JP6125884B2 - 基板処理装置及び処理基板の製造方法 - Google Patents
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Description
11A 第1ローラ
11B 第2ローラ
11s 傾斜部
20 押付側保持具
23A 第3ローラ
26 押付装置
31 ガイドピン
33 保持位置センサ
34 洗浄位置センサ
61 解除制御部
62 接近制御部
63 記憶部
64 接触制御部
70 ロボットハンド
100 基板処理装置
120 洗浄機
W 基板
Claims (7)
- 基板を保持して回転させる基板回転装置と;
前記基板回転装置によって所定の回転速度で回転している前記基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置と;
前記洗浄装置を、前記基板に接触した洗浄位置と、前記基板から離れた離間位置と、の間で移動させる移動装置と;
前記基板回転装置に保持されている前記基板が前記所定の回転速度に到達する前に前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始させると共に、前記基板が前記所定の回転速度に到達した以後に前記洗浄装置が前記洗浄位置に到達するように、前記移動装置を制御する制御部とを備え;
前記移動装置によって前記洗浄装置が前記離間位置から前記洗浄位置まで移動するのに要する時間を移動時間とし、前記基板回転装置による前記基板の回転の開始から前記所定の回転速度に到達するまでに要する時間を到達時間としたときに、
前記制御部は、前記移動時間が前記到達時間以上のときには、前記基板回転装置による前記基板の回転の開始と同時に、又は前記移動時間と前記到達時間との差より短い時間だけ前記基板回転装置による前記基板の回転の開始よりも早く、前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始するように、前記移動装置及び前記基板回転装置を制御する;
基板処理装置。 - 基板を保持して回転させる基板回転装置と;
前記基板回転装置によって所定の回転速度で回転している前記基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置と;
前記洗浄装置を、前記基板に接触した洗浄位置と、前記基板から離れた離間位置と、の間で移動させる移動装置と;
前記基板回転装置に保持されている前記基板が前記所定の回転速度に到達する前に前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始させると共に、前記基板が前記所定の回転速度に到達した以後に前記洗浄装置が前記洗浄位置に到達するように、前記移動装置を制御する制御部とを備え;
前記移動装置によって前記洗浄装置が前記離間位置から前記洗浄位置まで移動するのに要する時間を移動時間とし、前記基板回転装置による前記基板の回転の開始から前記所定の回転速度に到達するまでに要する時間を到達時間としたときに、
前記制御部は、前記移動時間が前記到達時間未満のときには、前記基板回転装置による前記基板の回転の開始よりも前記到達時間と前記移動時間との差だけ遅く、前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始するように、前記移動装置及び前記基板回転装置を制御する;
基板処理装置。 - 前記洗浄装置が前記洗浄位置にあるか否かを検知するセンサを備え;
前記制御部は、前記所定の回転速度で回転しながら前記洗浄装置で洗浄されている前記基板の回転速度を低下させる際に、前記センサによって前記洗浄装置が前記洗浄位置にないことを検知した後に前記基板の回転速度の低下を開始するように、前記移動装置及び前記基板回転装置を制御する;
請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。 - 基板を保持して回転させる基板回転装置と;
前記基板回転装置によって所定の回転速度で回転している前記基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置と;
前記洗浄装置を、前記基板に接触した洗浄位置と、前記基板から離れた離間位置と、の間で移動させる移動装置と;
前記基板回転装置に保持されている前記基板が前記所定の回転速度に到達する前に前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始させると共に、前記基板が前記所定の回転速度に到達した以後に前記洗浄装置が前記洗浄位置に到達するように、前記移動装置を制御する制御部とを備え;
前記洗浄装置が前記洗浄位置にあるか否かを検知するセンサを備え;
前記制御部は、前記所定の回転速度で回転しながら前記洗浄装置で洗浄されている前記基板の回転速度を低下させる際に、前記センサによって前記洗浄装置が前記洗浄位置にないことを検知した後に前記基板の回転速度の低下を開始するように、前記移動装置及び前記基板回転装置を制御する;
基板処理装置。 - 基板の回転速度を所定の回転速度まで上昇させる回転速度上昇工程と;
前記所定の回転速度で回転している前記基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置を、前記基板から離れた離間位置から前記基板に接触した洗浄位置に移動させる洗浄装置接近工程と;
前記基板を洗浄する基板処理工程とを備え;
前記基板が前記所定の回転速度に到達した以後に前記洗浄装置を前記洗浄位置に到達させる制限下で、前記回転速度上昇工程と前記洗浄装置接近工程とを並行して行わせ;
前記洗浄装置が前記離間位置から前記洗浄位置まで移動するのに要する時間を移動時間とし、前記基板の回転の開始から前記所定の回転速度に到達するまでに要する時間を到達時間としたときに、
前記移動時間が前記到達時間以上のときには、前記基板の回転の開始と同時に、又は前記移動時間と前記到達時間との差より短い時間だけ前記基板の回転の開始よりも早く、前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始する;
処理基板の製造方法。 - 基板の回転速度を所定の回転速度まで上昇させる回転速度上昇工程と;
前記所定の回転速度で回転している前記基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置を、前記基板から離れた離間位置から前記基板に接触した洗浄位置に移動させる洗浄装置接近工程と;
前記基板を洗浄する基板処理工程とを備え;
前記基板が前記所定の回転速度に到達した以後に前記洗浄装置を前記洗浄位置に到達させる制限下で、前記回転速度上昇工程と前記洗浄装置接近工程とを並行して行わせ;
前記洗浄装置が前記離間位置から前記洗浄位置まで移動するのに要する時間を移動時間とし、前記基板の回転の開始から前記所定の回転速度に到達するまでに要する時間を到達時間としたときに、
前記移動時間が前記到達時間未満のときには、前記基板の回転の開始よりも前記到達時間と前記移動時間との差だけ遅く、前記離間位置にある前記洗浄装置の前記洗浄位置に向けた移動を開始する;
処理基板の製造方法。 - 基板の回転速度を所定の回転速度まで上昇させる回転速度上昇工程と;
前記所定の回転速度で回転している前記基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置を、前記基板から離れた離間位置から前記基板に接触した洗浄位置に移動させる洗浄装置接近工程と;
前記基板を洗浄する基板処理工程とを備え;
前記基板が前記所定の回転速度に到達した以後に前記洗浄装置を前記洗浄位置に到達させる制限下で、前記回転速度上昇工程と前記洗浄装置接近工程とを並行して行わせ;
前記洗浄装置が前記洗浄位置にあるか否かを検知する離れ検知工程をさらに備え;
前記所定の回転速度で回転しながら前記洗浄装置で洗浄されている前記基板の回転速度を低下させる際に、前記離れ検知工程において前記洗浄装置が前記洗浄位置にないことを検知した後に前記基板の回転速度の低下を開始する;
処理基板の製造方法。
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