JP6090145B2 - 金属薄膜/ポリイミド積層体の密着強度判定方法、及び、それを用いた金属化ポリイミドフィルム基板 - Google Patents
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積層前の前記ポリイミドフィルムにおける、積層面側の表面から100nm以内の極表面をエネルギー損失分光法により測定し、536eVにピークを有する場合に前記密着強度を良と判定することを特徴とする、金属薄膜/ポリイミド積層体の密着強度判定方法。
<実施例1>
ポリイミドフィルムとして、Kapton(登録商標) 150EN(東レ・デュポン製)の38μmを用い、真空度0.01〜0.1Paに保持されたチャンバー内で150℃、1分間の加熱処理を行った。なお、このポリイミドフィルムは積層表面未処理である。
実施例1のポリイミドフィルムとは、製法やロットの異なる各種のポリイミドフィルムを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2、比較例1、2の金属化ポリイミドフィルム基板を得た。
図1に各実施例のサンプルのEELSスペクトルを、表1にポリイミドフィルム極表面の536eVのEELSピークの有無と、金属被覆ポリイミド基板の接合部の密着強度との関係をまとめて示す。なお、試験片やEELSの測定装置、条件は以下の通りである。
試験片作成:FIB−マイクロサンプリング法を用いて観察箇所を摘出した後、サンプルの厚さが約100nmになるまでFIB加工を施した。この加工は集束イオンビーム加工装置FB−2010F(日立製作所製)を用いた。その後、イオンミリング装置PIPS Model−691(Gatan製)を使用し、Arイオンミリング法を用いてFIB加工によりTEM観察面上に形成されたダメージ層を除去することにより、TEM観察用薄膜試料を作製した。
測定装置:電界放射型透過型電子顕微鏡JEM−2010F(日本電子製)で観察し、EELS Spectrometer(Model 776 Enfina 1000、Gatan製)でEELSプロファイルを得た。
測定条件:加速電圧200kV、ビーム径約1nmで測定し、酸素のK損失端を評価した。
密着強度測定条件:JIS C 6471 8.1(銅はくの引きはがし強さ)常態 方法A、により評価した。
Claims (3)
- ポリイミドフィルム表面に金属薄膜が積層されている金属薄膜/ポリイミド積層体における、前記金属薄膜と前記ポリイミドフィルムとの密着強度の良否判定方法であって、
積層前の前記ポリイミドフィルムにおける、積層面側の表面から100nm以内の極表面をエネルギー損失分光法により測定し、536eVにピークを有する場合に前記密着強度を良と判定することを特徴とする、金属薄膜/ポリイミド積層体の密着強度判定方法。 - 前記金属がニッケル、銅、クロムより選択される1種以上である請求項1に記載の金属薄膜/ポリイミド積層体の密着強度判定方法。
- 前記金属薄膜の積層が蒸着法またはスパッタ法である請求項1または2に記載の金属薄膜/ポリイミド積層体の密着強度判定方法。
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