JP6146064B2 - 積層構造体及び積層構造体の製造方法 - Google Patents
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前記積層構造体は、焼結助剤を有し、
前記積層構造体は、前記焼結助剤の濃度が膜厚方向において一定でなく、第1の焼結助剤濃度を有する第1の層と、前記第1の焼結助剤濃度より前記焼結助剤の濃度が低い第2の焼結助剤濃度を有する第2の層との積層構造を有し、前記第1の層及び前記第2の層がそれぞれ、チタン酸バリウムを含む積層構造体が提供される。
図1(a)に、本実施形態に係る圧電素子の構造例を説明するための概略断面図の一例を示す。また、図1(b)に、図1(a)の圧電素子の圧電膜25(積層構造体25)の拡大概略図を示す。
図1(b)を参照して、圧電膜25について、より詳細に説明する。
次に、本実施形態の積層構造体の製造方法を、具体的な実施形態を参照して説明する。また、得られた積層構造体を圧電素子に応用し、得られた圧電素子の圧電特性を評価した実施形態について説明する。より具体的には、本実施形態の積層構造体を有する圧電膜が、第1の電極20から第2の電極30へと向かう膜厚方向において、焼結助剤の濃度が高い第1の層と、前記第1の層の焼結助剤の濃度よりも、焼結助剤の濃度が低い第2の層と、の積層構造を有することにより圧電特性が向上する理由について確認した実施形態について、説明する。
S100:被処理体上に、第3の焼結助剤濃度を有する前駆体溶液を塗布した後、塗布された前記前駆体溶液の熱処理を行い、第1の非鉛系複合酸化物膜を形成する、第1成膜工程と、
S200:前記第1の非鉛系複合酸化物膜上に、前記第3の焼結助剤濃度よりも焼結助剤濃度が低い第4の焼結助剤濃度を有する前駆体溶液を塗布した後、塗布された前記前駆体溶液の熱処理を行い、第2の非鉛系複合酸化物膜を形成する、第2成膜工程と、
を有する。
例1の積層構造体:ホウ素を2mol%含有する前駆体溶液で形成した膜と、ホウ素を含有しない前駆体溶液で形成した膜との積層膜、
例2の積層構造体:ホウ素を2mol%含有する前駆体溶液のみを使用して形成した2層膜、
例3の積層構造体:ホウ素を1mol%含有する前駆体溶液のみを使用して形成した2層膜、
例4の積層構造体:ホウ素を含有しない前駆体溶液のみを使用して形成した2層膜、
とした。
次に、本実施形態の圧電素子の絶縁性を評価した実施形態について説明する。
本実施形態の積層構造体は、第1の焼結助剤濃度を有する第1の層と、前記第1の焼結助剤濃度より前記焼結助剤の濃度が低い第2の焼結助剤濃度を有する第2の層とが、順次繰り返された構造を有していても良い。
第3の実施形態の更なる変形例として、本実施形態の積層構造体は、第1の焼結助剤濃度を有する第1の層と、前記第1の焼結助剤濃度より前記焼結助剤の濃度が低い第2の焼結助剤濃度を有する第2の層と、前記第2の焼結助剤濃度より前記焼結助剤の濃度が低い第3の焼結助剤濃度を有する第3の層との積層構造が順次繰り返された構造を有していても良い。
本実施形態に係る圧電素子を液滴吐出ヘッドに応用した実施形態について、説明する。図5(a)に、本実施形態に係る液滴吐出ヘッドの構造の例を説明するための概略断面図を示す。また、図5(b)は、図5(a)の液滴吐出ヘッドを複数個配置した図である。
本実施形態に係る圧電素子を液滴吐出装置に応用した実施形態について、説明する。
本実施形態において、液体吐出記録方式の「画像形成装置」は、紙、糸、繊維、布帛、皮革、金属、プラスチック、ガラス、木材、セラミックス等の媒体に液滴を着弾させて画像形成を行う装置を意味し、「画像形成」とは、文字や図形等の意味を持つ画像を媒体に対して付与することだけでなく、パターン等の意味を持たない画像を媒体に付与すること(単に液滴を媒体に着弾させること)をも意味する。
また、吸引されたインクは、本体下部に設置された図示しない廃インク溜に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体に吸収保持される。
15 下地層
20 第1の電極
25 積層構造体(圧電膜)
25a 第1の層
25b 第2の層
30 第2の電極
40 液滴吐出ヘッド
41 ノズル
42 圧力室
44 振動板
46 圧力室板
Claims (15)
- 非鉛系複合酸化物を含む積層構造体であって、
前記積層構造体は、焼結助剤を有し、
前記積層構造体は、前記焼結助剤の濃度が膜厚方向において一定でなく、第1の焼結助剤濃度を有する第1の層と、前記第1の焼結助剤濃度より前記焼結助剤の濃度が低い第2の焼結助剤濃度を有する第2の層との積層構造を有し、前記第1の層及び前記第2の層がそれぞれ、チタン酸バリウムを含む、積層構造体。 - 前記積層構造体は、前記第2の層が前記第1の層の上に積層された積層構造を有する、
請求項1に記載の積層構造体。 - 前記積層構造体は、前記積層構造が複数回繰り返された多層積層構造を有する、
請求項1又は2に記載の積層構造体。 - 前記第2の焼結助剤濃度は、前記第1の焼結助剤濃度の50%以下の濃度である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の積層構造体。
- 前記積層構造体は、主成分としてチタン酸バリウムを含む、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の積層構造体。 - 前記焼結助剤は、ホウ素、アルミニウム、シリコン及びアルカリ金属の群から選択される1つ又は2つ以上の元素を含む、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の積層構造体。
- 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の積層構造体を有する、圧電膜。
- 膜厚が0.5〜2μmである、請求項7に記載の圧電膜。
- 下部電極と、
請求項7又は8に記載の圧電膜と、
上部電極と、
を有する
圧電素子。 - 請求項9に記載の圧電素子を有する液滴吐出ヘッド。
- 請求項10に記載の液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置。
- 被処理体上に、第3の焼結助剤濃度を有する前駆体溶液を塗布した後、塗布された前記前駆体溶液の熱処理を行い、第1の非鉛系複合酸化物膜を形成する、第1成膜工程と、
前記第1の非鉛系複合酸化物膜上に、前記第3の焼結助剤濃度よりも焼結助剤濃度が低い第4の焼結助剤濃度を有する前駆体溶液を塗布した後、塗布された前記前駆体溶液の熱処理を行い、第2の非鉛系複合酸化物膜を形成する、第2成膜工程と、
を有する、積層構造体の製造方法。 - 前記第1成膜工程と前記第2成膜工程とを周期的に又は非周期的に複数回繰り返す、
請求項12に記載の積層構造体の製造方法。 - 前記第4の焼結助剤濃度は、前記第3の焼結助剤濃度の50%以下の濃度である、請求項12又は13に記載の積層構造体の製造方法。
- 前記熱処理は、前記前駆体溶液の乾燥処理、熱分解処理及び結晶化処理の少なくとも1つの工程を含む、
請求項12乃至14のいずれか一項に記載の積層構造体の製造方法。
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