらに含む、請求項11に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016158026 | 2016-08-10 | ||
JP2016158026 | 2016-08-10 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018533504A Division JP6545391B2 (ja) | 2016-08-10 | 2017-08-08 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019189626A JP2019189626A (ja) | 2019-10-31 |
JP6695480B2 true JP6695480B2 (ja) | 2020-05-20 |
Family
ID=61162280
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018533504A Active JP6545391B2 (ja) | 2016-08-10 | 2017-08-08 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
JP2019112534A Active JP6695480B2 (ja) | 2016-08-10 | 2019-06-18 | 化合物およびフラーレン誘導体の製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018533504A Active JP6545391B2 (ja) | 2016-08-10 | 2017-08-08 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10738260B2 (ja) |
EP (1) | EP3498755B1 (ja) |
JP (2) | JP6545391B2 (ja) |
CN (1) | CN109563262B (ja) |
WO (1) | WO2018030412A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6545391B2 (ja) * | 2016-08-10 | 2019-07-17 | 昭和電工株式会社 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
JP6826694B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2021-02-03 | 昭和電工株式会社 | グリース組成物 |
JP6761918B1 (ja) * | 2018-12-21 | 2020-09-30 | 昭和電工株式会社 | 潤滑油組成物 |
JP7476534B2 (ja) * | 2019-12-25 | 2024-05-01 | 株式会社レゾナック | 潤滑油組成物及び機械装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6479111B2 (en) * | 2000-06-02 | 2002-11-12 | Seagate Technology Llc | Process for production of ultrathin protective overcoats |
JP2006131874A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 潤滑剤および磁気記録媒体 |
KR20090061613A (ko) * | 2009-05-14 | 2009-06-16 | 한국화학연구원 | 불소기로 치환된 메타노플러렌 화합물 및 이를 이용한 유기전자소자 |
JP5643572B2 (ja) | 2009-12-09 | 2014-12-17 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、それを含有する電荷移動材料、それを含有するn型半導体材料、およびそれを含有するn型半導体薄膜 |
JP2013140923A (ja) | 2011-12-06 | 2013-07-18 | Osaka Univ | 有機半導体薄膜、及び有機薄膜太陽電池 |
JP2013170137A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Osaka Univ | フラーレン誘導体 |
JP5600202B1 (ja) | 2013-12-05 | 2014-10-01 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP5600222B1 (ja) * | 2014-01-16 | 2014-10-01 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 |
CN105939990B (zh) | 2014-02-21 | 2019-06-14 | 昭和电工株式会社 | 富勒烯衍生物、氟树脂组合物和润滑剂 |
JP6545391B2 (ja) * | 2016-08-10 | 2019-07-17 | 昭和電工株式会社 | フラーレン誘導体および潤滑剤 |
-
2017
- 2017-08-08 JP JP2018533504A patent/JP6545391B2/ja active Active
- 2017-08-08 EP EP17839482.1A patent/EP3498755B1/en active Active
- 2017-08-08 CN CN201780047834.XA patent/CN109563262B/zh active Active
- 2017-08-08 WO PCT/JP2017/028789 patent/WO2018030412A1/ja unknown
- 2017-08-08 US US16/322,564 patent/US10738260B2/en active Active
-
2019
- 2019-06-18 JP JP2019112534A patent/JP6695480B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109563262B (zh) | 2021-03-12 |
EP3498755A4 (en) | 2020-04-01 |
US20190203140A1 (en) | 2019-07-04 |
JP6545391B2 (ja) | 2019-07-17 |
JP2019189626A (ja) | 2019-10-31 |
JPWO2018030412A1 (ja) | 2019-02-07 |
CN109563262A (zh) | 2019-04-02 |
EP3498755A1 (en) | 2019-06-19 |
EP3498755B1 (en) | 2021-05-12 |
WO2018030412A1 (ja) | 2018-02-15 |
US10738260B2 (en) | 2020-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6152502B2 (ja) | フラーレン誘導体および潤滑剤 | |
JP6695480B2 (ja) | 化合物およびフラーレン誘導体の製造方法 | |
JP6606785B2 (ja) | フラーレン誘導体、フッ素樹脂組成物および潤滑剤 | |
JP6603440B2 (ja) | 有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法 | |
US10246553B2 (en) | Organic fluorine compound and lubricant | |
JPH08509765A (ja) | ペルフルオロシクロブタン環を含む潤滑剤 | |
WO2011099131A1 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、その製造方法、該化合物を含有する潤滑剤、および磁気ディスク | |
JP2009270093A (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
WO2019240058A1 (ja) | フラーレン化合物、磁気記録媒体用潤滑剤及び磁気記録媒体 | |
JP6893443B2 (ja) | フラーレン誘導体および潤滑剤 | |
KR20090031770A (ko) | 포스파젠 화합물, 상기 화합물을 가지는 윤활제 및 자기 기록 매체, 제조 방법 및 윤활 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190618 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6695480 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |