JP6150175B2 - 過熱水蒸気処理方法及び装置 - Google Patents
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Description
前記蒸気発生器で発生した前記水蒸気を加熱する過熱熱源と、
前記過熱熱源で加熱され前記水蒸気が送り込まれて被処理物の過熱水蒸気処理を行なう処理室とを備え、
さらに、前記蒸気発生器に供給する前記水の水供給管に、前記蒸気発生器に送り込む前の前記水に溶存する酸素と置換可能な置換ガスを供給するガス供給機構を備え、
前記水供給管が、前記蒸気発生器との接続部における前記水供給管の断面積よりも大きな断面積の部分を前記水供給管を水平に設置する位置に有し、前記蒸気発生器に供給する前記水供給管の断面積が、前記蒸気発生器に向かって小さくなる部分を有する。
前記蒸気発生器で発生した前記水蒸気を加熱する過熱熱源と、
前記過熱熱源で加熱され前記水蒸気が送り込まれて被処理物の過熱水蒸気処理を行なう処理室とを備え、
さらに、前記蒸気発生器に供給する前記水の水供給管に、前記蒸気発生器に送り込む前の前記水に溶存する酸素と置換可能な置換ガスを供給するガス供給機構を備え、
前記水供給管が、前記蒸気発生器との接続部における前記水供給管の断面積よりも大きな断面積の部分を前記水供給管を水平に設置する位置に有し、
前記蒸気発生器に供給する前記水供給管が、少なくとも一箇所、水平でない部分を有するようにしてもよい。
図1は、本発明の第1実施形態における過熱水蒸気処理装置100の断面概略図である。
図2は、本発明の第2実施形態における過熱水蒸気処理装置200の蒸気発生器204と該蒸気発生器204への水の供給機構200a及びガス供給管212の位置関係を示す概略断面図である。過熱水蒸気処理装置全体の構成と、蒸気発生器204への水の供給機構200a及びガス供給機構200b以外の構成要素とは、第1実施形態の説明で参照した図1と同一のため、その図示及び説明は省略する。また、その動作方法も、蒸気発生器204への水の供給方法が間欠的か連続的かの違いだけで第1実施形態と大略同一のため、その説明は省略する。
図3は、本発明の第3実施形態における過熱水蒸気処理装置300の蒸気発生器304と該蒸気発生器304への水の供給機構300a及びガス供給管321の位置関係を示す概略断面図である。過熱水蒸気処理装置全体の構成と、蒸気発生器304への水の供給機構300a及びガス供給機構300b以外の構成要素とは、第1実施形態の説明で参照した図1と同一のため、その図示及び説明は省略する。また、その動作方法も第1実施形態と大略同一のため、その説明は省略する。
図4は、本発明の第4実施形態における過熱水蒸気処理装置400の過熱熱源及び蒸気導入管406が処理室402に接続されている部分との位置関係を示す概略断面図である。過熱水蒸気処理装置全体の構成と、蒸気導入管406以外の構成要素とは、第1実施形態の説明で参照した図1と同一のため、その図示及び説明は省略する。また、その動作方法も第1実施形態と大略同一のため、その説明は省略する。
100a、200a、300a 水供給機構
100b、200b、300b ガス供給機構
101 被加熱物
102、402 処理室
103 ステージ
104、204、304 蒸気発生器
105、405 過熱熱源
106、406 蒸気導入管
111 タンク
112、212、312 ガス供給管
112a、212a、312a ガス供給管の下端 113 酸素濃度測定器
130、221、321 水供給管
131、231、331 窒素ガス供給源
132、232、332 水
221a 第1横方向接続部
221b 概略垂直部
221c 第2横方向接続部
221d 水が通過しない空間
222、322 ガス放出バルブ
321a 小径部
321b 大径部
321c 水が通過しない空間
431 プラズマ発生源
Claims (5)
- 水が供給され、供給された水から水蒸気を発生させる蒸気発生器と、
前記蒸気発生器で発生した前記水蒸気を加熱する過熱熱源と、
前記過熱熱源で加熱され前記水蒸気が送り込まれて被処理物の過熱水蒸気処理を行なう処理室とを備え、
さらに、前記蒸気発生器に供給する前記水の水供給管に、前記蒸気発生器に送り込む前の前記水に溶存する酸素と置換可能な置換ガスを供給するガス供給機構を備え、
前記水供給管が、前記蒸気発生器との接続部における前記水供給管の断面積よりも大きな断面積の部分を前記水供給管を水平に設置する位置に有し、前記蒸気発生器に供給する前記水供給管の断面積が、前記蒸気発生器に向かって小さくなる部分を有する過熱水蒸気処理装置。 - 前記蒸気発生器に供給する前記水供給管が、少なくとも一箇所、水平でない部分を有する請求項1に記載の過熱水蒸気処理装置。
- 水が供給され、供給された水から水蒸気を発生させる蒸気発生器と、
前記蒸気発生器で発生した前記水蒸気を加熱する過熱熱源と、
前記過熱熱源で加熱され前記水蒸気が送り込まれて被処理物の過熱水蒸気処理を行なう処理室とを備え、
さらに、前記蒸気発生器に供給する前記水の水供給管に、前記蒸気発生器に送り込む前の前記水に溶存する酸素と置換可能な置換ガスを供給するガス供給機構を備え、
前記水供給管が、前記蒸気発生器との接続部における前記水供給管の断面積よりも大きな断面積の部分を前記水供給管を水平に設置する位置に有し、
前記蒸気発生器に供給する前記水供給管が、少なくとも一箇所、水平でない部分を有する過熱水蒸気処理装置。 - 前記ガス供給機構は、前記水に対して、前記置換ガスを泡状に供給するバブル形成機構を有する請求項1から3のいずれか1項に記載の過熱水蒸気処理装置。
- 前記過熱熱源よりも下流側に、前記過熱熱源で加熱されて前記処理室に供給される前記水蒸気にエネルギを付与するエネルギ発生源を設置する請求項1から4のいずれか1項に記載の過熱水蒸気処理装置。
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