JP6122699B2 - 冷却装置 - Google Patents
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Description
本発明は、冷凍機とこの冷凍機により冷却される冷却パネルとを備え、処理対象物が配置される処理室内にて冷却パネルの主面を処理対象物に近接または接触させて処理対象物を冷却する冷却装置に関する。
例えば、フラットディスプレイパネルの製造工程においては、熱処理装置、成膜装置やドライエッチング装置などの各種の真空処理装置に、処理対象物としてのガラス基板が順次搬送されて当該ガラス基板表面に対して各種の処理が夫々施されていく。ここで、成膜処理を例に説明すると、成膜処理には、通常、スパッタリング（以下、「スパッタ」という）装置が用いられ、スパッタ装置では、真空処理室（以下「処理室」という）内に保持手段で保持されたガラス基板と成膜しようとする膜の組成に応じて形成されたターゲットとを対向配置し、処理室にプラズマ雰囲気を形成して希ガスのイオンをターゲットに向けて加速させて衝突させ、これにより生じたスパッタ粒子（ターゲット原子）を飛散させて基板表面に付着、堆積させて成膜される。スパッタによる成膜時、スパッタ粒子の基板表面の衝突やプラズマの輻射熱によって基板温度が上昇する。基板温度が上昇すると、基板表面に成膜される薄膜によっては特性が変化することから、成膜中、処理対象物の冷却が必要となる。従来、処理室内で処理対象物を冷却する冷却装置として、基板を密着保持するステージ内に冷却水を循環させる機構を設け、ステージとの熱交換で処理対象物を冷却するものが例えば特許文献１で知られている。
ところで、処理対象物を各種の真空処理装置に順次搬送して各種の処理を施していく際、各処理装置のレイアウトや処理対象物の品質管理等の理由から、搬送時の処理対象物の姿勢と、各処理装置にて所定処理を施すときの姿勢（上記スパッタ装置の例では、ターゲットにガラス基板の処理面を対向させる姿勢）とが夫々異なる場合がある。このため、各種の処理装置に夫々備えられる冷却装置として、当該処理装置内で処理対象物の姿勢に応じて姿勢をかえて処理対象物を効率よく冷却することができる構造を持つ汎用性の高いものが近年求められている。このような場合、上記従来例の如く、処理対象物を密着保持するステージに冷却水を循環させるものでは、ステージの姿勢を変えたときでも冷却水が漏れ出ないように構成する必要があり、部品点数が増加して装置構成が複雑化するという問題がある。
本発明は、以上の点に鑑み、簡単な構造で処理対象物の姿勢に応じて姿勢をかえて当該処理対象物を効率よく冷却することができる汎用性のある冷却装置を提供することをその課題とするものである。
上記課題を解決するために、冷凍機とこの冷凍機により冷却される冷却パネルとを備え、処理対象物が配置される処理室内にて冷却パネルの主面を処理対象物に近接または接触させて処理対象物を冷却し、処理対象物に対して所定処理を施すときの冷却パネルの姿勢を第１姿勢、処理対象物に対して所定処理を施すとき以外の冷却パネルの姿勢を第２姿勢とし、冷却パネルは第１姿勢と第２姿勢との間で揺動自在に処理室内に設けられると共に、冷却パネルが第１姿勢と第２姿勢との少なくとも一方のときに冷凍機の冷却部が冷却パネルに接触して伝熱により冷却パネルが冷却される本発明の冷却装置は次の特徴がある。即ち、本発明では、前記冷却パネルに設けられた回転軸と、この回転軸を回転駆動する第１駆動手段と、前記冷却部を前記冷却パネルに対して進退自在に駆動する第２駆動手段とを備え、第１駆動手段により回転軸を回転駆動して冷却パネルが第１姿勢と第２姿勢とを夫々とるときに第２駆動手段により冷却部を冷却パネルに接触させるように構成した。
本発明によれば、冷却パネルと冷凍機とから構成し、冷却パネルを揺動自在とすることで、本発明の冷却装置を組み付ける各種の真空処理室内での処理対象物の姿勢に応じて冷却パネルを揺動させてその姿勢をかえることができるため、汎用性が高い。しかも、少なくとも冷却パネルが姿勢をかえるときだけ、冷凍機の冷却部分を退避させる機構があればよいため、上記従来例のように、冷却水の漏れ出しを防止するための複雑な構成を設ける必要はなく、冷却装置自体の構成を簡素化できる。なお、例えば、本発明の冷却装置の冷却パネルを真空処理装置内に設けておき、処理対象物が真空処理装置内に搬送されてくるまでは、冷却パネルを処理対象物の円滑な搬送を阻害しない姿勢にし、搬送時の姿勢のままガラス基板が真空処理装置内にセットされた後、つまり、真空処理装置内にセットされた処理対象物の姿勢に応じて、冷却パネルを揺動させてその主面が処理対象物に近接または接触する姿勢にかえるようにして上記冷却装置を使用することもできる。
この場合、第１姿勢と第２姿勢との少なくとも一方の姿勢をとるときだけ、冷却パネルが冷凍機により確実に冷却される構成を実現することができる。
ところで、処理対象物が、フラットディスプレイパネル用のガラス基板のように、処理面の面積が大きい場合、冷却パネル自体もガラス基板と同等の面積を有する大型のものが用いられるが、当該冷却パネルを冷凍機で冷却するときに、冷却パネル自体に温度むらが生じたのでは、ガラス基板を均等に冷却することができない。そこで、回転軸の軸方向に間隔を存して冷凍機を複数配置することが好ましい。これにより、冷却パネルが軸方向の複数個所から同時に冷却されることで、冷却パネル自体に温度むらが発生することが抑制され、ひいては、処理対象物をその全面に亘って均等に冷却することができる。なお、回転軸の軸方向に間隔を存して冷凍機を複数配置することに加えて、回転軸の軸方向に直交する方向に間隔を存してかつ軸方向に間隔を存して冷凍機を複数配置するようにしてもよい。
また、冷却パネルは、処理対象物の外周面を囲繞する囲繞部を更に備えることが好ましい。これによれば、処理対象物がフラットディスプレイパネル用の大面積ガラス基板であるような場合でも、処理対象物の外周縁部まで確実に冷却することができる。
更に、前記冷却パネルは、前記処理対象物の当該冷却パネルとの対向面の面積より小さい面積のパネル体の複数枚を前記対向面の面積と同等以上になるように同一平面内に並設して構成し、前記冷却パネルのパネル体に夫々対応させて冷凍機を設けることが好ましい。これによれば、冷凍機の個体差により冷却パネルへの伝熱量に差があるような場合でも、各冷凍機を制御すれば、各冷却パネルの温度を略一定にでき、ひいては、処理対象物をその全面に亘って均等に確実に冷却することができる。
また、本発明において、前記冷却パネルは、冷凍機が常時接触する固定パネルと、可動パネルと、この固定パネルを回転中心として可動パネルを揺動する連結部材とを備えることが好ましい。これによれば、可動パネルに処理対象物の荷重が作用したときに第１姿勢と第２姿勢との間で冷却パネルが揺動自在になり、冷凍機を駆動する機構を省略することができて、より一層簡便な構成とすることができる。
以下、図面を参照して、処理対象物を矩形のガラス基板とし、スパッタリング装置やエッチング装置等の真空処理装置に組み付けられる本発明の冷却装置の第１実施形態を説明する。なお、処理対象物は、真空処理装置内で所定処理を行う場合に冷却を必要するものであれば、上記に限定されるものではなく、例えば、シリコンウエハ等の他の基板の他、防着板等の冷却にも利用できる。以下においては、真空処理装置内でガラス基板の処理面が鉛直方向に沿うようにセットされて所定処理が施されるときの姿勢を第１姿勢、ガラス基板の処理面が水平方向に沿う姿勢を第２姿勢として説明する。また、「上」、「下」、「左」、「右」といった方向を示す用語は、特に言及しない限り、図１を基準とする。
図１及び図２を参照して、ＲＵ１は、図外の真空処理装置内に組み付けられる冷却装置である。冷却装置ＲＵ１は、図外の真空処理装置内に配置される揺動自在な冷却パネル１と、冷却パネル１に接触して当該冷却パネル１を所定温度に冷却する冷凍機２とを備える。冷凍機２は、冷却部としての冷却ヘッド２１と、圧縮器、凝縮器及び膨張弁を備える冷凍機本体２２とを有する。冷却ヘッド２１はその最上部に熱伝導のよい金属製の冷却板２１ａを備え、図外の熱交換器から冷凍機本体２２に供給される冷媒が循環されることで、冷却板２１ａを含む冷却ヘッド２１が常時所定温度に冷却保持される。なお、冷凍機２としては公知の構造のものが利用できるため、これ以上の詳細な説明は省略する。そして、冷却ヘッド２１が、真空処理装置内に配置される。この場合、冷却ヘッド２１は、図外の真空処理装置の壁面を貫通して設けられる第１駆動手段としてのエアシリンダ２３の駆動軸２３ａ上端に設けられ、駆動手段２３により駆動軸２３ａを上下動させることで、冷却ヘッド２１が冷却パネル１に対して近接離間可能に進退する。なお、真空処理装置の壁面にはべローズ等の真空シールが設けられる。
また、冷却ヘッド２１は、図２に示すように、後述の回転軸の軸方向に間隔を存して複数配置され、冷却パネル１をその全面に亘って均等に冷却することができ、ひいては、ガラス基板Ｓをその全面に亘って均等に効率よく冷却できようにしている。この場合の冷凍機２の数は、冷却パネル１の材質や後述の主面１ａの面積、真空処理装置内で実施される処理時におけるガラス基板Ｓへの入熱量等を考慮して適宜設定される。また、図外の熱交換器から各冷却ヘッド２１に冷媒を供給するとき、処理時のガラス基板Ｓの冷却温度に応じて、複数の熱交換器から行うようにしてもよい。冷却ヘッド２１は、ガラス基板Ｗの冷却温度に応じて、冷却パネル１が第１姿勢と第２姿勢とのいずれかの姿勢のときのみ冷却するようにしてもよい。
一方、冷却パネル１は、ガラス基板Ｓと同等以上の面積を持つ熱伝導のよい材質、例えば銅やアルミニウムから選択される金属もしくはこの金属を主成分とする合金製で平面視矩形の板状部材で構成され、ガラス基板Ｓと対向する冷却パネル１の一方の面（第２姿勢で上面）が主面１ａをなす。冷却パネル１には、図１に示すように、第２姿勢で右側端に、その端面を略直角に屈曲させてなる第１接触部１ｂが設けられ、この第１接触部１ｂに連続させてその端面を更に略直角に屈曲させてなる第２接触部１ｃが設けられている。そして，冷却パネル１が第１姿勢をとるとき、第１接触部１ｂが冷却ヘッド２１の直上に位置する一方で、冷却パネル１が第２姿勢をとるときに、第２接触部１ｃが冷却ヘッド２１の直上に位置する。なお、冷却パネル１による冷却効果を高めるために、主面１ａに黒化処理を施してもよい。
冷却パネル１は、成膜時にガラス基板Ｓを保持する機能も持つ支持板３の上面に支持されている。支持板３は、平面視矩形で、第２姿勢でその上面の外周縁部に爪部３１が列設されている。そして、各爪部３１でガラス基板Ｓを係止することで第２姿勢にて冷却パネル１を介してガラス基板Ｓが保持される。また、第２姿勢にて支持板３の下面右側端には斜め下方に延びるアーム部３２が形成され、このアーム部３２の端部が回転軸４に固定されている。回転軸４の一端（図１中、奥行き方向）には、第２駆動手段としてのモータ５が設けられている。そして、冷却パネル１が、図１中、二点鎖線で示す第２姿勢のとき、モータ５を一方向に回転駆動すると、冷却パネル１が回転軸４を回転中心として揺動して、図１中、実線で示す第１姿勢をとる。他方で、冷却パネル１が第１姿勢のとき、モータ５を逆方向に回転駆動すると、冷却パネル１が回転軸４を回転中心として揺動して第２姿勢に戻る。冷却パネル１が揺動する間、エアシリンダ２３により冷却ヘッド２１が冷却パネル１から離間した退避位置に移動され、冷却パネル１が第１姿勢及び第２姿勢のいずれかの姿勢のとき、エアシリンダ２３により冷却ヘッド２１が（冷却板２１ａ）が冷却パネル１の接触部１ｂ，１ｃのいずれか一方に接触する接触位置に移動され、冷却ヘッド２１からの伝熱で冷却パネル１が冷却される。
次に、上記冷却装置ＲＵ１を真空処理装置としてのスパッタリング装置（図示せず）に組み付け、ガラス基板Ｓの一方の面Ｆにスパッタ法により薄膜を成膜する場合を例に本第１実施形態の冷却装置の使用方法を説明する。冷却パネル１が第２姿勢をとる状態で、搬送ロボットによりガラス基板を水平搬送し、図１中、二点鎖線で示すように、処理面としての一方の面Ｆを上側にしてガラス基板Ｓを支持板３の爪部３１により保持させる。このとき、冷却パネル１の第２接触部１３に冷却ヘッド２１を接触させて冷却パネル１を冷却しておいてもよい。そして、スパッタリング装置の真空チャンバ内を真空引きし、エアシリンダ２３により冷却ヘッド２１を退避位置に移動した後、モータ５を一方向に回転駆動させて冷却パネル１を揺動させ、第１姿勢にする。その後、エアシリンダ２３により冷却ヘッド２１を接触部１ｂに接触する接触位置に移動させると、スパッタによる成膜の準備が完了する。
第１姿勢の状態で、ガラス基板Ｓの一方の面Ｆに対向するように真空チャンバ内に設けたターゲットを公知の方法に従ってスパッタリングすることで、一方の面Ｆに所定の薄膜が成膜される。このとき、スパッタ粒子がガラス基板Ｓの一方の面Ｆに衝突したり、プラズマからの輻射熱を受けたりしてガラス基板Ｓに入熱し、ガラス基板Ｓが加熱されるが、ガラス基板Ｓの他方の面（図１中、左側の面）が冷却パネル１の主面１ａに近接しているため、ガラス基板Ｓの熱が冷却パネル１の主面１ａで輻射吸熱されて冷却される。成膜後には、上記と逆の操作で第２姿勢に戻し、処理済みのガラス基板Ｓが搬送ロボットにより搬出される。
上記実施形態によれば、冷却パネル１と冷凍機２とから構成し、冷却パネル１を揺動自在とすることで、ガラス基板Ｓの姿勢に応じて、即ち、上記実施形態では、ガラス基板Ｓを冷却パネル１と共に揺動させて、その姿勢をかえることができ、汎用性が高い。しかも、少なくとも冷却パネル１が姿勢をかえるときだけ、冷凍機２の冷却ヘッド２１を退避させる機構があればよいため、上記従来例のように、冷却水の漏れ出しを防止するための複雑な構成を設ける必要はなく、冷却装置自体の構成を簡素化できる。その上、回転軸４の軸方向に間隔を存して冷凍機２を複数配置したため、冷却パネル１が軸方向の複数個所から同時に冷却されることで、冷却パネル１自体に温度むらが発生することが抑制され、ひいては、処理対象物が大面積のガラス基板Ｓであっても、その全面を均等に冷却することができる。
以上、本発明の第１実施形態について説明したが、本発明は上記に限定されるものではない。上記実施形態では、ガラス基板Ｓの一方の面Ｆと冷却パネル１の主面１ａとが近接対向配置され、ガラス基板Ｓを冷却パネル１と共に揺動されてその姿勢をかえるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、ガラス基板Ｓと冷却パネル１とを面接触させるようにしてもよく、また、例えば、公知のキャリア等を用いてガラス基板Ｓが真空処理装置内に搬送されてくるまでは、冷却パネル１をガラス基板Ｓの円滑な搬送を阻害しない姿勢（例えば、第２姿勢）とし、搬送時の姿勢のままガラス基板Ｓが真空処理装置内にセットされた後、冷却パネル１のみを揺動させてその主面１ａがガラス基板Ｓに近接または接触する姿勢にかえるようにしてもよい。
また、上記第１実施形態では、冷却パネル１は、処理対象物としてのガラス基板Ｓと同等以上の面積を有する板状部材で構成したものを例に説明したが、これに限定されるものではない。図３を参照して、変形例に係る冷却パネル１０は、その周縁部にガラス基板Ｓの外周面Ｓ１に近接してその周囲を囲繞するように、冷却パネル１０の主面１０ａに対して垂直に立設する囲繞部としての壁面１０ｂを設けてもよい。この場合、壁面１０ｂの上端は、例えば、基板Ｓの処理面（上面）と面一とすればよく、また、処理面より高く設定することもできるが、その高さは、装置サイズの大型化や各可動部の駆動に不都合が生じない範囲で適宜設定される。なお、壁面１０ｂの上端が基板Ｓの処理面より低いと、処理対象物を均一に冷却できない虞がある。また、図３に示すものでは、壁面１０ｂがガラス基板Ｓの外周面Ｓ１全面に亘って設けられているが、壁面１０ｂが存在しない部分があってもよい。これによれば、処理対象物がフラットディスプレイパネル用の大面積のガラス基板Ｓであるような場合でも、ガラス基板Ｓの外周縁部まで確実に冷却することができる。
ところで、処理対象物がフラットディスプレイパネル用の大面積のガラス基板Ｓである場合、冷却パネル１自体もガラス基板Ｓと同等の面積を有する大型のものが用いられるが、上記実施形態のように、冷却パネル１が単一のもので構成されている場合、冷却パネル１に接触する冷凍機２の位置や数によっては、冷却パネル１自体に温度むらが生じる虞があり、これでは、ガラス基板Ｓを均等に冷却することができない。
そこで、第２実施形態では、冷却装置ＲＵ２の冷却パネル１００が、図４に示すように、処理対象物としてのガラス基板Ｓの当該冷却パネル１００との対向面の面積より小さい面積のパネル体１０１の複数枚を、その対向面の面積と同等以上になるように同一平面内に並設して構成されている。この場合、図４では、第２実施形態の冷却パネル１００を主面１０２の面積が同等のパネル体１０１を３列３行で等間隔で並設して構成したものを例示しているが、処理時にガラス基板Ｓへの入熱量に応じて互いに異なる面積とすることもできる。また、各パネル体１０１は、上記第１実施形態と同様、熱伝導のよい材質製の板状部材で構成される。
更に、各パネル体１０１は、格子状に形成した支持枠３０で夫々保持され、各パネル体１０１に夫々対応させて冷凍機２が設けられている。なお、冷凍機２としては、上記第１実施形態の同一の構造ものを用いることができ、また、冷凍機２の冷却部と各冷却パネル１００との選択的な接触は、上記第１実施形態と同一の方法を用いて行うことができる。更に、冷却パネル１００の温度を接触または非接触で測定するセンサ（図示せず）を設け、センサでの検出温度に応じて各冷凍機２からの伝熱量を制御するようにし、パネル体１０１毎に冷却温度を変えるようにしてもよい。これにより、ガラス基板Ｓをその全面に亘ってより均等に冷却することができる。
次に、本発明の効果を確認するため以下の実験を行った。図外の真空チャンバ内に、図４に示す第２実施形態のように９枚のパネル体１００を設置し、１５００ｍｍ×１８５０ｍｍ×（厚さ）０．７ｍｍのガラス基板を真空雰囲気にて冷却した。この場合、試験１では、パネル体１０１を並設したときの外径サイズが１５００ｍｍ×１８５０ｍｍとなるように（即ち、冷却パネルの主面の面積とガラス基板の面積とが同等となるように）９枚のパネル体１０１を設置したものとし、試験２では、外径サイズが１７３０ｍｍ×２０８０ｍｍとなるように（即ち、冷却パネルの主面の面積がガラス基板の面積より大きくなるように）９枚のパネル体１０１を設置したものとし、試験３では、図３に示すように、パネル体１００を試験１のものにガラス基板の外周面を囲う壁面１０ｂを形成したものとした。
また、各パネル体１０１に対応させて冷凍機２を夫々設け、単一の熱交換機から冷凍機本体２２に供給される冷媒を冷却ヘッド２１に夫々循環されるようにした。そして、ガラス基板を１００℃まで加熱した後、冷却パネル１００によりガラス基板を冷却し、その温度変化を測定した。この場合、図４を参照して、ガラス基板Ｓ中、右上端に位置するパネル体１０１の中心に対応する点をＡ１、その右下端に位置するパネル体１０１の中心に対応する点をＡ２、その中央上端に位置するパネル体１０１の中心に対応する点をＡ３、その中央下端に位置するパネル体１０１の中心に対応する点をＡ４、その左上端に位置するパネル体１０１の中心に対応する点をＡ５、その左下端に位置するパネル体１０１の中心に対応する点をＡ６とし、これらＡ１〜Ａ６を各測定点とした。
図５(ａ)〜（ｃ）は、試験１〜試験３における各測定点Ａ１〜Ａ６での最終温度を示すグラフである。これによれば、試験１のとき、１００℃のガラス基板の冷却を開始した当初から各測定点における冷却速度が異なり、最終温度と１３．８℃〜２５．８℃の温度範囲でばらついた（図５(ａ)参照）。他方、試験２では、各測定点における冷却速度の差が小さくなり、最終温度のばらつきも小さくなった（１３．８℃〜１４．２℃）ことが判る（図５(ｂ)参照）。さらに、試験３では、各測定点における冷却速度が略同一となり、最終温度が１３．８℃でそのばらつきも殆どないことが判る（図５(ｃ)参照）。なお、追加試験４として、試験１における冷却パネル１００のパネル体１０１毎に冷凍機２による冷却温度を制御した場合、最終温度のばらつきを±０．５℃の範囲にできることが確認された。
次に、図６及び図７を参照して、図外の真空処理装置にガラス基板Ｓを鉛直にして搬送し、この状態で保持手段３００によりガラス基板Ｓを保持し、この状態で所定処理を行う場合を例に本発明の冷凍装置ＲＵ３の第３実施形態を説明する。冷凍装置ＲＵ３は、冷却パネル１０００と、真空チャンバ外に設けられる、冷却ヘッド２１０を有する冷凍機２００とを備える。この場合、冷却パネル１０００は、図外の真空処理装置の壁面を貫通して設けられ、冷却ヘッド２１０が常時接触する固定パネル部１００１と、固定パネル部１００１から連結部材１００２を介して連設された可動パネル部１００３とで構成され、連結部材１００２が変形して固定パネル部１００１に対して可動パネル部１００３が揺動するようになっている。固定パネル部１００１及び可動パネル部１００３は、ガラス基板Ｓよりも小さい面積であり、上記第１実施形態同様、熱伝導のよい材質製の板状部材で構成される。連結部材１００２としては、熱伝導のよい公知の平編み導線や銅板を用いることができる。
保持部材３００は、一方の面側にガラス基板Ｓを保持し、他方の面側で可動パネル部１００３と接触し、その他方の面側で第２姿勢にて斜め下方に延び、回転軸４に固定されるアーム部３００ａを形成する。そして、モータ５を一方に回転駆動すると、ガラス基板Ｓが姿勢をかえるのに追従して、このガラス基板Ｓの荷重が可動パネル部１００３に作用して第１姿勢と第２姿勢との間で揺動する。これによれば、冷凍機２００の冷却ヘッド２１０を冷却パネル１０００に対して近接離間可能に進退させる機構を省略することができ、簡便な構成にできる。尚、可動パネル部１００３が第１姿勢をとるときに、可動パネル部１００３と保持部材３００とが接触しているが、非接触となるようにしてもよい。
ＲＵ１，ＲＵ２，ＲＵ３…冷却装置、１、１０、１００、１０００…冷却パネル、１ａ…冷却パネルの主面、２，２０，２００…冷凍機、２１，２１０…冷却ヘッド（冷却部）、４１ａ…冷却板（冷却部）、１００１…固定パネル、１００２…連結部材、１００３…可動パネル、４…回転軸、５…モータ（第１駆動手段）、Ｓ…ガラス基板（処理対象物）。
Claims (5)
- 冷凍機とこの冷凍機により冷却される冷却パネルとを備え、冷却パネルの主面を処理対象物に近接または接触させて処理対象物を冷却する冷却装置において、
処理対象物に対して所定処理を施すときの冷却パネルの姿勢を第１姿勢、処理対象物に対して所定処理を施すとき以外の冷却パネルの姿勢を第２姿勢とし、
冷却パネルは第１姿勢と第２姿勢との間で揺動自在に設けられると共に、冷却パネルが第１姿勢と第２姿勢との少なくとも一方のときに冷凍機の冷却部が冷却パネルに接触して伝熱により冷却パネルが冷却され、
前記冷却パネルに設けられた回転軸と、この回転軸を回転駆動する第１駆動手段と、前記冷却部を前記冷却パネルに対して進退自在に駆動する第２駆動手段とを備え、第１駆動手段により回転軸を回転駆動して冷却パネルが第１姿勢と第２姿勢とを夫々とるときに第２駆動手段により冷却部を冷却パネルに接触させるように構成したことを特徴とする冷却装置。 - 前記回転軸の軸方向に間隔を存して冷凍機が複数配置されることを特徴とする請求項１に記載の冷却装置。
- 冷凍機とこの冷凍機により冷却される冷却パネルとを備え、冷却パネルの主面を処理対象物に近接または接触させて処理対象物を冷却する冷却装置において、
処理対象物に対して所定処理を施すときの冷却パネルの姿勢を第１姿勢、処理対象物に対して所定処理を施すとき以外の冷却パネルの姿勢を第２姿勢とし、
冷却パネルは第１姿勢と第２姿勢との間で揺動自在に設けられると共に、冷却パネルが第１姿勢と第２姿勢との少なくとも一方のときに冷凍機の冷却部が冷却パネルに接触して伝熱により冷却パネルが冷却され、
前記冷却パネルは、前記処理対象物の当該冷却パネルとの対向面の面積より小さい面積のパネル体の複数枚を前記対向面の面積と同等以上になるように同一平面内に並設して構成され、
前記冷却パネルのパネル体に夫々対応させて冷凍機が設けられていることを特徴とする冷却装置。 - 冷凍機とこの冷凍機により冷却される冷却パネルとを備え、冷却パネルの主面を処理対象物に近接または接触させて処理対象物を冷却する冷却装置において、
処理対象物に対して所定処理を施すときの冷却パネルの姿勢を第１姿勢、処理対象物に対して所定処理を施すとき以外の冷却パネルの姿勢を第２姿勢とし、
冷却パネルは第１姿勢と第２姿勢との間で揺動自在に設けられると共に、冷却パネルが第１姿勢と第２姿勢との少なくとも一方のときに冷凍機の冷却部が冷却パネルに接触して伝熱により冷却パネルが冷却され、
前記冷却パネルは、冷凍機が常時接触する固定パネルと、可動パネルと、この固定パネルを回転中心として可動パネルを揺動する連結部材とを備えることを特徴とする冷却装置。 - 前記冷却パネルは、処理対象物の外周面を囲繞する囲繞部を更に備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の冷却装置。
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