JP4471848B2 - 基板保持装置 - Google Patents
基板保持装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4471848B2 JP4471848B2 JP2005001223A JP2005001223A JP4471848B2 JP 4471848 B2 JP4471848 B2 JP 4471848B2 JP 2005001223 A JP2005001223 A JP 2005001223A JP 2005001223 A JP2005001223 A JP 2005001223A JP 4471848 B2 JP4471848 B2 JP 4471848B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- substrate holding
- wafer
- heat
- fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
12 真空槽
16 ウェハ
18 基板保持機構
34 水冷ジャケット
44,46 冷却水路
40 押圧ユニット
52 溶接ベローズ
56 中継冷却板
70 ヒートシンク
74 枠体
76 内側フランジ
Claims (6)
- 互いに対向する2つの主面を有する基板を保持するための基板保持装置において、
上記2つの主面の一方の周縁部分に当接する当接手段と、
上記2つの主面の他方の少なくとも一部に密着する密着面を有し該密着面を介して上記基板との間で熱を伝導させる熱伝導手段と、
上記密着面が上記他方の主面に押圧されるように上記熱伝導手段に所定の力を加える押圧手段と、
上記熱伝導手段の温度を制御する温度制御手段と、
を具備し、
上記押圧手段は、上記熱伝導手段に結合された柔軟性を有する継手手段を含み、該継手手段を介して該熱伝導手段に上記所定の力を加え、
上記継手手段は、所定の流体が注入される中空部を有し該中空部への該流体の注入圧力に応じて膨張し、
上記押圧手段は、上記継手手段が膨張することで上記熱伝導手段に上記所定の力が加わるように上記注入圧力を制御する圧力制御手段をさらに含み、
上記温度制御手段は、上記流体を媒体として上記熱伝導手段の温度を制御すること、
を特徴とする、基板保持装置。 - 上記熱伝導手段は金属製である、請求項1に記載の基板保持装置。
- 上記密着面の温度分布を平坦化する平坦化手段をさらに備える、請求項1または2に記載の基板保持装置。
- 複数の上記基板に対応する複数の上記継手手段を備え、
上記流体は上記複数の継手手段に共通の流体流通路を介して該複数の継手手段のそれぞれの上記中空部に注入される、
請求項1ないし3のいずれかに記載の基板保持装置。 - 上記流体は液体である、請求項1ないし4のいずれかに記載の基板保持装置。
- 表面処理装置に用いられる、請求項1ないし5のいずれかに記載の基板保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005001223A JP4471848B2 (ja) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | 基板保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005001223A JP4471848B2 (ja) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | 基板保持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006190805A JP2006190805A (ja) | 2006-07-20 |
JP4471848B2 true JP4471848B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=36797735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005001223A Active JP4471848B2 (ja) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4471848B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5792492B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2015-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 温調機構、プラズマ処理装置及び温調制御方法 |
JP6194504B2 (ja) * | 2012-09-12 | 2017-09-13 | 三菱電機株式会社 | 冷却装置 |
CN103898453B (zh) * | 2012-12-26 | 2017-10-13 | 爱发科低温泵株式会社 | 冷却装置 |
JP6122699B2 (ja) * | 2012-12-26 | 2017-04-26 | アルバック・クライオ株式会社 | 冷却装置 |
JP2016082216A (ja) | 2014-10-09 | 2016-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の温度制御機構、及び多層膜から窒化膜を選択的にエッチングする方法 |
WO2016056391A1 (ja) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の温度制御機構、及び多層膜から窒化膜を選択的にエッチングする方法 |
JP2018037442A (ja) * | 2016-08-29 | 2018-03-08 | 株式会社アルバック | 基板搬送装置、成膜装置および基板搬送方法 |
DE102020109265A1 (de) | 2020-04-02 | 2021-10-07 | Apeva Se | Substrathalter mit einer elastischen Substratauflage |
KR102615216B1 (ko) * | 2020-05-15 | 2023-12-15 | 세메스 주식회사 | 정전 척, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
-
2005
- 2005-01-06 JP JP2005001223A patent/JP4471848B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006190805A (ja) | 2006-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4471848B2 (ja) | 基板保持装置 | |
JP3347742B2 (ja) | 真空処理装置のための熱伝導性チャック、熱伝達装置及びチャック本体と基材との間で熱を伝達させる方法 | |
US8183502B2 (en) | Mounting table structure and heat treatment apparatus | |
WO2017221631A1 (ja) | 保持装置 | |
US5679404A (en) | Method for depositing a substance with temperature control | |
US4512391A (en) | Apparatus for thermal treatment of semiconductor wafers by gas conduction incorporating peripheral gas inlet | |
JP4970679B2 (ja) | 温度均一性が改良されたプラズマ反応チャンバ構成部品及びそれを用いた処理方法 | |
JP5462272B2 (ja) | 基板冷却装置、スパッタリング装置および電子デバイスの製造方法 | |
KR100945321B1 (ko) | 성막 장치 | |
US7846254B2 (en) | Heat transfer assembly | |
US6359264B1 (en) | Thermal cycling module | |
US6705394B1 (en) | Rapid cycle chuck for low-pressure processing | |
JP2015029132A (ja) | 半導体材料処理装置用の低粒子性能を有するシャワーヘッド電極及びシャワーヘッド電極アセンブリ | |
WO2005069360A1 (ja) | 処理装置 | |
JP2000031253A (ja) | 基板処理装置及び方法 | |
WO2014086283A1 (zh) | 静电卡盘以及等离子体加工设备 | |
US10186444B2 (en) | Gas flow for condensation reduction with a substrate processing chuck | |
JP2013055089A (ja) | 静電チャック装置 | |
JP2022502861A (ja) | 静電チャックおよび反応チャンバ | |
CN114481058B (zh) | 溅射装置 | |
US6180926B1 (en) | Heat exchanger apparatus for a semiconductor wafer support and method of fabricating same | |
JP4381588B2 (ja) | 加熱を伴う処理装置 | |
KR20080076432A (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
CN112239852B (zh) | 靶结构和成膜装置 | |
JP2013042144A (ja) | 載置台構造及び熱処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071217 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100223 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100302 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4471848 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160312 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |