JP6141602B2 - 有機保護膜組成物およびこれから製造される有機保護膜を含む薄膜トランジスタ、並びに電子素子 - Google Patents
有機保護膜組成物およびこれから製造される有機保護膜を含む薄膜トランジスタ、並びに電子素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6141602B2 JP6141602B2 JP2012115608A JP2012115608A JP6141602B2 JP 6141602 B2 JP6141602 B2 JP 6141602B2 JP 2012115608 A JP2012115608 A JP 2012115608A JP 2012115608 A JP2012115608 A JP 2012115608A JP 6141602 B2 JP6141602 B2 JP 6141602B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- unsubstituted
- general formula
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- LHLLEPVACAJHJP-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(CCC[O](C)C)N Chemical compound CCC(C)(CCC[O](C)C)N LHLLEPVACAJHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/12—Unsaturated polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/06—Ethers; Acetals; Ketals; Ortho-esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
- C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
- H10K10/80—Constructional details
- H10K10/88—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13069—Thin film transistor [TFT]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/466—Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/468—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics
- H10K10/472—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics the gate dielectric comprising only inorganic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Description
薄膜トランジスタの半導体層として、従来、シリコン(Si)などの無機半導体物質が汎用されてきたが、最近、ディスプレイの大面積化、低価格化および柔軟化が進むに伴い、高価格・高温の真空プロセスを必要とする無機系物質を有機半導体物質で代替しようとする研究が盛んになされている。
また、有機物質の特性から、ファイバ(fiber)状またはフィルム(film)状にすることができて、可撓性表示装置(flexible display device)の核心素子として注目を集めている。
しかしながら、既存の無機半導体素子を代替して商品化するためには、長期的な信頼性を確保することが必要である。
このような現象は、長時間に亘ってバイアスストレス(bias stress)に露出されるために現れるものであり、素子の信頼性を低下させる要因となる。
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、有機薄膜トランジスタの長期的な信頼性を向上させることのできる有機保護膜組成物およびこれを含む有機薄膜トランジスタ、並びに電子素子を提供することにある。
Cy3は、置換若しくは無置換のC6〜C40のアリーレン基、置換若しくは無置換のC3〜C40のヘテロアリーレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のヘテロシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる基である。
上記の一般式10−1および一般式10−2のC6芳香族環は、非置換であるかまたはそれぞれ、C1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基または置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基で置換されている。
本明細書中の「C6〜C20の単環式芳香族基(monocyclic aromatic group)」とは、単独または融合されて共鳴構造をなすC6〜C20のアリール基またはC6〜C20のヘテロアリール基を意味する。前記単環式芳香族基は、ハロゲン(−F、−Cl、−Brまたは−I)、C1〜C20のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、C1〜C20のアルコキシ基およびC1〜C10の低級アルキルアミノ基などの置換基を有していてもよい。
リンカーは、C1〜C10のアルキレン基、C1〜C10のアルキル基またはC1〜C10のフルオロアルキル基で置換されたC1〜C10のアルキレン基、SO2、CO、Oなどを含む。
芳香族基によって互いに連結されたC2〜C20の非縮合多環式芳香族基は、ハロゲン(−F、−Cl、−Brまたは−I)、C1〜C20のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、C1〜C20のアルコキシ基およびC1〜C10の低級アルキルアミノ基などの置換基を有していてもよい。
本明細書において、別途に断りのない限り、「ヘテロ」とは、N、O、S、PおよびSiよりなる群から選ばれるヘテロ原子を1〜3個を含む官能基を意味する。
また、本明細書中の「*」とは、同じ又は異なる原子または一般式と連結される部分を意味する。
一般式1〜3の構造単位を含むオリゴマーまたはポリマーが有するポリイミドのヒドロキシ基は、架橋剤のビニルエーテル基と130℃未満の低温でアセタール化(acetalization)反応によって硬化可能であり、フレキシブル電子素子の製造時に求められる低温工程条件を満たすことができる。
一般式5−1および一般式5−2において、2つの連結基は、互いにメタ(meta)位の位置でポリマーまたはオリゴマー主鎖に連結していることが好ましい。
一般式6−1および一般式6−2において、2つの連結基は、互いにメタ(meta)位の位置でポリマーまたはオリゴマー主鎖に連結されていることが好ましい。
2つ以上のビニルエーテル基を有する架橋剤の例としては、2,2’−ビス(4−(2−(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)プロパン[BPA−DEVE;2,2’−bis(4−(2−(vinyloxy)ethoxy)phenyl)propane]、1,1,1−トリス(4−(2−(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)エタン[1,1,1−tris(4−(2−(vinyloxy)ethoxy]phenyl)ethane]、1,3,5−トリス(2−(ビニロキシ)エトキシ)ベンゼン[1,3,5−tris(2−(vinyloxy)ethoxy)benzene]、ポリ(エチレングリーコル)ジビニルエーテル[poly(ethyleneglycol)divinylether)、4,4’−ビス−ブト−3−エニロキシ−ビフェニル[4,4’−bis−but−3−enyloxy−biphenyl]、1,5−ビス−ブト−3−エニロキシ−ナフタレン[1,5−bis−but−3−enyloxy−naphthalene]およびこれらの混合物が挙げられる。
本実施形態において用いる光酸発生剤の例としては、トリアリールスルホニウムペルフルオロアルキルスルホネート、トリアリールスルホニウムトリフレート、ジアリールヨードニウムトリフレート、トリアリールスルホニウムノナフレート、ジアリールヨードニウムノナフレート、スクシンイミジルトリフレート、2,6−ジニトロベンジルスルホネートまたはこれらの混合物が挙げられる。
光酸発生剤のアルキルは、C1〜C10のアルキルであってもよく、アリールは、C6〜C18のアリールであってもよい。
光酸発生剤の量は、一般式1〜3の構造単位を含むオリゴマーまたはポリマー100重量部に対して、約1〜約15重量部で含むことが好ましい。
グリコール溶媒は、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートであることが好ましい。
一般式1のCy1は、一般式4−1または一般式4−2であることが好ましい。
一般式2は、一般式5−1または一般式5−2であることが好ましい。
有機保護膜混合物のオリゴマー又はポリマーは、一般式3で表される構造単位をさらに含むことが好ましい。
一般式3は、一般式6−1、一般式6−2および一般式8−1〜8−3のいずれか一つであることが好ましい。
前記オリゴマー又はポリマーは、一般式13で表される構造単位に比べて、一般式11で表される構造単位をさらに多量含み、一般式12で表される構造単位に比べて、一般式13で表される構造単位をさらに多量含み、一般式12で表される構造単位に比べて、一般式14で表される構造単位をさらに多量含む。
一般式11及び一般式12の構造単位のモル比は、約2:1〜約4:1であることが好ましく、約3:1であることがさらに好ましい。
図1の(A)は、ボトム−コンタクト及びボトム−ゲート構造の有機薄膜トランジスタの概略断面図であり、図1の(B)は、ボトム−コンタクト及びトップ−ゲート構造の有機薄膜トランジスタの概略断面図である。
図2の(A)は、トップ−コンタクト及びボトム−ゲート構造の有機薄膜トランジスタの概略断面図であり、図2の(B)は、トップ−コンタクト及びトップ−ゲート構造の有機薄膜トランジスタの概略断面図である。
有機薄膜トランジスタ205は、基板10の上に存在するゲート電極20と、ゲート絶縁膜30と、ソース電極40”とドレイン電極50”との間に存在する有機半導体層60”と、を含む。
前記有機半導体層60、60’、60’’、60’’’は、通常汎用される物質を使用することができ、具体的には、ペンタセン、銅フタロシアニン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレンまたはこれらの誘導体を使用することができるが、これらに限定されない。
トップ−ゲート構造を有する有機薄膜トランジスタ110、210において、本発明の一実施形態による有機保護膜組成物は、ゲート絶縁膜30’、30’’に代えて有機保護膜70として使用することができる。
このようにトップ−ゲート構造を有する有機薄膜トランジスタ110、210において、有機保護膜組成物は、ゲート絶縁膜30’、30’’および有機保護膜70の役割を兼ねることができる。
有機薄膜トランジスタは、プラスチック基盤のスマートカード、インベントリタグ(inventory tag)用のプラスチックチップ、太陽電池、メモリ素子、有機発光素子(OLED)、光センサー、レーザー素子などに種々に応用できる。
図3の(A)および(B)は、本発明の一実施形態による太陽電池の概略断面図であり、図4は、本発明の一実施形態による太陽電池モジュールの概略断面図である。なお、上述した同じ部材の説明は省略する。
有機保護膜70’は、基板10とカバー15との間に存在する有機光活性層80と一対の電極92、94とを取り囲む。
光活性層80は、電子受容体82及び電子供与体84を含むバイレイヤー(bi−layer)構造を含んでいてもよい。図3の(A)には、電子受容体82の上に存在する電子供与体84が示してあるが、電子供与体84及び電子受容体82の位置は互いに逆になってもよい。すなわち、電子供与体84の上に電子受容体82が位置していてもよい。
図3の(B)に示すように、有機光活性層81は、電子受容体83と混在している電子供与体82を含むバルクヘテロ接合(bulk heterojunction)構造を有する。
一対の電極92、94の間に存在する複数の有機光活性層80、81は、有機保護膜70’’によって取り囲まれ、所望の電力を得るために、直列、並列及び/又は直列−並列で導線(図示せず)を介して電気的に接続されている。
また、電極92、94のいずれか一方は、金属、例えば、金(Au)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、インジウム・スズ酸化物(ITO)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)であってもよいが、これらに限定されるものではない。
前記光活性層70’、70’’は、本発明の一実施形態による有機保護膜組成物から得られる。
10.0gの4,4’−オキシジフタリックアンヒドリドと11.80gの2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを重合して、一般式11のポリヒドロキシイミド(Mn=1,097)を製造した。次に、一般式11の構造単位を含むポリヒドロキシイミド1gをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶媒に添加して、15重量%の固形分濃度を有するポリヒドロキシイミド溶液を製造した。次いで、架橋剤としての2,2’ビス(4−(2−(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)プロパン0.547gを入れて混合し、0.45μmのろ過剤を用いてろ過することにより、有機保護膜組成物を製造した。
製造した有機保護膜組成物を用いて、実施例1の方法と同様にして有機薄膜トランジスタを製作した。
8.0gの4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタリックアンヒドリド、2.86gのオキシジフタリックアンヒドリド、9.44gの2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、及び1.29gの4,4’−オキシジアニリンを重合して、一般式11〜14のポリヒドロキシイミド(Mn=2,181)を製造した。一般式11〜14の構造単位を含むポリヒドロキシイミド1gをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶媒に添加して、15重量%の固形分濃度を有するポリヒドロキシイミド溶液を製造した。次いで、架橋剤として2,2’ビス(4−(2−(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)プロパンを0.511g入れて混合し、0.45μmのろ過剤を用いてろ過することにより、有機保護膜組成物を製造した。
有機保護膜を形成しない以外は、実施例1の方法と同様にして有機薄膜トランジスタを製作した。
実施例1〜3および比較例1で製造した有機薄膜トランジスタの電気的特性を、KEITHLEY社製のSemiconductor Characterization System(4200−SCS)を用いて評価した。
実施例2の有機薄膜トランジスタを線状領域(VDS=−10V)で駆動させた結果を図7に示し、飽和領域(VDS=−40V)で駆動させた結果を図8に示す。
実施例3の有機薄膜トランジスタを線状領域(VDS=−10V)で駆動させた結果を図9に示し、飽和領域(VDS=−40V)で駆動させた結果を図10に示す。
比較例1の有機薄膜トランジスタを線状領域(VDS=−10V)で駆動させた結果を図11に示し、飽和領域(VDS=−40V)で駆動させた結果を図12に示す。
図5〜図16および表1に示すように、実施例1〜実施例3の有機薄膜トランジスタは、しきい値電圧変化(△VTH)が3.5V以下であり、しきい値電圧の差分の経時変化がほとんどないのに対し、比較例1の有機薄膜トランジスタは、しきい値電圧(△VTH)の経時変化が著しいことが分かる。
図17と図18に示すように、実施例1による有機薄膜トランジスタの電荷移動度が、比較例1による有機薄膜トランジスタに比べて大幅に低下しないことが分かり、このことにより、有機保護膜が有機薄膜トランジスタの電荷移動度に影響を及ばさないことが分かる。
15 : カバー
20、20’ :絶縁膜、
30、30’、30’’ :ゲート電極、
40、40’、40’’、40’’’ :ソース電極、
50、50’、50’’、50’’’ :ドレイン電極、
60、60’、60’’、60’’’ :半導体層、
70、70’、70’’ :有機保護膜、
80、81 :有機光活性層
82、83 :電子受容体
84、85 :電子供与体
92、94 :電極
100、101 :太陽電池
103 :太陽電池モジュール
105、110、205、210 :有機薄膜トランジスタ
Claims (19)
- 第1の構造単位及び第2の構造単位を含むオリゴマー又はポリマーと、
架橋剤と、
を含み、
前記第1の構造単位は、下記の一般式1及び一般式2で表される構造単位を含み、
前記第2の構造単位は、下記の一般式3で表される少なくとも1つの構造単位を含み、
前記一般式2及び一般式3で表される構造単位が、50:50〜90:10のモル比で含まれ、
前記一般式3は、下記の一般式8−1乃至一般式8−3よりなる群から選ばれるいずれか一つであることを特徴とする有機保護膜組成物。
Cy1は、置換若しくは無置換のC4〜C20の炭素環基、置換若しくは無置換のC6〜C20の単環式芳香族基(monocyclic aromatic group)、置換若しくは無置換のC2〜C20の縮合多環式芳香族基(condensed polycyclic aromatic group)及びC2〜C20の非縮合多環式芳香族基(non−condensed polycyclic aromatic group)よりなる群から選ばれる基である。
Cy2は、置換若しくは無置換のC6〜C40のアリーレン基、置換若しくは無置換のC3〜C40のヘテロアリーレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のヘテロシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる基であり、
kは、2以上の整数である。
Cy3は、置換若しくは無置換のC6〜C40のアリーレン基、置換若しくは無置換のC3〜C40のヘテロアリーレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のヘテロシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる基である。
R 40 及びR 41 は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC1〜C15のフルオロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基であり、但し、ヒドロキシ基を含んでおらず、
c及びdは、それぞれ独立して、0〜4の範囲にあり、c+dは、2以上である。 - 前記一般式1のCy1は、下記の一般式4−1又は一般式4−2であることを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
R1〜R3は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、ハロゲン、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC1〜C15のフルオロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基であり、
L1は、単一結合、(CRaRb)p、(SiRcRd)q(ここで、Ra〜Rdは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、C1〜C10のアルキル基、C1〜C10のフルオロアルキル基、C6〜C20のアリール基よりなる群から選ばれる基であり、p及びqは、それぞれ独立して、1〜5の整数である)、SO2、O、COよりなる群から選ばれる結合若しくは基、又はこれらの組み合わせから選ばれ、
n、m1、及びm2は、それぞれ独立して、0〜2の整数である。 - 前記一般式2は、下記の一般式5−1又は一般式5−2であることを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
R4〜R6は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC1〜C15のフルオロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基であり、
L2は、単一結合、(CRaRb)p、(SiRcRd)q(ここで、Ra〜Rdは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、C1〜C10のアルキル基、C1〜C10のフルオロアルキル基、C6〜C20のアリール基よりなる群から選ばれる基であり、p及びqは、それぞれ独立して、1〜5の整数である)、SO2、O、COよりなる群から選ばれる結合若しくは基、又はこれらの組み合わせから選ばれ、
n2は、0〜2の整数であり、
m3及びm4は、それぞれ独立して、0〜4の整数であり、
k及びk1+k2は、それぞれ独立して、2以上の整数であり、k1及びk2は、0〜4の整数である。 - 前記一般式2は、下記の一般式7−1乃至一般式7−7よりなる群から選ばれるいずれか一つであることを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
R30及びR31は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、ハロゲン、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC1〜C15のフルオロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基であり、但し、R30及びR31のうちの少なくとも2つはヒドロキシ基であり、
a及びbは、それぞれ独立して、0〜4の範囲にあり、a+bは、2以上である。 - 前記一般式1の構造単位は、下記の一般式9及び一般式10の構造単位を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
Cy4は、置換若しくは無置換のC4〜C20の炭素環基、置換若しくは無置換のC6〜C20の単環式芳香族基(monocyclic aromatic group)、置換若しくは無置換のC2〜C20の縮合多環式芳香族基(condensed polycyclic aromatic group)及びC2〜C20の非縮合多環式芳香族基(non−condensed polycyclic aromatic group)よりなる群から選ばれる少なくとも一つであって、フルオロ基又はC1〜C15のフルオロアルキル基で置換されていない環基である。
Cy5は、置換若しくは無置換のC4〜C20の炭素環基、置換若しくは無置換のC6〜C20の単環式芳香族基(monocyclic aromatic group)、置換若しくは無置換のC2〜C20の縮合多環式芳香族基(condensed polycyclic aromatic group)及びC2〜C20の非縮合多環式芳香族基(non−condensed polycyclic aromatic group)よりなる群から選ばれ、
Xは、フルオロ基又はC1〜C15のフルオロアルキル基であり、
yは、Cy5の結合価数によって決定され、1〜4の整数である。 - 前記一般式9のCy4は、下記の一般式9−1又は一般式9−2であり、一般式10のCy5は、下記の一般式10−1又は一般式10−2であることを特徴とする請求項5に記載の有機保護膜組成物。
Y1〜Y3は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基であり、
L9は、単一結合、(CRaRb)p、(SiRcRd)q(ここで、Ra〜Rdは、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、C1〜C10のアルキル基、C6〜C20のアリール基よりなる群から選ばれる基であり、p及びqは、それぞれ独立して、1〜5の整数である)、SO2、O、COよりなる群から選ばれる結合若しくは基、又はこれらの組み合わせから選ばれ、
r、s1及びs2は、それぞれ独立して、0〜2の整数である。
X1〜X3は、それぞれ独立して、フルオロ基又はC1〜C15のフルオロアルキル基であり、
L10は、単一結合、(CRaRb)p、(SiRcRd)q(ここで、Ra〜Rdは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、C1〜C10のアルキル基、C1〜C10のフルオロアルキル基、C6〜C20のアリール基よりなる群から選ばれる基であり、p及びqは、それぞれ独立して、1〜5の整数である)、SO2、O、COよりなる群から選ばれる結合若しくは基、又はこれらの組み合わせから選ばれ、
r、s1及びs2は、それぞれ独立して、1〜2の整数であり、
上記の一般式10−1及び一般式10−2のC6芳香族環は、非置換であるか、又はそれぞれ、C1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基で置換されている。 - 前記一般式10の構造単位は、一般式9及び一般式10の構造単位の合計100モル%を基準として50モル%以下で含むことを特徴とする請求項5に記載の有機保護膜組成物。
- 前記架橋剤は、2以上のビニルエーテル基を有する化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
- 前記架橋剤は、2,2’−ビス(4−(2−(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)プロパン[BPA−DEVE;2,2’−bis(4−(2−(vinyloxy)ethoxy)phenyl)propane]、1,1,1−トリス(4−(2−(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)エタン[1,1,1−tris(4−(2−(vinyloxy)ethoxy]phenyl)ethane]、1,3,5−トリス(2−(ビニロキシ)エトキシ)ベンゼン[1,3,5−tris(2−(vinyloxy)ethoxy)benzene]、ポリ(エチレングリーコル)ジビニルエーテル[poly(ethyleneglycol)divinylether)、4,4’−ビス−ブト−3−エニロキシ−ビフェニル[4,4’−bis−but−3−enyloxy−biphenyl]、1,5−ビス−ブト−3−エニロキシ−ナフタレン[1,5−bis−but−3−enyloxy−naphthalene]よりなる群から選ばれるか又はこれらの混合物から選ばれることを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
- 前記有機保護膜組成物は、光酸発生剤をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機保護膜組成物。
- 前記光酸発生剤は、トリアリールスルホニウムペルフルオロアルキルスルホネート、トリアリールスルホニウムトリフレート、ジアリールヨードニウムトリフレート、トリアリールスルホニウムノナフレート、ジアリールヨードニウムノナフレート、スクシンイミジルトリフレート、2,6−ジニトロベンジルスルホネート又はこれらの組み合わせであることを特徴とする請求項10に記載の有機保護膜組成物。
- 請求項1乃至11のいずれか1項に記載の有機保護膜組成物から形成された薄膜であることを特徴とする有機保護膜。
- 基板と、
前記基板の上に存在するゲート電極と、
前記基板の上に存在する有機半導体層と、
前記ゲート電極と有機半導体層との間に存在するゲート絶縁膜と、
前記有機半導体層に接続されたソース電極及びドレイン電極と、
前記有機半導体層を覆う有機保護膜と、
を備え、
前記有機保護膜は、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の有機保護膜組成物から形成された薄膜であることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 請求項13に記載の薄膜トランジスタを含むことを特徴とする電子素子。
- 前記ゲート絶縁膜は、前記有機保護膜と同じ物質からなることを特徴とする請求項13に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記有機保護膜は、前記薄膜トランジスタのしきい値電圧及び電荷移動度の経時変化を抑える双極子(dipole)相互作用を有することを特徴とする請求項13に記載の薄膜トランジスタ。
- 一対の電極の間に存在する有機光活性層と、前記有機光活性層及び前記一対の電極を覆う有機保護膜と、を備え、
前記有機保護膜は、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の有機保護膜組成物から形成された薄膜であることを特徴とする太陽電池。 - 複数の光活性層(それぞれの光活性層は、一対の電極の間に存在する)及びこれを覆う有機保護膜を備え、
前記有機保護膜は、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の有機保護膜組成物から形成された薄膜であることを特徴とする太陽電池モジュール。 - 第1の構造単位及び第2の構造単位を含むオリゴマー又はポリマー、及び2以上のビニルエーテル基を有する架橋剤を含む有機保護膜組成物と、グリコール溶媒と、を含み、
前記第1の構造単位は、下記の一般式1及び一般式2で表される構造単位を含み、
前記第2の構造単位は、下記の一般式3で表される少なくとも1つの構造単位を含み、
前記一般式2及び一般式3で表される構造単位が、50:50〜90:10のモル比で含まれ、
前記一般式3は、下記の一般式8−1乃至一般式8−3よりなる群から選ばれるいずれか一つであることを特徴とする有機保護膜混合物。
Cy1は、置換若しくは無置換のC4〜C20の炭素環基、置換若しくは無置換のC6〜C20の単環式芳香族基(monocyclic aromatic group)、置換若しくは無置換のC2〜C20の縮合多環式芳香族基(condensed polycyclic aromatic group)及びC2〜C20の非縮合多環式芳香族基(non−condensed polycyclic aromatic group)よりなる群から選ばれる基である。
Cy2は、置換若しくは無置換のC6〜C40のアリーレン基、置換若しくは無置換のC3〜C40のヘテロアリーレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のヘテロシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる基であり、
kは、2以上の整数である。
Cy3は、置換若しくは無置換のC6〜C40のアリーレン基、置換若しくは無置換のC3〜C40のヘテロアリーレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のC5〜C40のヘテロシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる基である。
R 40 及びR 41 は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルキル基、置換若しくは無置換のC1〜C15のアルコキシ基、置換若しくは無置換のC1〜C15のフルオロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のヘテロシクロアルキル基、置換若しくは無置換のC3〜C15のシクロアルキロキシ基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリール基、置換若しくは無置換のC6〜C15のアリーロキシ基、置換若しくは無置換のC2〜C15のヘテロアリール基よりなる群から選ばれる基であり、但し、ヒドロキシ基を含んでおらず、
c及びdは、それぞれ独立して、0〜4の範囲にあり、c+dは、2以上である。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2011-0047434 | 2011-05-19 | ||
KR20110047434 | 2011-05-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012244181A JP2012244181A (ja) | 2012-12-10 |
JP6141602B2 true JP6141602B2 (ja) | 2017-06-07 |
Family
ID=46087589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012115608A Active JP6141602B2 (ja) | 2011-05-19 | 2012-05-21 | 有機保護膜組成物およびこれから製造される有機保護膜を含む薄膜トランジスタ、並びに電子素子 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9023980B2 (ja) |
EP (1) | EP2524947B1 (ja) |
JP (1) | JP6141602B2 (ja) |
KR (1) | KR101985429B1 (ja) |
CN (1) | CN102786825B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103779427B (zh) * | 2014-02-26 | 2016-06-29 | 华南理工大学 | 一种氧化物薄膜晶体管及其制备方法 |
CN111416039A (zh) | 2019-01-07 | 2020-07-14 | 纽多维有限公司 | 制剂和层 |
CN110379924A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-10-25 | 北京大学深圳研究生院 | 一种钙钛矿红外光电晶体管及其制备方法 |
US20220045274A1 (en) * | 2020-08-06 | 2022-02-10 | Facebook Technologies Llc | Ofets having organic semiconductor layer with high carrier mobility and in situ isolation |
KR102495606B1 (ko) | 2021-03-19 | 2023-02-06 | 연세대학교 원주산학협력단 | 가교반응이 가능한 폴리(이미드-실록산)을 이용한 트랜지스터 보호막 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1984002529A1 (en) * | 1982-12-20 | 1984-07-05 | Hughes Aircraft Co | Polyimide composition and method for protecting photoreactive cells |
US5177180A (en) * | 1990-08-07 | 1993-01-05 | General Electric Company | High temperature mixed polyimides and composites formed therefrom |
JP2001267607A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-09-28 | Citizen Watch Co Ltd | 太陽電池およびその製造方法 |
JP2003155325A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-05-27 | Toto Kagaku Kogyo Kk | 耐熱性樹脂組成物 |
JP2007091828A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Kaneka Corp | ポリイミド樹脂、及びポリイミド樹脂膜 |
KR101174769B1 (ko) * | 2006-06-30 | 2012-08-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터의 제조방법 및 이를 이용한 tft 어레이기판의 제조방법 |
KR100816095B1 (ko) | 2006-07-26 | 2008-03-24 | 엠텍비젼 주식회사 | 광 입력장치 및 이를 구비한 휴대 단말기 |
JP2008083359A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物及び硬化膜 |
KR100833706B1 (ko) | 2007-02-01 | 2008-05-29 | 삼성전자주식회사 | 감광성 폴리이미드 조성물, 폴리이미드 필름 및 이를 이용한 반도체 소자 |
JP2008231255A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Jsr Corp | 樹脂組成物及びそれを含有する感光性樹脂組成物 |
KR101364275B1 (ko) * | 2007-05-19 | 2014-02-18 | 삼성전자주식회사 | 히드록시기 포함 폴리머를 포함하는 유기 절연체 조성물 및이를 이용한 절연막 및 유기박막 트랜지스터 |
US20100304291A1 (en) | 2007-12-14 | 2010-12-02 | Kazuya Ebara | Production method of polyhydroxyimide and positive photosensitive resin composition containing polyhydroxyimide obtained by the production method |
JP5470788B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | 有機半導体装置、有機半導体装置の製造方法、電子デバイスおよび電子機器 |
CN100583489C (zh) * | 2008-12-11 | 2010-01-20 | 彩虹集团公司 | 一种聚合物太阳能电池的制备方法 |
KR100986159B1 (ko) * | 2008-12-22 | 2010-10-07 | 한국기계연구원 | 에너지 전환 효율이 향상된 유기 태양전지 및 이의 제조방법 |
JP5206977B2 (ja) * | 2009-03-12 | 2013-06-12 | 信越化学工業株式会社 | 新規ポリイミドシリコーン及びこれを含有する感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 |
JP5515394B2 (ja) * | 2009-04-30 | 2014-06-11 | 株式会社ピーアイ技術研究所 | 感光性変性ポリイミド樹脂組成物及びその用途 |
JP5562585B2 (ja) * | 2009-07-06 | 2014-07-30 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
-
2012
- 2012-05-18 CN CN201210157507.9A patent/CN102786825B/zh active Active
- 2012-05-18 EP EP12168556.4A patent/EP2524947B1/en active Active
- 2012-05-18 KR KR1020120053111A patent/KR101985429B1/ko active IP Right Grant
- 2012-05-18 US US13/475,227 patent/US9023980B2/en active Active
- 2012-05-21 JP JP2012115608A patent/JP6141602B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101985429B1 (ko) | 2019-06-03 |
KR20120129830A (ko) | 2012-11-28 |
EP2524947B1 (en) | 2017-07-12 |
JP2012244181A (ja) | 2012-12-10 |
EP2524947A1 (en) | 2012-11-21 |
US20120291857A1 (en) | 2012-11-22 |
CN102786825B (zh) | 2016-06-01 |
US9023980B2 (en) | 2015-05-05 |
CN102786825A (zh) | 2012-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9537102B2 (en) | Fused polycyclic heteroaromatic compound, organic thin film including compound and electronic device including organic thin film | |
Jung et al. | Low-temperature-processible, transparent, and air-operable n-channel fluorinated phenylethylated naphthalenetetracarboxylic diimide semiconductors applied to flexible transistors | |
JP6141602B2 (ja) | 有機保護膜組成物およびこれから製造される有機保護膜を含む薄膜トランジスタ、並びに電子素子 | |
KR101364275B1 (ko) | 히드록시기 포함 폴리머를 포함하는 유기 절연체 조성물 및이를 이용한 절연막 및 유기박막 트랜지스터 | |
US8658805B2 (en) | Fused polyheteroaromatic compound, organic thin film including the compound, and electronic device including the organic thin film | |
US9853226B2 (en) | Fused polycyclic heteroaromatic compound, organic thin film including compound and electronic device including organic thin film | |
US7731796B2 (en) | Nitrogen semiconductor compound and device fabricated using the same | |
US8466239B2 (en) | Polymer containing thiophene unit and thienylenevinylene unit, and organic field effect transistor and organic solar cell containing the polymer | |
JP2010518641A (ja) | チアゾロチアゾール誘導体を用いた有機トランジスタおよびその製造方法 | |
EP3135739B1 (en) | Composition, electronic device, and thin film transistor | |
JP2016128559A (ja) | 組成物並びにその硬化物を含む電子装置及び薄膜トランジスター | |
US20150133679A1 (en) | Asymmetric fused polyheteroaromatic compound, organic thin film including the asymmetric fused polyheteroaromatic compound, and electronic device including the organic thin film | |
EP2474551B1 (en) | Organic semiconductor compound, and transistor and electronic device including the same | |
Yamamoto et al. | Quinoidal Oligothiophenes Having Full Benzene Annelation: Synthesis, Properties, Structures, and Acceptor Application in Organic Photovoltaics | |
EP3159334B1 (en) | Intermediates of heteroacene compounds and synthetic method for the preparation of heteroacene compounds using the intermediates | |
JP2012184227A (ja) | アクセプター性の基を有する化合物、これを用いた有機薄膜及び有機薄膜素子 | |
JP6754126B2 (ja) | 有機半導体素子、有機半導体組成物、有機半導体膜の製造方法、有機半導体膜、並びに、これらに用いる化合物及びポリマー | |
JP6752466B2 (ja) | 有機半導体素子、有機半導体組成物、有機半導体膜の製造方法、有機半導体膜、並びに、これらに用いる化合物及びポリマー | |
US9790236B2 (en) | Organic semiconductor compound, and transistor and electronic device including the same | |
JP2015157910A (ja) | 高分子化合物およびそれを用いた有機半導体素子 | |
KR102232857B1 (ko) | 유기 화합물, 유기 박막 및 전자 소자 | |
KR20170140557A (ko) | 축합다환 헤테로방향족 화합물, 이를 포함하는 유기 박막 및 상기 유기 박막을 포함하는 전자 소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150520 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160704 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170418 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6141602 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |