JP6377717B2 - 小ロット基板ハンドリングシステムのための温度制御システム及び方法 - Google Patents
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Description
Claims (15)
- 処理チャンバの中へ又は処理チャンバから、複数の基板を移動するように構成されたロボットと、
前記ロボットによって移動するために前記基板を位置決めするように構成されたコンベヤと、
任意の1または複数の基板が前記コンベヤ上で回転している間、前記任意の1または複数の基板の直下に選択的に熱を提供するように構成された温度制御システムと
を含む基板ハンドリングシステム。 - 前記基板ハンドリングシステムを囲むチャンバを更に含む、請求項1に記載の基板ハンドリングシステム。
- 前記コンベヤは複数の基板支持部を含み、前記温度制御システムは、少なくとも一つの基板支持部と前記処理チャンバの近くに配置される、請求項1に記載の基板ハンドリングシステム。
- 前記温度制御システムは、前記コンベヤが動くにつれて動くように構成された加熱システムを含む、請求項1に記載の基板ハンドリングシステム。
- 前記温度制御システムは、少なくとも一つの基板支持部と前記処理チャンバの近くに配置された放射ヒータを含むかまたは前記少なくとも一つの基板支持部の一または複数の中に埋め込まれた抵抗熱エレメントを含む、請求項1に記載の基板ハンドリングシステム。
- 前記基板ハンドリングシステムを囲み、チャンバ内でロードロック機能を提供するチャンバを更に含む、請求項1に記載の基板ハンドリングシステム。
- 前記チャンバは、前記チャンバの内部容積を最小限に抑えるように構成される、請求項6に記載の基板ハンドリングシステム。
- 基板プロセスにおいて基板を移動させる方法であって、
基板処理チャンバの中へ又は基板処理チャンバから、複数の基板を移動するように構成されたロボットと、前記ロボットによって移動させるために前記基板を位置決めするように構成されたコンベヤと、前記コンベヤ上の基板を加熱するように構成された温度制御システムとを含む基板ハンドリングシステムを供給することと、
前記コンベヤ上へ基板を載せることと、
前記コンベヤ上の前記基板を加熱することと、
前記加熱された基板を前記基板処理チャンバの中へ入れることと
を含み、前記コンベヤ上で前記基板を加熱することは、任意の1または複数の基板が前記コンベヤ上で回転している間、前記任意の1または複数の基板の直下に選択的に熱を提供することを含む方法。 - 前記基板ハンドリングシステムを囲むチャンバを供給することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記基板ハンドリングシステムを供給することは、複数の基板支持部を含むコンベヤを供給することと、少なくとも一つの基板支持部と基板処理チャンバの近くに前記温度制御システムを配置することとを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記基板ハンドリングシステムを供給することは、前記基板を冷却するため、前記基板から熱を引き抜くように構成された冷却板を含むコンベヤを供給することを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記基板ハンドリングシステムを供給することは、前記コンベヤ上の基板支持部と前記基板処理チャンバの近くに配置された放射ヒータを有する前記温度制御システムを供給することを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記基板ハンドリングシステムを囲み、前記チャンバ内でロードロック機能を実施するチャンバを供給することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記チャンバが、前記チャンバの内部容積を最小限に抑えるように構成された、請求項13に記載の方法。
- 処理チャンバと、
前記処理チャンバに結合された基板ハンドリングシステムであって、前記処理チャンバの中へ又は前記処理チャンバから、複数の基板を移動するように構成されたロボットと、前記ロボットによって移動させるために前記基板を位置決めするように構成されたコンベヤと、任意の1または複数の基板が前記コンベヤ上で回転している間に、前記任意の1または複数の基板の直下に選択的に熱を提供するように構成された温度制御システムとを含む、基板ハンドリングシステムと、
基板を前記基板ハンドリングシステムへ搬送し、前記基板ハンドリングシステムから基板を受取るように配置されたファクトリーインターフェースとを備え、
前記基板ハンドリングシステムの前記コンベヤは、複数の基板支持部を含み、前記温度制御システムは、少なくとも一つの基板支持部と前記処理チャンバの近くに配置されており、
前記基板ハンドリングシステムは更に、チャンバ内でロードロック機能を提供するように構成され、前記基板ハンドリングシステムを囲むチャンバを含み、前記チャンバは、前記チャンバの内部容積を最小限に抑えるように構成されている、基板処理システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361800595P | 2013-03-15 | 2013-03-15 | |
US61/800,595 | 2013-03-15 | ||
PCT/US2014/028453 WO2014144162A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-03-14 | Temperature control systems and methods for small batch substrate handling systems |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016517635A JP2016517635A (ja) | 2016-06-16 |
JP2016517635A5 JP2016517635A5 (ja) | 2017-04-27 |
JP6377717B2 true JP6377717B2 (ja) | 2018-08-22 |
Family
ID=51527660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016502793A Active JP6377717B2 (ja) | 2013-03-15 | 2014-03-14 | 小ロット基板ハンドリングシステムのための温度制御システム及び方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140271057A1 (ja) |
JP (1) | JP6377717B2 (ja) |
KR (1) | KR20150132506A (ja) |
CN (2) | CN105103283B (ja) |
TW (1) | TWI672760B (ja) |
WO (1) | WO2014144162A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014157358A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体 |
SG11201807177VA (en) | 2016-04-13 | 2018-10-30 | Applied Materials Inc | Apparatus for exhaust cooling |
US10119191B2 (en) | 2016-06-08 | 2018-11-06 | Applied Materials, Inc. | High flow gas diffuser assemblies, systems, and methods |
US10684159B2 (en) | 2016-06-27 | 2020-06-16 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on choked flow |
JP6670713B2 (ja) * | 2016-09-20 | 2020-03-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板搬送方法 |
US10361099B2 (en) | 2017-06-23 | 2019-07-23 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods of gap calibration via direct component contact in electronic device manufacturing systems |
CN109378287A (zh) * | 2018-11-15 | 2019-02-22 | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 | 半导体封装装置 |
US11107709B2 (en) | 2019-01-30 | 2021-08-31 | Applied Materials, Inc. | Temperature-controllable process chambers, electronic device processing systems, and manufacturing methods |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4987856A (en) * | 1989-05-22 | 1991-01-29 | Advanced Semiconductor Materials America, Inc. | High throughput multi station processor for multiple single wafers |
US5855465A (en) * | 1996-04-16 | 1999-01-05 | Gasonics International | Semiconductor wafer processing carousel |
US5914493A (en) * | 1997-02-21 | 1999-06-22 | Nikon Corporation | Charged-particle-beam exposure apparatus and methods with substrate-temperature control |
US5951770A (en) * | 1997-06-04 | 1999-09-14 | Applied Materials, Inc. | Carousel wafer transfer system |
US6431807B1 (en) * | 1998-07-10 | 2002-08-13 | Novellus Systems, Inc. | Wafer processing architecture including single-wafer load lock with cooling unit |
US6137303A (en) * | 1998-12-14 | 2000-10-24 | Sony Corporation | Integrated testing method and apparatus for semiconductor test operations processing |
TW552306B (en) * | 1999-03-26 | 2003-09-11 | Anelva Corp | Method of removing accumulated films from the surfaces of substrate holders in film deposition apparatus, and film deposition apparatus |
US6413873B1 (en) * | 1999-05-03 | 2002-07-02 | Applied Materials, Inc. | System for chemical mechanical planarization |
US6860965B1 (en) * | 2000-06-23 | 2005-03-01 | Novellus Systems, Inc. | High throughput architecture for semiconductor processing |
JP4937459B2 (ja) * | 2001-04-06 | 2012-05-23 | 東京エレクトロン株式会社 | クラスタツールおよび搬送制御方法 |
US7316966B2 (en) * | 2001-09-21 | 2008-01-08 | Applied Materials, Inc. | Method for transferring substrates in a load lock chamber |
US7153542B2 (en) * | 2002-08-06 | 2006-12-26 | Tegal Corporation | Assembly line processing method |
CN101061253B (zh) * | 2004-11-22 | 2010-12-22 | 应用材料股份有限公司 | 使用批式制程腔室的基材处理装置 |
US20070196011A1 (en) * | 2004-11-22 | 2007-08-23 | Cox Damon K | Integrated vacuum metrology for cluster tool |
TW200715448A (en) * | 2005-07-25 | 2007-04-16 | Canon Anelva Corp | Vacuum processing apparatus, semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing system |
KR101153118B1 (ko) * | 2005-10-12 | 2012-06-07 | 파나소닉 주식회사 | 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리방법 |
TWI342058B (en) * | 2005-12-20 | 2011-05-11 | Applied Materials Inc | Extended mainframe designs for semiconductor device manufacturing equipment |
US8168050B2 (en) * | 2006-07-05 | 2012-05-01 | Momentive Performance Materials Inc. | Electrode pattern for resistance heating element and wafer processing apparatus |
JP2008135440A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Toshiba Corp | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
JP2008300578A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
TW200908363A (en) * | 2007-07-24 | 2009-02-16 | Applied Materials Inc | Apparatuses and methods of substrate temperature control during thin film solar manufacturing |
US20090194026A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Burrows Brian H | Processing system for fabricating compound nitride semiconductor devices |
US8089055B2 (en) * | 2008-02-05 | 2012-01-03 | Adam Alexander Brailove | Ion beam processing apparatus |
JP5280964B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2013-09-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、基板処理装置、成膜方法及び記憶媒体 |
US20100155993A1 (en) * | 2008-12-23 | 2010-06-24 | Thermal Technology Llc | High Throughput System and Methods of Spark Plasma Sintering |
US8110511B2 (en) * | 2009-01-03 | 2012-02-07 | Archers Inc. | Methods and systems of transferring a substrate to minimize heat loss |
JP5444961B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2014-03-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
CN102714171A (zh) * | 2010-01-22 | 2012-10-03 | 应用材料公司 | 具有基板冷却的传送机械手 |
US20110245957A1 (en) * | 2010-04-06 | 2011-10-06 | Applied Materials, Inc. | Advanced platform for processing crystalline silicon solar cells |
US20120222620A1 (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-06 | Applied Materials, Inc. | Atomic Layer Deposition Carousel with Continuous Rotation and Methods of Use |
-
2014
- 2014-03-14 WO PCT/US2014/028453 patent/WO2014144162A1/en active Application Filing
- 2014-03-14 CN CN201480017765.4A patent/CN105103283B/zh active Active
- 2014-03-14 TW TW103109724A patent/TWI672760B/zh active
- 2014-03-14 KR KR1020157029754A patent/KR20150132506A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-03-14 US US14/212,665 patent/US20140271057A1/en not_active Abandoned
- 2014-03-14 JP JP2016502793A patent/JP6377717B2/ja active Active
- 2014-03-14 CN CN201910375542.XA patent/CN110265321A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI672760B (zh) | 2019-09-21 |
TW201448097A (zh) | 2014-12-16 |
CN105103283A (zh) | 2015-11-25 |
WO2014144162A1 (en) | 2014-09-18 |
JP2016517635A (ja) | 2016-06-16 |
KR20150132506A (ko) | 2015-11-25 |
CN110265321A (zh) | 2019-09-20 |
US20140271057A1 (en) | 2014-09-18 |
CN105103283B (zh) | 2019-05-31 |
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