JP6122684B2 - 基板処理装置及び処理基板の製造方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 377
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 83
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 277
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 87
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 42
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 17
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Description
11A 第1ローラ
11B 第2ローラ
11s 傾斜部
20 押付側保持具
23A 第3ローラ
26 押付装置
31 ガイドピン
33 保持位置センサ
34 洗浄位置センサ
61 解除制御部
62 接近制御部
63 記憶部
64 接触制御部
70 ロボットハンド
100 基板処理装置
120 洗浄機
W 基板
Claims (5)
- 基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置と;
前記洗浄装置を、前記基板の洗浄を行う洗浄位置と、前記基板の洗浄を行っていないときに待機する前記洗浄位置から離れた待機位置と、の間で移動させる移動装置と;
前記待機位置にて前記洗浄装置を事前洗浄する事前洗浄装置と;
前記基板を、前記基板の洗浄が行われる処理位置に、前記処理位置の外側から搬送する搬送装置と;
前記基板を前記処理位置に向けて搬送しながら、前記洗浄装置を前記洗浄位置に向けて移動させるように、前記移動装置及び前記搬送装置を制御する制御部とを備え;
前記洗浄位置と前記待機位置とは、水平方向及び鉛直方向共に重ならないように設定され;
前記処理位置で、前記基板が前記搬送装置から離れて載置される載置台を備え;
前記制御部は、前記載置台への前記基板の載置が完了したときに、前記洗浄装置の水平方向の移動が完了して前記洗浄装置が前記洗浄位置に対して鉛直方向に離れた離間位置にあるように、前記移動装置及び前記搬送装置を制御する;
基板処理装置。 - 基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置と;
前記洗浄装置を、前記基板の洗浄を行う洗浄位置と、前記基板の洗浄を行っていないときに待機する前記洗浄位置から離れた待機位置と、の間で移動させる移動装置と;
前記待機位置にて前記洗浄装置を事前洗浄する事前洗浄装置と;
前記基板を、前記基板の洗浄が行われる処理位置に、前記処理位置の外側から搬送する搬送装置と;
前記基板を前記処理位置に向けて搬送しながら、前記洗浄装置を前記洗浄位置に向けて移動させるように、前記移動装置及び前記搬送装置を制御する制御部と;
前記基板の洗浄を行うのに差し支えない程度まで前記洗浄装置を前記事前洗浄装置で事前洗浄するのに要する事前洗浄時間があらかじめ記憶された記憶部とを備え;
前記制御部は、前記洗浄装置の事前洗浄が開始されてから前記事前洗浄時間が経過していないときは前記処理位置の外側から前記処理位置への基板の搬送を行わずに、前記事前洗浄時間が経過したときに前記処理位置の外側から前記処理位置への基板の搬送を開始するように前記移動装置及び前記搬送装置を制御する;
基板処理装置。 - 前記基板の洗浄を行うのに差し支えない程度まで前記洗浄装置を前記事前洗浄装置で事前洗浄するのに要する事前洗浄時間があらかじめ記憶された記憶部を備え;
前記制御部は、前記洗浄装置の事前洗浄が開始されてから前記事前洗浄時間が経過していないときは前記処理位置の外側から前記処理位置への基板の搬送を行わずに、前記事前洗浄時間が経過したときに前記処理位置の外側から前記処理位置への基板の搬送を開始するように前記移動装置及び前記搬送装置を制御する;
請求項1に記載の基板処理装置。 - 基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置を、前記基板の洗浄を行う洗浄位置から離れた待機位置で、事前洗浄する事前洗浄工程と;
前記洗浄装置を、前記待機位置から前記洗浄位置に向けて移動させる洗浄装置移動工程と;
前記基板を、前記基板の洗浄が行われる処理位置に向けて、前記処理位置の外側から搬送する基板搬送工程と;
前記基板を洗浄する基板処理工程とを備え;
前記洗浄装置移動工程と前記基板搬送工程とが並行して行われるように構成され;
前記洗浄位置と前記待機位置とは、水平方向及び鉛直方向共に重ならないように設定され;
前記洗浄装置移動工程は、前記処理位置への前記基板の搬送が完了したときに、前記洗浄装置の水平方向の移動が完了して前記洗浄装置が前記洗浄位置に対して鉛直方向に離れた離間位置にあるように構成された;
処理基板の製造方法。 - 基板に接触させて前記基板を洗浄する洗浄装置を、前記基板の洗浄を行う洗浄位置から離れた待機位置で、事前洗浄する事前洗浄工程と;
前記洗浄装置を、前記待機位置から前記洗浄位置に向けて移動させる洗浄装置移動工程と;
前記基板を、前記基板の洗浄が行われる処理位置に向けて、前記処理位置の外側から搬送する基板搬送工程と;
前記基板を洗浄する基板処理工程とを備え;
前記洗浄装置移動工程と前記基板搬送工程とが並行して行われるように構成され;
前記基板の洗浄を行うのに差し支えない程度まで前記洗浄装置を事前洗浄するのに要する時間を事前洗浄時間としたときに、
前記洗浄装置の事前洗浄が開始されてから前記事前洗浄時間が経過していないときは前記基板搬送工程を行わずに、前記事前洗浄時間が経過したときに前記基板搬送工程を開始する;
処理基板の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013090694A JP6122684B2 (ja) | 2013-04-23 | 2013-04-23 | 基板処理装置及び処理基板の製造方法 |
TW103111912A TWI636518B (zh) | 2013-04-23 | 2014-03-31 | 基板處理裝置及處理基板之製造方法 |
CN201410160612.7A CN104124190B (zh) | 2013-04-23 | 2014-04-21 | 基板处理装置 |
CN201711449690.9A CN108183081B (zh) | 2013-04-23 | 2014-04-21 | 基板处理装置以及处理基板的制造方法 |
US14/259,075 US9673067B2 (en) | 2013-04-23 | 2014-04-22 | Substrate processing apparatus and processed substrate manufacturing method |
KR1020140048499A KR102174974B1 (ko) | 2013-04-23 | 2014-04-23 | 기판 처리 장치 및 처리 기판의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013090694A JP6122684B2 (ja) | 2013-04-23 | 2013-04-23 | 基板処理装置及び処理基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014216392A JP2014216392A (ja) | 2014-11-17 |
JP6122684B2 true JP6122684B2 (ja) | 2017-04-26 |
Family
ID=51941912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013090694A Active JP6122684B2 (ja) | 2013-04-23 | 2013-04-23 | 基板処理装置及び処理基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6122684B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10149135B1 (en) * | 2017-05-30 | 2018-12-04 | Illinois Tool Works Inc. | Methods and apparatuses for wireless communication with a brush |
JP2022124016A (ja) | 2021-02-15 | 2022-08-25 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、基板洗浄装置の異常判定方法、基板洗浄装置の異常判定プログラム |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4047406B2 (ja) * | 1996-11-15 | 2008-02-13 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 洗浄処理装置 |
JP3343503B2 (ja) * | 1997-12-12 | 2002-11-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置 |
JP5031186B2 (ja) * | 2004-11-01 | 2012-09-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理プログラム |
-
2013
- 2013-04-23 JP JP2013090694A patent/JP6122684B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014216392A (ja) | 2014-11-17 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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