JP6100571B2 - 表示装置の製造装置、および表示装置の製造方法 - Google Patents

表示装置の製造装置、および表示装置の製造方法 Download PDF

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Description

後述する実施形態は、概ね、表示装置の製造装置、および表示装置の製造方法に関する。
表示装置の製造工程には、2枚の基板を接着剤で貼り合せる工程がある。そして、当該工程において用いられる貼り合わせ装置が提案されている。
ここで、表示装置においては、多機能化のために2枚の基板の間にタッチスイッチなどの機能部材を設けたり、さらなる薄型化を図ったりするようになってきている。
この様な表示装置において、2枚の基板の間に形成された接着層の厚み寸法がバラツクと、表示装置の品質が悪化するおそれがある。
そのため、接着層の厚み寸法の精度を向上させることができる技術の開発が望まれていた。
特開2007−34329号公報
本発明が解決しようとする課題は、接着層の厚み寸法の精度を向上させることができる表示装置の製造装置、および表示装置の製造方法を提供することである。
実施形態に係る表示装置の製造装置は、第1の基板を保持する第1の保持部と、第2の基板を保持する第2の保持部と、前記第1の保持部を旋回させて、前記第1の基板と、前記第2の基板と、を対峙させる旋回部と、前記旋回部と、前記第1の保持部と、の間に設けられ、変位可能に構成されたフローティング部と、旋回後の前記第1の保持部を支持する支持部と、前記支持部の上端に設けられ、前記旋回後の前記第1の保持部と、前記支持部の上端と、の間の距離を調整する調整部と、前記第2の保持部を昇降させて、接着層を介して、前記第1の基板と、前記第2の基板と、を接着する昇降部と、を備えている。
本実施の形態に係る表示装置の製造装置1を例示するための模式図である。 本実施の形態に係る表示装置の製造装置1を例示するための模式図である。 フローティング部22eを例示するための模式斜視断面図である。 接着層B1を介して、基板WAと基板WBとが接着された状態を例示するための模式図である。 表示装置の製造装置1の作用および表示装置の製造方法を例示するためのフローチャートである。
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
また、各図面中の矢印X、Y、Zは互いに直交する三方向を表しており、例えば、矢印X、Yは水平方向、矢印Zは鉛直方向を表している。
また、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1および表示装置の製造方法における表示装置は、互いに対峙した一対の基板を有したものとすることができる。例えば、表示装置は、液晶表示装置や有機EL(Organic Electro Luminescence)表示装置などである。 また、後述する基板WA(第1の基板の一例に相当する)および基板WB(第2の基板の一例に相当する)は、例えば、カバーガラス、センサーガラス、液晶モジュール、有機ELモジュールなどである。
図1と図2は、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1を例示するための模式図である。
なお、図1は表示装置の製造装置1の側面図であり、図2は表示装置の製造装置1の平面図である。
図3は、フローティング部22eを例示するための模式斜視断面図である。
図4は、接着層B1を介して、基板WAと基板WBとが接着された状態を例示するための模式図である。
図1、図2に示すように、表示装置の製造装置1には、移動部10、貼り合わせ部20、検出部30、および制御部40が設けられている。
移動部10には、基台11、ガイド部12、および駆動部13が設けられている。
基台11は、床面に取り付けられる。
ガイド部12は、基台11の上面に設けられている。ガイド部12は、貼り合わせ部20のX方向の移動を案内する。
駆動部13は、基台11の上面に設けられている。駆動部13は、貼り合わせ部20のX方向の移動を行う。
貼り合わせ部20には、基部21、基板反転部22、基板載置部23、押圧部25、および照射部26が設けられている。
基部21は、ガイド部12の上方に設けられ、ガイド部12および駆動部13によりX方向に移動できるようになっている。
基板反転部22は、載置された基板WAを反転させて基板載置部23の上方に保持する。
基板反転部22には、旋回部22a、基板保持部22b(第1の保持部の一例に相当する)、支持部22c、支持部22d、およびフローティング部22eが設けられている。
旋回部22aは、基部21に設けられている。旋回部22aは、基板保持部22bの一方の端部の側をフローティング部22eを介して保持し、基板保持部22bを旋回させる。すなわち、旋回部22aは、基板保持部22bを旋回させて、基板WAと基板WBとを対峙させる。
基板保持部22bは、載置面22b1上に載置された基板WAを保持する。基板WAの保持は、例えば、図示しない真空ポンプなどを用いた吸着により行うことができる。
また、基板保持部22bには、厚み方向を貫通する孔部22b2が設けられている。孔部22b2が設けられていれば、後述するように、基板WAと基板WBとの間に形成された接着層B1(図4を参照)に紫外線を照射したり、基板WAおよび基板WBにそれぞれ設けられた位置合わせ用の認識部を検出したりすることが容易となる。
なお、接着層B1は、紫外線硬化型樹脂を含む接着剤(紫外線硬化型接着剤)を硬化させることで形成されたものとすることができる。
支持部22cは、柱状を呈し、旋回前の基板保持部22bを支持する。
旋回前の基板保持部22bを支持部22cの上端に接触させることで、基板保持部22bの鉛直方向(Z方向)の位置決めを行うことができる。
支持部22cの配設数には特に限定はない。例えば、基板保持部22bの四隅の近傍にそれぞれ支持部22cを設けることができる。この様にすれば、基板保持部22bの水平面内におけるZ方向の位置精度を向上させることができる。
支持部22dは、柱状を呈し、旋回後の基板保持部22bを支持する。
支持部22dの配設数には特に限定はない。例えば、基板保持部22bの四隅の近傍にそれぞれ支持部22dを設けることができる。この様にすれば、基板保持部22bの水平面内におけるZ方向の位置精度を向上させることができる。
ここで、旋回後の基板保持部22bの載置面22b1が、基板載置部23の上面に対して平行でなければ、後述する接着層B1の厚み寸法の制御が困難となる。
そのため、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1においては、図3に示すように、支持部22dの上端に調整部22d1を設け、旋回後の基板保持部22bと支持部22dの上端との間の距離を調整できるようになっている。
調整部22d1は、例えば、支持部22dの上端に設けられたネジ機構であってZ方向の調整を行うことができるものや、精度が高く薄いスペーサであって間に挟むことでZ方向の調整を行うことができるものなどとすることができる。
図3に示すように、旋回部22aと基板保持部22bとの間にはフローティング部22eが設けられている。
フローティング部22eには、軸部22e1、プレート部22e2、および弾性部22e3、22e4が設けられている。
軸部22e1の一端側には、旋回部22aの旋回軸22a1が固定されている。軸部22e1の他端側は、プレート部22e2を貫通し、プレート部22e2から突出している。
プレート部22e2の一端側には軸部22e1が挿通し、プレート部22e2の他端側には基板保持部22bの端部が固定されている。プレート部22e2と軸部22e1との間には僅かな隙間が設けられ、プレート部22e2が軸部22e1に沿って移動することができるようになっている。
弾性部22e3、22e4は、プレート部22e2を挟んで設けられている。弾性部22e3、22e4は、例えば、圧縮バネなどとすることができる。
基板保持部22bが調整部22d1を介して支持部22dと接触した位置に応じて、軸部22e1に対するプレート部22e2の位置が変化する。この際、弾性部22e3、22e4により、プレート部22e2の位置の寸法変化を吸収することができる。
基板載置部23は、旋回後の基板保持部22bの下方となる位置に設けられている。
基板載置部23は、載置された基板WBを上昇させて、基板WBと、基板保持部22bに保持されている基板WAとを接着する。この際、接着層B1の厚み寸法が所定の範囲内となるように、基板載置部23の制御が行われる。
基板載置部23には、位置制御部23a、昇降部23b、および保持部23c(第2の保持部の一例に相当する)が設けられている。
位置制御部23aは、基部21の上に設けられ、保持部23cの位置制御を行う。位置制御部23aは、X方向、Y方向、Z方向、およびθ方向(回転方向)の位置制御を行う。位置制御部23aは、例えば、XYθテーブルの上にZテーブルを設けたものとすることができる。
昇降部23bは、位置制御部23aの上に設けられている。昇降部23bは、保持部23cを昇降させて、接着層B1を介して、基板WAと基板WBとを接着する。
保持部23cは、昇降部23bの上に設けられている。保持部23cは、載置された基板WBを保持する。基板WBの保持は、例えば、図示しない真空ポンプなどを用いた吸着により行うことができる。
押圧部25は、旋回後の基板保持部22bを上方から支持部22dに向けて押圧する。そして、支持部22dと押圧部25とが協働して、旋回後の基板保持部22bの位置を維持する。
図3に示すように、旋回後の基板保持部22bを押圧する際には、爪25aが支持部22dの上方から下降し、基板保持部22bを上方から押圧する。爪25aにより基板保持部22bを押圧することで、旋回後の基板保持部22bの位置を維持することができる。 また、基板保持部22bの旋回動作の際には、爪25aが支持部22dの上方から退避するようになっている。
押圧部25は、例えば、エアシリンダとカムを備えた旋回式のクランプユニットとすることができる。
基板載置部23により基板WBを上昇させて、基板WAと基板WBを接着する際には、旋回後の基板保持部22bを上方に持ち上げる方向の力が生ずる。この力により旋回後の基板保持部22bの位置が変化すると、接着層B1の厚み寸法の精度が悪くなる。
そのため、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1においては、押圧部25を設けて旋回後の基板保持部22bの位置を維持するようにしている。
照射部26は、基板保持部22bに設けられた孔部22b2を介して、基板WAと基板WBとの間に形成された接着層B1に向けて、例えば、紫外線を照射する。
後述するように、照射部26は、接着層B1の一部の領域に紫外線を照射する。
照射部26には、照射ヘッド26aと移動部26bが設けられている。
照射ヘッド26aは、例えば、紫外線を放射するランプやLED(Light Emitting Diode)などを備えたものとすることができる。
移動部26bは、基部21をY方向に跨ぐようにして、基台11の上に設けられている。
移動部26bは、Y方向に移動可能なガイド部26cを有し、ガイド部26cに照射ヘッド26aが設けられている。また、図示しない駆動部により、ガイド部26cを介して照射ヘッド26aをY方向に移動できるようになっている。
検出部30は、基板WAおよび基板WBの厚み寸法の測定と、基板WAおよび基板WBの位置の検出を行う。
検出部30には、測定部31、撮像部32、および移動部33が設けられている。
測定部31は、基板保持部22bに保持された基板WAの厚み寸法の測定、および、保持部23cに保持された基板WBの厚み寸法の測定を行う。
測定部31は、例えば、レーザ変位計などとすることができる。
測定部31により測定された基板WAおよび基板WBの厚み寸法に関する情報は、制御部40に送られ、接着層B1の厚み寸法の制御に用いられる。
撮像部32は、基板WAおよび基板WBにそれぞれ設けられた認識部(例えば、アライメントマークや角部分の形状など)を撮像する。
撮像部32は、CCD(Charge Coupled Device)カメラなどとすることができる。
撮像部32により撮像された基板WAおよび基板WBに関する位置情報は、制御部40に送られ、画像処理を行うことで位置ズレ量が演算される。演算された位置ズレ量は、位置制御部23aによる基板WBの位置制御に用いられる。
なお、撮像部32による撮像は、基板保持部22bに設けられた孔部22b2を介して行うことができる。
なお、孔部22b2が必要以上に大きいと、基板保持部22bを押圧した際に、基板保持部22bや基板自体が撓んでしまい、接着層B1の厚み寸法の精度が悪くなる。そのため、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1においては、紫外線を照射するための孔、および撮像するための孔である孔部22b2の大きさを必要最小限としている。
移動部33は、基部21をY方向に跨ぐようにして、基台11の上に設けられている。 移動部33は、Y方向に移動可能なガイド部33aを有し、ガイド部33aに測定部31および撮像部32が設けられている。また、図示しない駆動部により、ガイド部33aを介して測定部31および撮像部32をY方向に移動できるようになっている。
なお、旋回前の基板保持部22bに保持された基板WAの表面に接着剤Bを供給する図示しない接着剤供給装置を設けることもできる。
ただし、図示しない接着剤供給装置は、表示装置の製造装置1とは別に設けるようにした方が、表示装置の製造装置1の処理能力、ひいては、表示装置の生産性を向上させることができる。
制御部40は、表示装置の製造装置1に設けられた各要素の動作を制御する。
制御部40は、例えば、駆動部13による貼り合わせ部20のX方向の位置の移動、基板保持部22bによる基板WAの保持、旋回部22aによる基板保持部22bの旋回、昇降部23bによる基板WBの昇降(Z方向の移動)、保持部23cによる基板WBの保持、押圧部25による基板保持部22bの押圧、照射ヘッド26aによる紫外線の照射、移動部26bによる照射ヘッド26aのY方向の位置の移動、測定部31による厚み寸法の測定、撮像部32による認識部の撮像などを制御する。
この際、制御部40は、測定部31からの情報に基づいて昇降部23bを制御し、接着層B1の厚み寸法が所定の範囲内となるようにする。例えば、基板WAの厚み寸法と基板WBの厚み寸法とに基づいて、接着層B1の厚み寸法が所定の範囲内となるように昇降部23bによる上昇量を制御する。なお、接着層B1の厚み寸法の制御の内容は後述する。また、制御部40は、撮像部32からの情報に基づいて位置制御部23aを制御し、基板WBのXYZθ方向の位置を基板WAのXYZθ方向の位置に合わせる。
次に、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1の作用とともに、表示装置の製造方法について例示をする。
図5は、表示装置の製造装置1の作用および表示装置の製造方法を例示するためのフローチャートである。
図5に示すように、まず、基板WAおよび基板WBを表示装置の製造装置1にセットする(ステップS1)。
例えば、基板保持部22bに基板WAを載置し、保持部23cに基板WBを載置する。
なお、基板WAの表面には、液滴状に接着剤Bが塗布されている。接着剤Bは、別途設けられた図示しない接着剤塗布装置により塗布することができる。
接着剤Bは、紫外線硬化型樹脂を含む接着剤(紫外線硬化型接着剤)とすることができる。
基板WAは、接着剤Bが塗布された面とは反対側の面を基板保持部22bの側に向けて載置される。
続いて、基板保持部22bに基板WAを保持させ、保持部23cに基板WBを保持させる。
次に、基板WBの位置を検出する(ステップS2)。
例えば、駆動部13により貼り合わせ部20(基板WB)のX方向の移動を行い、移動部33により撮像部32のY方向の移動を行い、撮像部32により基板WBに設けられた認識部を撮像する。
次に、基板WAおよび基板WBの厚み寸法を測定する(ステップS3)。
例えば、測定部31により、基板保持部22bに保持された基板WAの厚み寸法の測定、および、保持部23cに保持された基板WBの厚み寸法の測定を行う。
例えば、駆動部13により貼り合わせ部20(基板WAおよび基板WB)のX方向の移動を行い、移動部33により測定部31のY方向の移動を行い、測定部31により基板WAおよび基板WBの厚み寸法を測定する。
なお、基板WAおよび基板WBを水平にした状態で、厚み寸法のバラツキが大きい場合には、厚み寸法のバラツキが大きい基板の複数箇所を測定して、その平均値を測定結果としてもよい。
次に、基板保持部22bを旋回(基板WAを反転)させる(ステップS4)。
例えば、旋回部22aにより基板保持部22bを旋回させ、基板保持部22bを調整部22d1を介して支持部22dに支持させる。
この際、旋回後の基板保持部22bの載置面22b1が、保持部23cの上面に対して平行となるように、調整部22d1により基板保持部22bの支持位置が調整されている。
次に、旋回後の基板保持部22bの位置を維持する(ステップS5)。
例えば、押圧部25により、旋回後の基板保持部22bを押圧し、支持部22dと協働させて旋回後の基板保持部22bの位置を維持する。
この際、フローティング部22eにより、旋回部22aに加わる負荷を低減させることができる。また、調整部22d1と基板載置部23とを密着させることができる。
次に、基板WAの位置を検出する(ステップS6)。
例えば、駆動部13により貼り合わせ部20(基板WA)のX方向の移動を行い、移動部33により撮像部32のY方向の移動を行い、撮像部32により基板WAに設けられた認識部を撮像する。
なお、撮像部32による撮像は、基板保持部22bに設けられた孔部22b2を介して行うことができる。
次に、基板WAと基板WBとの位置ズレ量を演算する(ステップS7)。
例えば、ステップS3において検出された基板WBの位置情報と、ステップS6において検出された基板WAの位置情報とから基板WAと基板WBとの位置ズレ量を演算する。 なお、位置ズレの値が所定の値を超える場合には、基板WAおよび基板WBの少なくともいずれかを再セットする。
基板保持部22b、および保持部23c上において、基板WA、WBの位置が所定の範囲内におさまるように、基板WA、WBの外形の片側を基準として位置決めを行う図示しない位置決め装置を設けることもできる。そして、図示しない位置決め装置により再度位置決めを行うこともできる。
次に、位置ズレ量の補正を行う(ステップS8)。
例えば、位置制御部23aにより、昇降部23bを介して保持部23cのX方向、Y方向、Z方向、およびθ方向(回転方向)の位置を調整する。すなわち、基板WAの位置に基板WBの位置を合わせる。
次に、基板WAと基板WBを接着する(ステップS9)。
例えば、昇降部23bにより保持部23cを上昇させ、基板WAと基板WBを接着する。
基板WAの表面にある液滴状の接着剤Bの頂部が基板WBと接触すると、液滴状の接着剤Bが押し広げられて接着層B1が形成される。
ここで、基板WAと基板WBとの間に設けられた接着層B1の厚み寸法がバラツクと、表示装置の品質が悪化するおそれがある。
そのため、接着層B1の厚み寸法が所定の範囲内となるように、保持部23cの上昇位置(Z方向の位置)を制御する。
例えば、旋回後の基板保持部22bの載置面22b1のZ方向の位置と、保持部23cのZ方向の位置は、予め測定することで知ることができる。
また、基板WAおよび基板WBの厚み寸法は、ステップS3において測定することで知ることができる。
そのため、所望の接着層B1の厚み寸法とするための保持部23cの上昇位置は、これらの値から演算することができる。すなわち、昇降部23bによる上昇量を演算することができる。
なお、これらの演算は、制御部40により演算することができる。そして、演算された上昇量に基づいて、制御部40により昇降部23bを制御して、接着層B1の厚み寸法が所定の範囲内となるようにする。
ここで、基板WAと基板WBを接着する際には、旋回後の基板保持部22bを上方に持ち上げる方向の力が生ずる。この力により旋回後の基板保持部22bの位置が変化すると、接着層B1の厚み寸法の精度が悪くなる。
しかしながら、本実施の形態に係る表示装置の製造装置1においては、押圧部25と支持部22dとが協働して旋回後の基板保持部22bの位置を維持するようになっているので、接着層B1の厚み寸法の精度が悪くなることがない。
また、前述した調整部22d1やフローティング部22eを設けているので、旋回後の基板保持部22bの載置面22b1が、保持部23cの上面に対して平行となっている。すなわち、基板WAと基板WBが平行となっている。
そのため、接着層B1の厚み寸法の面内バラツキをも抑制することができる。
次に、接着層B1の一部の領域を硬化させる(ステップS10)。
すなわち、基板WAと基板WBとを仮止めする。
例えば、照射部26により、基板WAと基板WBとの間に形成された接着層B1の一部の領域に向けて紫外線を照射する。
この場合、駆動部13により貼り合わせ部20(基板WAおよび基板WB)のX方向の移動を行い、移動部26bにより照射ヘッド26aのY方向の移動を行い、基板保持部22bに設けられた孔部22b2を介して、接着層B1に向けて紫外線を照射する。
この際、基板WAおよび基板WBの周縁近傍に紫外線を照射するようにする。
基板WAおよび基板WBの周縁近傍の接着層B1を部分的に硬化させることで、接着層B1の厚み寸法を維持させることができる。
接着層B1の一部の領域を硬化させた基板WAおよび基板WBは、表示装置の製造装置1から取り外され、紫外線照射装置などにより接着層B1の全域が硬化される。
すなわち、本実施の形態に係る表示装置の製造方法は、以下の工程を備えることができる。
基板WAを保持した基板保持部22bを旋回させて、基板WAと保持部23cに保持された基板WBとを対峙させる工程。
保持部23cを昇降させて、接着層B1を介して、基板WAと基板WBとを接着する工程。
そして、基板WAを保持した基板保持部22bを旋回させて、基板WAと保持部23cに保持された基板WBとを対峙させる工程において、旋回後の基板保持部22bを支持する支持部22dの上端に設けられ、旋回後の基板保持部22bと支持部22dの上端との間の距離を調整する調整部22d1により、旋回後の基板保持部22bの載置面22b1が、保持部23cの上面に対して平行になる。
また、旋回後の基板保持部22bを支持部22dに向けて、押圧部25により押圧する工程をさらに備えることができる。
また、接着層B1が紫外線硬化型樹脂を含んでいる場合には、接着層B1の一部の領域に紫外線を照射する工程をさらに備えることができる。
以上に例示をした実施形態によれば、接着層B1の厚み寸法の精度を向上させることができる表示装置の製造装置、および表示装置の製造方法を実現することができる。
以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。
1 表示装置の製造装置、10 移動部、11 基台、12 ガイド部、13 駆動部、20 貼り合わせ部、21 基部、22 基板反転部、22a 旋回部、22b 基板保持部、22b1 載置面、22c 支持部、22d 支持部、22d1 調整部、22e フローティング部、23 基板載置部、23a 位置制御部、23b 昇降部、23c 保持部、25 押圧部、25a 爪、26 照射部、26a 照射ヘッド、26b 移動部、30 検出部、31 測定部、32 撮像部、33 移動部、40 制御部、B 接着剤、B1 接着層、WA 基板、WB 基板

Claims (12)

  1. 第1の基板を保持する第1の保持部と、
    第2の基板を保持する第2の保持部と、
    前記第1の保持部を旋回させて、前記第1の基板と、前記第2の基板と、を対峙させる旋回部と、
    前記旋回部と、前記第1の保持部と、の間に設けられ、変位可能に構成されたフローティング部と、
    旋回後の前記第1の保持部を支持する支持部と、
    前記支持部の上端に設けられ、前記旋回後の前記第1の保持部と、前記支持部の上端と、の間の距離を調整する調整部と、
    前記第2の保持部を昇降させて、接着層を介して、前記第1の基板と、前記第2の基板と、を接着する昇降部と、
    を備えた表示装置の製造装置。
  2. 前記フローティング部は、前記第1の保持部が前記旋回部の旋回軸に対して変位可能となるように構成されている請求項1記載の表示装置の製造装置。
  3. 前記フローティング部は、前記旋回部の旋回軸に設けられた軸部と、一端側に前記軸部が挿通し、他端側が前記第1の保持部に設けられたプレート部と、前記軸部に沿って、前記軸部の端部と前記プレートの一端側との間の位置に設けられた弾性部とを有する請求項2記載の表示装置の製造装置。
  4. 前記弾性部は、前記プレート部を挟んで設けられた第1の弾性部と、第2の弾性部とにより構成されている請求項3記載の表示装置の製造装置。
  5. 前記旋回後の前記第1の保持部を前記支持部に向けて押圧する押圧部をさらに備えた請求項1〜4のいずれか1つに記載の表示装置の製造装置。
  6. 前記支持部と、前記押圧部と、が協働して、前記旋回後の前記第1の保持部の位置を維持する請求項に記載の表示装置の製造装置。
  7. 前記第1の保持部に保持された前記第1の基板の厚み寸法と、前記第2の保持部に保持された前記第2の基板の厚み寸法と、を測定する測定部と、
    前記第1の基板の厚み寸法と、前記第2の基板の厚み寸法と、に基づいて、前記接着層の厚み寸法が所定の範囲内となるように前記昇降部を制御する制御部と、
    をさらに備えた請求項1〜のいずれか1つに記載の表示装置の製造装置。
  8. 前記接着層は、紫外線硬化型樹脂を含み、
    前記接着層の一部の領域に紫外線を照射する照射部をさらに備えた請求項1〜のいずれか1つに記載の表示装置の製造装置。
  9. 前記第2の保持部の位置制御を行う位置制御部をさらに備えた請求項1〜のいずれか1つに記載の表示装置の製造装置。
  10. 第1の基板を保持した第1の保持部を旋回させて、前記第1の基板と、第2の保持部に保持された第2の基板と、を対峙させる工程と、
    前記第2の保持部を昇降させて、接着層を介して、前記第1の基板と、前記第2の基板と、を接着する工程と、
    を備え、
    前記第1の基板と、第2の保持部に保持された第2の基板と、を対峙させる工程において、
    前記旋回後の前記第1の保持部を支持する支持部の上端に設けられ、前記旋回後の第1の保持部と、前記支持部の上端と、の間の距離を調整する調整部により、前記旋回後の前記第1の保持部の載置面が、前記第2の保持部の上面に対して平行になり、
    前記第1の保持部を旋回させて前記第1の基板と前記第2の基板とを対峙させる旋回部と、前記第1の保持部と、の間に設けられ、変位可能に構成されたフローティング部により、前記第1の保持部が前記旋回部の旋回軸に対して変位可能となる表示装置の製造方法。
  11. 前記旋回後の前記第1の保持部を前記支持部に向けて、押圧部により押圧する工程をさらに備え、
    前記支持部と、前記押圧部と、が協働して、前記旋回後の前記第1の保持部の位置を維持する請求項10記載の表示装置の製造方法。
  12. 前記接着層は、紫外線硬化型樹脂を含み、
    前記接着層の一部の領域に紫外線を照射する工程をさらに備え、
    前記紫外線を照射する工程において、
    前記第1の保持部に保持された前記第1の基板と、前記第2の保持部に保持された前記第2の基板と、を対峙させた状態で、紫外線を照射する照射部から前記接着層の一部の領域に紫外線を照射する請求項10または11に記載の表示装置の製造方法。
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