JP6088627B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
は、特に無線通信において大電力を受信した場合にRFタグのチップ本体の素子の劣化や
破壊を防止する保護回路を具備するRFタグに関する。
めている。特に、無線通信によりデータの交信を行うデータキャリアとして、RFID(
Radio Frequency Identification)技術を利用したRF
タグ(以下、本明細書においてはカード型、チップ型等の形状を問わず総称してRFタグ
という)による個体識別技術が注目を集めている。RFタグは、IC(Integrat
ed Circuit)タグ、ICチップ、RFIDタグ、無線タグ、電子タグとも呼ば
れる。無線チップを用いた個体識別技術は、個々の対象物の生産、管理等に役立てられ始
めており、個人認証への応用も進められている。
グ等の送受信器との間を無線でデータのやりとりをする通信システムである。
い。つまり、リーダ/ライタが指定する領域にRFタグが存在しさえすれば、リーダ/ラ
イタはRFタグと通信し、RFタグとデータのやりとりをおこなうことができる。
Fタグへの電力供給効率を高める研究開発が盛んである(例えば特許文献1を参照)。
取る場合、リーダ/ライタとそれぞれのRFタグとの間の距離(以下、通信距離と記す)
は全く同じではない。また、RFタグが貼り付けられた商品をカートンに詰めてフォーク
リフトでリーダ/ライタの前を通過するなど、通信距離は時々刻々と変化する場合もあり
得る。
る。つまり、通信距離によってリーダ/ライタからRFタグへ供給される電力は異なる。
場合には、RFタグに大電力が供給されてしまう。大電力がRFタグに供給されてしまっ
た場合、RFタグはリーダ/ライタからの信号を正確に復調できずに誤動作し、RFタグ
の内部素子が劣化する。また最悪の場合には、RFタグ自体が破壊されたりする可能性が
ある。
もRFタグが正常に動作し、かつ、信頼性の高いRFタグを提供することを課題とする。
交信を行うRFタグにおいて、外部より供給される電力と基準となる電力との比較を行う
比較回路と、前記比較回路において前記外部より供給される電力が前記基準となる電力に
対し高い場合に動作する保護回路部と、を有することを特徴とする。
較回路と、比較回路において外部より供給される電力が基準となる電力に対し高い場合に
動作する保護回路部と、を有することを特徴とする。
源回路部に外部より供給される電力と、基準となる電力との比較を行う比較回路と、比較
回路において外部より供給される電力が基準となる電力に対し高い場合に動作する保護回
路部と、を有することを特徴とする。
を行う比較回路と、スイッチおよび負荷を有する保護回路部とを有し、比較回路において
外部より供給される電力が基準となる電力に対し高い場合に、スイッチをオンにすること
で保護回路部を動作させることを特徴とする。
源回路部に外部より供給される電力と、基準となる電力との比較を行う比較回路と、スイ
ッチおよび負荷を有する保護回路部とを有し、比較回路において外部より供給される電力
が基準となる電力に対し高い場合に、スイッチをオンにすることで保護回路部を動作させ
ることを特徴とする。
より供給されるものであってもよい。
及び保護回路部は、入力回路部に設けられていてもよい。
供給される電力と、基準となる電力との比較を行う充電用比較回路と、充電用比較回路に
おいて外部より供給される電力が基準となる電力に対し高い場合に動作する充電用保護回
路部と、を有する構成でもよい。
供給される電力と、基準となる電力との比較を行う充電用比較回路と、スイッチと、負荷
を有する充電用保護回路部とを有し、充電用比較回路において外部より供給される電力が
基準となる電力に対し高い場合に、充電用保護回路部におけるスイッチをオンにすること
で充電用保護回路部を動作させる構成でもよい。
合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ライタとの通信距離が
極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって生じる不具合を防ぐ
ことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち、RFタグ内部の素
子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正常に動作させること
ができる。
くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱するこ
となくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従
って、実施の形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、実施
の形態及び実施例を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分
には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
本発明の第1実施形態について図1を用いて説明する。
と基準電圧V_BIASを比較するための手段である比較回路12と、保護回路部10を
有する。保護回路部10は、入力電圧VINと基準電圧V_BIASと比較した結果をう
けてオン又はオフするようなスイッチ13と、負荷14を有する。
化させるような負荷14を有している。なお保護回路部10において、負荷14はスイッ
チ13と−V端子の間に配置しても良い。さらに保護回路部10において、スイッチ13
自体の負荷を利用できる場合は、負荷14はなくても構わない。
子から入力された電圧がV_BIASより小さいときは、スイッチ13をオフのままにし
、+V端子から入力された電圧がV_BIASより大きいときは、スイッチ13をオンに
する。
チ13がオンの時、保護回路部10のインピーダンスはZ2であり、入力インピーダンス
はZ1とZ2の並列接続であらわされ、((1/Z1+1/Z2)−1)となる。一方、
保護回路部10におけるスイッチ13がオフの時、保護回路部10のインピーダンスZ2
は実質無限大であり、入力インピーダンスはZ1となる。
体的には、図11(a)、図11(b)を用いて説明する。
の間に抵抗器R1および抵抗器R2を直列に接続し、抵抗器R1と抵抗器R2の接続地点
の電位を入力電圧VIN2とする。入力電圧VIN2と基準電圧V_BIASを比較回路
12において比較する方法をとっても良い。
すなどして、電流I2を検出し、検出された電流I2と基準電流I1を電流比較回路16
において比較することも可能である。
て内部回路を動作させる。
テナの−端子が接続される。アンテナで受信した電力は、チップ本体内部へ伝達され、内
部回路が動作する。このとき、リーダ/ライタとRFタグとの間の距離(以下、通信距離
と記す)が極端に短く、アンテナで受信した電力が大きすぎた場合、すなわち、入力電圧
VINが非常に大きい場合は、スイッチ13をオンにし、保護回路部10のインピーダン
スがZ2となる。このとき、チップ本体の入力インピーダンスはZ1とZ2の並列接続で
あらわされ、((1/Z1+1/Z2)−1)となる。図1の構成とすることで、アンテ
ナとチップ本体とのインピーダンス整合がずれ、アンテナが大電力を受け取ったとしても
RFタグ内部へはあまり伝達されないようにすることができる。したがって、RFタグ内
部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正常に動作させ
ることができる。
タグを構成するアンテナとチップ本体とのインピーダンス整合を意図的にずらし、アンテ
ナが大電力を受け取ったとしてもRFタグ内部へはあまり伝達されないようにすることが
できる。したがって、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊すること
なく、RFタグを正常に動作させることができる。
ンテナ112と、入力回路部121およびロジック回路部122からなるチップ本体12
0と、を有する。なお、アンテナ112は、チップ本体120とは別に作製し、別の工程
にて接続してRFタグを形成することができる。より良くは、アンテナ112とチップ本
体120は同じ工程で形成されることが好ましい。
へ変換するための整流回路部103と、安定した電圧を内部回路へ供給するための定電圧
電源回路部104と、アンテナ112から受信した電力が過剰であった場合、内部回路を
保護するための保護回路部101(リミッタ回路部ともいう)と、保護回路部101を動
作させるかどうかを制御するための保護回路制御回路部102と、内部回路へ供給するク
ロック信号を生成するためのクロック生成回路部105と、アンテナ112から受信した
データをデジタル信号へ復調するための復調回路部106と、符号化されたデータを変調
するための変調回路部111と、を有する。なお、図2の保護回路制御回路部102は、
図1の比較回路12に相当する。
する命令解析部と復調されたデータが正常に受信できたかどうかを判定するための判定回
路部107と、記憶装置108(以下、メモリと記す)と、メモリを制御するためのコン
トローラ回路部109と、データを符号化するための符号化回路部110と、を有する。
はアンテナ112の−端子に接続されている。変調回路部111は、符号化回路部110
において符号化された信号を入力され、負荷変調をおこなう。復調回路部106は、+V
端子から入力された電波を復調し、復調後の信号を出力する。復調後の信号はロジック回
路部122内の符号化回路部へ入力される。定電圧電源回路部104は、整流回路部10
3において整流された電圧VINと−V端子の電圧が入力され、定電圧化された電源電圧
VDDと基準電圧V_BIASを出力する。VDD端子はクロック生成回路部105やロ
ジック回路部122へ接続され、各回路へ電源を供給している。V_BIAS端子は保護
回路制御回路部102へ接続され、ノードqの電位を決定するための基準電圧となる。ク
ロック生成回路部105は、電源電圧VDDと−V端子の電圧が入力され、基準クロック
信号を出力する。クロック生成回路部105の出力端子はロジック回路部122へ接続さ
れており、ロジック回路部122内部の各回路へクロック信号を供給している。
量302を充電するためのダイオード301と、−V端子より入力された交流電源を直流
電源へ変換(整流)し、容量304を充電するためのダイオード303と、ダイオード3
01において整流された直流電源電圧を保持するための容量302と、+V端子より入力
された電波を検波し、ダイオード303において整流された電荷を保持するための容量3
04と、を有する。また、RFタグでは、リセット(非動作)時にチップ本体120内部
に蓄積された電荷を放電するための抵抗305を備えることが好ましい。
ている。容量302の一端はダイオード301に接続され、他端は−V端子に接続されて
いる。ダイオード303の出力端子は容量304に接続され、入力端子は−V端子に接続
されている。容量304の一端は+V端子に接続され、他端はダイオード303に接続さ
れている。本明細書において、整流回路部103の出力端子をVIN端子と呼ぶ。
放電するための抵抗305を備える場合には、抵抗305の一端はVIN端子に接続され
、他端は−V端子に接続される。
用した場合について説明したが、これに限らず半波4倍圧整流回路や半波6倍圧整流回路
や全波整流回路などを用いてもよい。
明する。
AS)によって駆動されるトランジスタ204と、位相補償容量205と、ノードpの電
位を決定するためのダイオード207と、抵抗206と、ノードpの電位の変化を受け取
って、ノードqの電位を変化させるためのトランジスタ203と、を有する。
02と、トランジスタ202がオンしたときに電流が流れ、チップ本体120の入力イン
ピーダンスを変化させるための負荷201と、を有する。
体120の入力インピーダンスの変化量を制御する。たとえば、負荷201は、容量素子
、抵抗、インダクタ等で構成される。
されている。ダイオード207の一端は抵抗206に接続されており、他端は−V端子に
接続されている。図3において抵抗206とダイオード207の接続点をノードpとする
。トランジスタ203は、ゲート電極をノードpに接続され、ソース電極を+V端子に接
続され、ドレイン電極をトランジスタ204と接続されている。トランジスタ204は、
ゲート電極を定電圧電源回路部104の基準電圧(V_BIAS)出力端子に接続され、
ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極をトランジスタ203と接続されている
。図3においてトランジスタ204とトランジスタ203の接続点をノードqとする。ト
ランジスタ204のソース端子とドレイン端子の間には容量205が接続されている。ま
た、トランジスタ204のドレイン電極は、トランジスタ202のゲート電極に接続され
ている。トランジスタ202は、ゲート電極をトランジスタ204のドレイン電極と接続
され、ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極を負荷201と接続されている。
負荷201は、一端をトランジスタ202のドレイン電極と接続され、他端を+V端子に
接続されている。
れに限らず、通常動作時(保護回路部101を動作させたくないとき)にノードpをトラ
ンジスタ203がオンしないような電位に保つことができれば良い。
ード素子を用いる必要はなく、MOSトランジスタのゲート電極とドレイン電極を導通さ
せて用いても良い。
路部104の機能により、トランジスタ204のゲート電極に印加される電圧(V_BI
AS)は一定であり、トランジスタ204は定電流源として機能する。
203はオフであり、ノードqの電位は−V端子の電位よりトランジスタ204のしきい
値電圧分だけ高い電位のまま一定である。
、トランジスタ202はオフしている。よって、負荷201に電流はほとんど流れずチッ
プ本体120の入力インピーダンスは変化しない。したがって、RFタグ100は通常動
作する。
ダイオード207のしきい値電圧より高くなるとダイオード207に電流が流れるため、
ノードpの電位は下がる。これにともない、トランジスタ203はオンする。
ノードqの電位がトランジスタ202のしきい値電圧以上になるとトランジスタ202が
オンして、負荷201に電流が流れる。
プ本体120とのインピーダンス整合がずれるということを意味する。言い換えれば、反
射係数が大きくなるということである。
スの整合がずれると電力の反射が起こり、電力の伝達効率が悪くなる。つまり、アンテナ
112が受け取った電力をチップ本体120へ効率良く伝達するためには、アンテナ11
2とチップ本体120とのインピーダンス整合を合わせる必要がある。
されてしまった場合には、負荷201に電流を流してチップ本体120のインピーダンス
を変化させ、アンテナ112とのインピーダンス整合を意図的にずらす。このため、アン
テナ112が大電力を受け取ったとしてもチップ本体120内部へはあまり伝達されない
ので、RFタグの内部素子が劣化し、RFタグ自体が破壊されたりすることなく動作させ
ることができる。
社製 N5230A)と、アンプ902(R&K社製 RK−A250L−SMA)と、
サーキュレータ903(NOVA MICROWAVE社製 0100CAS)と、をそ
れぞれ同軸ケーブル904で接続し、電波シールドボックス905内に設置されたマニュ
アルプローバに高周波測定用プローブ906(CASCADE MICROTECH社製
ACP40−LW−GSG−200)を設置しておこなった。
子3とすると、端子1から入力された信号は端子2にのみ出力され、端子2から入力され
た信号は端子3にのみ出力され、端子3から入力された信号は端子1にのみ出力される。
本測定では、端子3を50Ω終端し、端子1に入力された信号が端子2から出力されるだ
けのアイソレータとして用いた。また、測定サンプル900の入力インピーダンスによっ
ては、測定サンプル900へ入力されるはずの電力が反射されてしまうことがある。この
ような場合に備え、アンプ902を保護する目的でアッテネータ907(ヒロセ電機社製
AT−1003)を介して接続した。
乃至図10(d)に示す。
とき入力電力を−2dBmから18dBmまで高くしていったときの、RFタグの入力イ
ンピーダンスを50Ωで規格化したスミスチャートである。また、図10(b)は負荷と
して抵抗素子を配置したRFタグに関して、周波数915MHzのとき入力電力を−2d
Bmから18dBmまで高くしていったときの、RFタグの入力インピーダンスを50Ω
で規格化したスミスチャートである。
Ωに近づいていった。
とき入力電力を−2dBmから18dBmまで高くしていったときの、入力電力に対する
S11をプロットしたグラフである。また、図10(d)は負荷として抵抗素子を配置し
たRFタグに関して、周波数915MHzのとき入力電力を−2dBmから18dBmま
で高くしていったときの、入力電力に対するS11をプロットしたグラフである。
少した。入力電力が14dBm程度のとき、S11は急激に変化した。入力電力が15d
Bm以上になると、S11は、また徐々に減少した。以上より、入力電力14dBm以上
のとき、トランジスタ202がオンしてRFタグの入力インピーダンスは大きく変化した
ことがわかる。
、ノードpを所望の電位になるように設計すればよい。また、RFタグの入力インピーダ
ンスの変化量を調整したい場合には、トランジスタ202に流れる電流量や負荷201の
大きさを所望の値になるように設計すればよい。
0(e)、図10(f)に示す。
電力P1と実質的にデバイス内部へ伝達された電力P2の比を表す。P2は該デバイスの
入力インピーダンスを測定して得られた反射係数を考慮して算出することができる。
置したRFタグの供給電力に対する整合度を表すグラフである。
3dBmまでは、入力電力が大きくなるにつれて、整合度は徐々に小さくなっていった。
入力電力が14dBm程度のとき、整合度は急激に悪くなった。入力電力が16dBm以
上になると、整合度は−9dB以下となった。以上より、入力電力が14dBm以上のと
き、アンテナで受信した電力は反射されRFタグ内部には伝達されない割合が徐々に高く
なり、入力電力が16dBm以上になると、アンテナで受信した電力はほぼ全て反射され
RFタグ内部にはほとんど伝達されないことがわかる。
)、図10(f)に示したグラフは、RFタグが正常動作するのに必要な最低動作電力を
印加したときのRFタグの入力インピーダンスとアンテナのインピーダンスとが100%
整合(マッチング)するように設計した場合、入力電力を変化させることで、RFタグと
アンテナのインピーダンス整合がどのくらい変化するのかを表している。
力に対するチップ本体の入力インピーダンスの変化を実際に観察することができた。チッ
プ本体120のインピーダンスを変化させ、アンテナ112とのインピーダンス整合を意
図的にずらすことができたため、アンテナ112が大電力を受け取ったとしてもチップ本
体120内部へはあまり伝達されず、RFタグの内部素子が劣化し、RFタグ自体が破壊
されたりすることなく動作させることができた。
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
できる。
ランジスタ202に電流が流れるか流れないかによってチップ本体120のインピーダン
スは変化する。チップ本体120のインピーダンスを変化させたい度合いによってトラン
ジスタ202に流すべき電流量を見積もることができる。よって、トランジスタ202の
サイズはチップ本体120のインピーダンスが充分変化するような電流量を流すことがで
きるように設計すればよい。
120のインピーダンスを変化させ、アンテナ112とのインピーダンス整合を意図的に
ずらすことができる。このため、アンテナ112が大電力を受け取ったとしてもチップ本
体120内部へはあまり伝達されないので、RFタグの内部素子が劣化し、RFタグ自体
が破壊されたりすることなく動作させることができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
4とダイオード301の間に保護回路部を配置してもよい。
はアンテナ112の−端子に接続されている。変調回路部111は、符号化回路部110
において符号化された信号を入力され、負荷変調をおこなう。復調回路部106は、+V
端子から入力された電波を復調し、復調後の信号を出力する。復調後の信号はロジック回
路部122内の符号化回路部へ入力される。定電圧電源回路部104は、整流回路部30
0において整流された電圧VINと−V端子の電圧が入力され、定電圧化した電源電圧V
DDと基準電圧V_BIASを出力する。VDD端子はクロック生成回路部105やロジ
ック回路部122へ接続され、各回路へ電源を供給している。V_BIAS端子は保護回
路制御回路部102へ接続され、ノードqの電位を決定するための基準電圧となる。クロ
ック生成回路部105は、電源電圧VDDと−V端子の電圧が入力され、基準クロック信
号を出力する。クロック生成回路部105の出力端子はロジック回路部122へ接続され
ており、ロジック回路部122内部の各回路へクロック信号を供給している。
量302を充電するためのダイオード301と、−V端子より入力された交流電源を直流
電源へ変換(整流)し、容量304を充電するためのダイオード303と、ダイオード3
01において整流された直流電源電圧を保持するための容量302と、+V端子より入力
された電波を検波し、ダイオード303において整流された電荷を保持するための容量3
04と、を有する。また、RFタグでは、リセット(非動作)時にチップ本体120内部
に蓄積された電荷を放電するための抵抗305を備えることが好ましい。
ている。容量302の一端はダイオード301に接続され、他端は−V端子に接続されて
いる。ダイオード303の出力端子は容量304に接続され、入力端子は−V端子に接続
されている。容量304の一端は+V端子に接続され、他端はダイオード303に接続さ
れている。本明細書において、整流回路部300の出力端子をVIN端子と呼ぶ。
放電するための抵抗305を備える場合には、抵抗305の一端はVIN端子に接続され
、他端は−V端子に接続される。
く説明する。
AS)によって駆動されるトランジスタ204と、位相補償容量205と、ノードpの電
位を決定するためのダイオード207と、抵抗206と、ノードpの電位が変化を受け取
って、ノードqの電位を変化させるためのトランジスタ203と、を有する。
02と、トランジスタ202がオンしたときに電流が流れ、チップ本体120の入力イン
ピーダンスを変化させるための負荷201と、を有する。
されている。ダイオード207の一端は抵抗206に接続されており、他端は−V端子に
接続されている。図4において抵抗206とダイオード207の接続点をノードpとする
。トランジスタ203は、ゲート電極をノードpに接続され、ソース電極を+V端子に接
続され、ドレイン電極をトランジスタ204と接続されている。トランジスタ204は、
ゲート電極を定電圧電源回路部104の基準電圧(V_BIAS)出力端子に接続され、
ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極をトランジスタ203と接続されている
。図4においてトランジスタ204とトランジスタ203の接続点をノードqとする。ト
ランジスタ204のソース端子とドレイン端子の間には容量205が接続されている。ま
た、トランジスタ204のドレイン電極は、トランジスタ202のゲート電極に接続され
ている。トランジスタ202は、ゲート電極をトランジスタ204のドレイン電極と接続
され、ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極を負荷201と接続されている。
負荷201は、一端はトランジスタ202のドレイン電極と接続され、他端は+V端子に
接続されている。
れに限らず、通常動作時(保護回路部101を動作させたくないとき)にノードpをトラ
ンジスタ203がオンしないような電位に保つことができれば良い。
ード素子を用いる必要はなく、MOSトランジスタのゲート電極とドレイン電極を導通さ
せて用いても良い。
部104の機能により、トランジスタ204のゲート電極に印加される電圧(V_BIA
S)は一定であり、トランジスタ204は定電流源として機能する。
203はオフであり、ノードqの電位は−V端子の電位よりトランジスタ204のしきい
値電圧分だけ高い電位のまま一定である。
、トランジスタ202はオフしている。よって、負荷201に電流はほとんど流れずチッ
プ本体120の入力インピーダンスは変化しない。したがって、RFタグ100は通常動
作する。
ダイオード207のしきい値電圧より高くなるとダイオード207に電流が流れるため、
ノードpの電位は下がる。これにともない、トランジスタ203はオンする。
ノードqの電位がトランジスタ202のしきい値電圧以上になるとトランジスタ202が
オンして、負荷201に電流が流れる。
プ本体120とのインピーダンス整合がずれるということを意味する。言い換えれば、反
射係数が大きくなるということである。
スの整合がずれると電力の反射が起こり、電力の伝達効率が悪くなる。つまり、アンテナ
112が受け取った電力をチップ本体120へ効率良く伝達するためには、アンテナ11
2とチップ本体120とのインピーダンス整合を合わせる必要がある。
されてしまった場合には、負荷201に電流を流してチップ本体120のインピーダンス
を変化させ、アンテナ112とのインピーダンス整合を意図的にずらす。このため、アン
テナ112が大電力を受け取ったとしてもチップ本体120内部へはあまり伝達されない
ので、RFタグの内部素子が劣化し、RFタグ自体が破壊されたりすることなく動作させ
ることができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
できる。
ジスタ202に電流が流れるか流れないかによってチップ本体120のインピーダンスは
変化する。チップ本体120のインピーダンスを変化させたい度合いによってトランジス
タ202に流すべき電流量を見積もることができる。よって、トランジスタ202のサイ
ズはチップ本体120のインピーダンスが充分変化するような電流量を流すことができる
ように設計すればよい。
120のインピーダンスを変化させ、アンテナ112とのインピーダンス整合を意図的に
ずらすことができる。このため、アンテナ112が大電力を受け取ったとしてもチップ本
体120内部へはあまり伝達されないので、RFタグの内部素子が劣化し、RFタグ自体
が破壊されたりすることなく動作させることができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
はアンテナ112の−端子に接続されている。変調回路部111は、符号化回路部110
において符号化された信号を入力され、負荷変調をおこなう。復調回路部106は、+V
端子から入力された電波を復調し、復調後の信号を出力する。復調後の信号はロジック回
路部122内部の符号化回路へ入力される。定電圧電源回路部104は、整流回路部50
0において整流された電圧VINと−V端子の電圧が入力され、定電圧化した電源電圧V
DDと基準電圧V_BIASを出力する。VDD端子はクロック生成回路部105やロジ
ック回路部122へ接続され、各回路へ電源を供給している。V_BIAS端子は保護回
路制御回路部102へ接続され、ノードqの電位を決定するための基準電圧となる。クロ
ック生成回路部105は、電源電圧VDDと−V端子の電圧が入力され、基準クロック信
号を出力する。クロック生成回路部105の出力端子はロジック回路部122へ接続され
ており、ロジック回路部122内部の各回路へクロック信号を供給している。
く説明する。
AS)によって駆動されるトランジスタ204と、位相補償容量205と、ノードpの電
位を決定するためのダイオード207と、抵抗206と、ノードpの電位が変化を受け取
って、ノードqの電位を変化させるためのトランジスタ203と、を有する。保護回路部
101は、ノードqの電位が変化することで制御され、+V端子より−V端子の方が高電
位のとき、容量504へ電荷を供給するためのトランジスタ208を有する。
量502を充電するためのダイオード501と、ダイオード501において整流された直
流電源電圧を保持するための容量502と、+V端子より入力された電波を検波し、トラ
ンジスタ208から供給される電荷を保持するための容量504と、を有する。また、R
Fタグでは、リセット(非動作)時にチップ本体120内部に蓄積された電荷を放電する
ための抵抗505を備えることが好ましい。
ている。容量502の一端はダイオード501に接続され、他端は−V端子に接続されて
いる。容量504の一端は+V端子に接続され、他端はトランジスタ208に接続されて
いる。本明細書において、整流回路部500の出力端子をVIN2端子と呼ぶ。
放電するための抵抗505を備える場合には、抵抗505の一端はVIN2端子に接続さ
れ、他端は−V端子に接続される。
く、MOSトランジスタのゲート電極とドレイン電極を導通させて用いても良い。
続されている。ダイオード207の一端は抵抗206に接続されており、他端は−V端子
に接続されている。図5において抵抗206とダイオード207の接続点をノードpとす
る。トランジスタ203は、ゲート電極をノードpに接続され、ソース電極を+V端子に
接続され、ドレイン電極をトランジスタ204と接続されている。トランジスタ204は
、ゲート電極を定電圧電源回路部104の基準電圧(V_BIAS)出力端子に接続され
、ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極をトランジスタ203と接続されてい
る。図5においてトランジスタ204とトランジスタ203の接続点をノードqとする。
トランジスタ204のソース端子とドレイン端子の間には容量205が接続されている。
また、トランジスタ204のドレイン電極は、トランジスタ208のゲート電極に接続さ
れている。トランジスタ208は、ゲート電極をトランジスタ204のドレイン電極と接
続され、図5においてsと表記した電極を−V端子に接続され、図5においてdと表記し
た電極を整流回路部500の容量504の一端と接続されている。
れに限らず、通常動作時(保護回路部101を動作させたくないとき)にノードpをトラ
ンジスタ203がオンしないような電位に保つことができれば良い。
能により、トランジスタ204のゲート電極に印加される電圧(V_BIAS)は一定で
あり、トランジスタ204は定電流源として機能する。
203はオフであり、ノードqの電位は−V端子の電位よりトランジスタ204のしきい
値電圧分だけ高い電位のまま一定である。
、トランジスタ208はオフしている。よって、チップ本体120の入力インピーダンス
は変化せず、RFタグ100は通常動作する。
ダイオード207のしきい値電圧より高くなるとダイオード207に電流が流れるため、
ノードpの電位は下がる。これにともない、トランジスタ203はオンする。
ノードqの電位がトランジスタ208のしきい値電圧以上になるとトランジスタ208が
オンする。このとき、トランジスタ208のソース電極とドレイン電極との間に流れる電
流の向きは入力電力によって反転する。ドレイン電極の電位がソース電極の電位より低い
とき電流はsからdの方向へ流れるので、容量502が充電される。また、ドレイン電極
の電位がソース電極電位より高いとき電流はdからsの方向へ流れるので、ダイオード5
01に流れる電流量が少なくなる。
ていないときに比べてチップ本体120のインピーダンスが変化する。
プ本体120とのインピーダンス整合がずれるということを意味する。言い換えれば、反
射係数が大きくなるということである。
スの整合がずれると電力の反射が起こり、電力の伝達効率が悪くなる。つまり、アンテナ
112が受け取った電力をチップ本体120へ効率良く伝達するためには、アンテナ11
2とチップ本体120とのインピーダンス整合を合わせる必要がある。
されてしまった場合には、トランジスタ208のソース端子からドレイン端子の方向へ電
流を流してチップ本体120のインピーダンスを変化させ、アンテナ112とのインピー
ダンス整合を意図的にずらす。このため、アンテナ112が大電力を受け取ったとしても
チップ本体120内部へはあまり伝達されないので、RFタグの内部素子が劣化し、RF
タグ自体が破壊されたりすることなく動作させることができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
ンテナ113と、バッテリー401と、バッテリー401の充放電を制御するための充電
回路部123と、を有する。
リー401の充電状況を管理するための充電機構制御回路部410と、アンテナ113か
ら受信した電力を交流から直流へ変換するための整流回路部600と、アンテナ113か
ら受信した電力が大過剰であった場合、内部回路を保護するための充電用保護回路部10
1bと、充電用保護回路部101bを動作させるかどうかを制御するための充電用保護回
路制御回路部102b(充電用比較回路ともいう)と、を有する。
工程にて接続してRFタグを形成することができる。より良くは、アンテナ113と充電
回路部123およびバッテリー401とが同じ工程で形成されることが好ましい。
電池のことをいう。
ムポリマー電池やリチウムイオン電池のようなシート状に形成されたものが好ましい。シ
ート状に形成された電池を用いることで、小型化(薄型化)が可能である。もちろん、充
電可能な電池であればこれらに限定されるものではなく、ニッケル水素電池、ニカド電池
などの充電放電可能な電池であっても良いし、また、大容量のコンデンサなどを用いても
良い。
端子はアンテナ113の−端子に接続されている。充電機構制御回路部410は、整流回
路部600において整流された電源VIN2が入力され、定電圧化した電源電圧VDD2
と基準電圧V2_BIASを出力する。定電圧化した電源電圧VDD2はバッテリー40
1へ供給される。基準電圧V2_BIASは充電用保護回路制御回路部102bへ供給さ
れる。
容量602を充電するためのダイオード601と、−V2端子より入力された交流電源を
直流電源へ変換(整流)し、容量604を充電するためのダイオード603と、ダイオー
ド601において整流された直流電源電圧を保持するための容量602と、+V2端子よ
り入力された電波を検波し、ダイオード603において整流された電荷を保持するための
容量604と、を有する。
ている。容量602の一端はダイオード601に接続され、他端は−V2端子に接続され
ている。ダイオード603の出力端子は容量604に接続され、入力端子は−V2端子に
接続されている。容量604の一端は+V2端子に接続され、他端はダイオード603に
接続されている。本明細書において、整流回路部600の出力端子をVIN3端子と呼ぶ
。
く説明する。
(V2_BIAS)によって駆動するトランジスタ204と、位相補償容量205と、ノ
ードpの電位を決定するためのダイオード207と、抵抗206と、ノードpの電位が変
化を受け取って、ノードqの電位を変化させるためのトランジスタ203と、を有する。
ジスタ202と、トランジスタ202がオンしたときに電流が流れ、チップ本体120の
入力インピーダンスを変化させるための負荷201と、を有する。
チップ本体120の入力インピーダンスの変化量を制御する。たとえば、容量素子や抵抗
やインダクタなどである。
続されている。ダイオード207の一端は抵抗206に接続されており、他端は−V2端
子に接続されている。図7において抵抗206とダイオード207の接続点をノードpと
する。トランジスタ203は、ゲート電極をノードpに接続され、ソース電極をVIN2
端子に接続され、ドレイン電極をトランジスタ204と接続されている。トランジスタ2
04は、ゲート電極を充電機構制御回路部410の基準電圧(V2_BIAS)出力端子
に接続され、ソース電極を−V2端子に接続され、ドレイン電極をトランジスタ203と
接続されている。図7においてトランジスタ204とトランジスタ203の接続点をノー
ドqとする。トランジスタ204のソース端子とドレイン端子の間には容量205が接続
されている。また、トランジスタ204のドレイン電極は、トランジスタ202のゲート
電極に接続されている。トランジスタ202は、ゲート電極をトランジスタ204のドレ
イン電極と接続され、ソース電極を−V2端子に接続され、ドレイン電極を負荷201と
接続されている。負荷201は、一端をトランジスタ202のドレイン電極と接続され、
他端を+V2端子に接続されている。
れに限らず、通常動作時(充電用保護回路部101bを動作させたくないとき)にノード
pをトランジスタ203がオンしないような電位に保つことができれば良い。
ード素子を用いる必要はなく、MOSトランジスタのゲート電極とドレイン電極を導通さ
せて用いても良い。
機能により、トランジスタ204のゲート電極に印加される電圧(V2_BIAS)は一
定であり、トランジスタ204は定電流源として機能する。
203はオフであり、ノードqの電位は−V2端子の電位よりトランジスタ204のしき
い値電圧分だけ高い電位のまま一定である。
、トランジスタ202はオフしている。よって、チップ本体120の入力インピーダンス
は変化せず、RFタグ400は通常動作する。
ダイオード207のしきい値電圧より高くなるとダイオード207に電流が流れるため、
ノードpの電位は下がる。これにともない、トランジスタ203はオンする。
ノードqの電位がトランジスタ202のしきい値電圧以上になるとトランジスタ202が
オンして、負荷201に電流が流れる。
は、アンテナ113と充電回路部123とのインピーダンス整合がずれるということを意
味する。言い換えれば、反射係数が大きくなるということである。
スの整合がずれると反射が起こり、電力の伝達効率が悪くなる。つまり、アンテナ113
が受け取った電力を充電回路部123へ効率良く伝達するためには、アンテナ113と充
電回路部123とのインピーダンス整合を合わせる必要がある。
されてしまった場合には、負荷201に電流を流して充電回路部123のインピーダンス
を変化させ、アンテナ113とのインピーダンス整合を意図的にずらす。このため、アン
テナ113が大電力を受け取ったとしても充電回路部123内部へはあまり伝達されない
ので、RFタグの内部素子が劣化し、RFタグ自体が破壊されたりすることなくバッテリ
ー401を充電することができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
ンテナ112と、バッテリー401を充電するのに必要な電波を受信するためのアンテナ
113と、入力回路部121およびロジック回路部122および充電回路部123からな
るチップ本体120と、を有する。なお、アンテナ112は、チップ本体120とは別に
作製し、後工程にてアンテナとチップ本体を一体形成することができる。より良くは、ア
ンテナ112とチップ本体120は一体形成されることが好ましい。
へ変換するための整流回路部103と、安定した電圧を内部回路へ供給するための定電圧
電源回路部104と、アンテナ112から受信した電力が大過剰であった場合、内部回路
を保護するための保護回路部101と、保護回路部101を動作させるかどうかを制御す
るための保護回路制御回路部102と、内部回路へ供給するクロック信号を生成するため
のクロック生成回路部105と、アンテナ112から受信したデータをデジタル信号へ復
調するための復調回路部106と、符号化されたデータを変調するための変調回路部11
1と、を有する。
を解析する命令解析部と復調されたデータが正常に受信できたかどうかを判定するための
判定回路部107と、記憶装置(以下、メモリと記す)108と、メモリを制御するため
のコントローラ回路部109と、データを符号化するための符号化回路部110と、を有
する。
ても併用することができる。また、入力回路部121にて用いた保護回路部101および
保護回路制御回路部102は接続せず、以下に説明する充電回路部123のみを接続して
も良い。以下に、第1実施例の入力回路部121を用いた場合について図3を用いて説明
する。
はアンテナ112の−端子に接続されている。変調回路部111は、符号化回路部110
において符号化された信号を入力され、負荷変調を行う。復調回路部106は、+V端子
から入力された電波を復調し、復調後の信号を出力する。復調後の信号はロジック回路部
122内部の符号化回路へ接続されている。
の電圧が入力され、定電圧化した電源電圧VDDと基準電圧V_BIASを出力する。V
DD端子はクロック生成回路部105やロジック回路部122へ接続され、各回路へ電源
を供給している。V_BIAS端子は保護回路制御回路部102へ接続され、ノードqの
電位を決定するための基準電圧となる。クロック生成回路部105は、電源電圧VDDと
−V端子の電圧が入力され、基準クロック信号を出力する。クロック生成回路部105の
出力端子はロジック回路部122へ接続されており、ロジック回路部122内部の各回路
へクロック信号を供給している。
量302を充電するためのダイオード301と、−V端子より入力された交流電源を直流
電源へ変換(整流)し、容量304を充電するためのダイオード303と、ダイオード3
01において整流された直流電源電圧を保持するための容量302と、+V端子より入力
された電波を検波し、ダイオード303において整流された電荷を保持するための容量3
04と、を有する。また、RFタグでは、リセット(非動作)時にチップ本体120内部
に蓄積された電荷を放電するための抵抗305を備えることが好ましい。
ている。容量302の一端はダイオード301に接続され、他端は−V端子に接続されて
いる。ダイオード303の出力端子は容量304に接続され、入力端子は−V端子に接続
されている。容量304の一端は+V端子に接続され、他端はダイオード303に接続さ
れている。本明細書において、整流回路部103の出力端子をVIN端子と呼ぶ。
放電するための抵抗305を備える場合には、抵抗305の一端はVIN端子に接続され
、他端は−V端子に接続される。
AS)によって駆動されるトランジスタ204と、位相補償容量205と、ノードpの電
位を決定するためのダイオード207と、抵抗206と、ノードpの電位が変化を受け取
って、ノードqの電位を変化させるためのトランジスタ203と、を有する。
02と、トランジスタ202がオンしたときに電流が流れ、チップ本体120の入力イン
ピーダンスを変化させるための負荷201と、を有する。
体120の入力インピーダンスの変化量を制御する。たとえば、容量素子や抵抗やインダ
クタなどである。
されている。ダイオード207の一端は抵抗206に接続されており、他端は−V端子に
接続されている。図3において抵抗206とダイオード207の接続点をノードpとする
。トランジスタ203は、ゲート電極をノードpに接続され、ソース電極をVIN端子に
接続され、ドレイン電極をトランジスタ204と接続されている。トランジスタ204は
、ゲート電極を定電圧電源回路部104の基準電圧(V_BIAS)出力端子に接続され
、ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極をトランジスタ203と接続されてい
る。図3においてトランジスタ204とトランジスタ203の接続点をノードqとする。
トランジスタ204のソース端子とドレイン端子の間に容量205が接続されている。ま
た、トランジスタ204のドレイン電極は、トランジスタ202のゲート電極に接続され
ている。トランジスタ202は、ゲート電極をトランジスタ204のドレイン電極と接続
され、ソース電極を−V端子に接続され、ドレイン電極を負荷201と接続されている。
負荷201は、一端をトランジスタ202のドレイン電極と接続され、他端を+V端子に
接続されている。
れに限らず、通常動作時(保護回路部101を動作させたくないとき)にノードpをトラ
ンジスタ203がオンしないような電位に保つことができれば良い。
ード素子を用いる必要はなく、MOSトランジスタのゲート電極とドレイン電極を導通さ
せて用いても良い。
用いて説明する。
圧をモニタし、バッテリー401の充電状況を管理するための充電機構制御回路部410
と、アンテナ113から受信した電力を交流から直流へ変換するための整流回路部600
と、アンテナ113から受信した電力が大過剰であった場合、内部回路を保護するための
充電用保護回路部101bと、充電用保護回路部101bを動作させるかどうかを制御す
るための充電用保護回路制御回路部102b(充電用比較回路ともいう)と、を有する。
電池のことをいう。
ムポリマー電池やリチウムイオン電池のようなシート状に形成されたものが好ましい。シ
ート状に形成された電池を用いることで、小型化(薄型化)が可能である。もちろん、充
電可能な電池であればこれらに限定されるものではなく、ニッケル水素電池、ニカド電池
などの充電放電可能な電池であっても良いし、また、大容量のコンデンサなどを用いても
良い。
機能により、トランジスタ204のゲート電極に印加される電圧(V2_BIAS)は一
定であり、トランジスタ204は定電流源として機能する。
203はオフであり、トランジスタ204のドレイン電圧は−V2端子と同電位のまま一
定である。
、トランジスタ202は常にオフしている。よって、負荷201に電流は流れずチップ本
体120の入力インピーダンスは変化しない。したがって、RFタグ700は通常動作す
る。
ダイオード207のしきい値電圧より高くなるとダイオード207に電流が流れるため、
ノードpの電位は下がる。これにともない、トランジスタ203はオンする。
ノードqの電位がトランジスタ202のしきい値電圧以上になるとトランジスタ202が
オンして、負荷201に電流が流れる。
アンテナ113とチップ本体120とのインピーダンス整合がずれるということを意味す
る。言い換えれば、反射係数が大きくなるということである。
スの整合がずれると電力の反射が起こり、電力の伝達効率が悪くなる。つまり、アンテナ
112およびアンテナ113が受け取った電力をチップ本体120へ効率良く伝達するた
めには、アンテナ112およびアンテナ113とチップ本体120とのインピーダンス整
合を合わせる必要がある。
されてしまった場合には、負荷201に電流を流してチップ本体120のインピーダンス
を変化させ、アンテナ112およびアンテナ113とのインピーダンス整合を意図的にず
らす。このため、アンテナ112およびアンテナ113が大電力を受け取ったとしてもチ
ップ本体120内部へはあまり伝達されないので、RFタグの内部素子が劣化し、RFタ
グ自体が破壊されたりすることなく動作させることができる。
はRFタグの内部回路を動作させるのに必要な電力が得られない場合にも、バッテリーに
充電された電源を利用してリーダ/ライタとの通信をすることができる。
えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)やSR
AM(Static Random Access Memory)などの揮発性メモリ
を搭載させることも可能になる。
した。2種類のアンテナをそれぞれ異なる共振周波数を持つように設計することで、リー
ダ/ライタとの通信時以外にバッテリーを充電することができるようになる。
113を同一のものとすることも可能である。
、RFタグのサイズを小型化することができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
性を利用することで機能しうる素子であるトランジスタ等を有する装置でもある。そのた
め、本明細書では、RFタグを半導体装置と呼ぶこともある。
9に示すレイアウト図は、図3に示した回路図における保護回路部101及び保護回路制
御回路部102に対応する箇所について示したものである。図19には、一例として、抵
抗素子で構成された負荷201、トランジスタ202、トランジスタ203。トランジス
タ204、容量205、抵抗206、ダイオード207の各素子が配線によって接続され
たレイアウト図について示している。図19に示す、トランジスタ202、トランジスタ
203、トランジスタ204の作製例について、以下、図13乃至図16を用いて詳細に
説明し、当該トランジスタ上にアンテナを設ける例について説明する。また、特に本実施
例で説明するトランジスタとしては、以下、絶縁基板上に形成された半導体膜によりトラ
ンジスタを作製する形態について説明する。
よび非晶質半導体膜1604(例えば非晶質珪素を含む膜)を形成する(図13(A))
。剥離層1602、絶縁膜1603および非晶質半導体膜1604は、連続して形成する
ことができる。連続して形成することにより、大気に曝されないため不純物の混入を防ぐ
ことができる。
度に耐えうる耐熱性があるプラスチック基板等を用いるとよい。このような基板であれば
、その面積や形状に大きな制限はないため、例えば、1辺が1メートル以上であって、矩
形状のものを用いれば、生産性を格段に向上させることができる。このような利点は、円
形のシリコン基板を用いる場合と比較すると、大きな優位点である。従って、シリコン基
板と比較して集積回路部やアンテナを大きく形成した場合であっても、低コスト化を実現
することができる。
て、基板1601の全面に剥離層を設けた後に、フォトリソグラフィ法により剥離層16
02を選択的に設けてもよい。また、基板1601に接するように剥離層1602を形成
しているが、必要に応じて、基板1601に接するように酸化珪素(SiOx)膜、酸化
窒化珪素(SiOxNy)(x>y)膜、窒化珪素(SiNx)膜、窒化酸化珪素(Si
NxOy)(x>y)膜等の絶縁膜を形成し、当該絶縁膜に接するように剥離層1602
を形成してもよい。
金属膜としては、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、タンタル
(Ta)、ニオブ(Nb)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、ジルコニウム(Zr
)、亜鉛(Zn)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オス
ミウム(Os)、イリジウム(Ir)から選択された元素または前記元素を主成分とする
合金材料若しくは化合物材料からなる膜を単層又は積層して形成する。また、これらの材
料は、スパッタリング法やプラズマCVD法等の各種CVD法等を用いて形成することが
できる。金属膜と金属酸化膜の積層構造としては、上述した金属膜を形成した後に、酸素
雰囲気化またはN2O雰囲気下におけるプラズマ処理、酸素雰囲気化またはN2O雰囲気
下における加熱処理を行うことによって、金属膜表面に当該金属膜の酸化物または酸化窒
化物を設けることができる。また、金属膜を形成した後に、オゾン水等の酸化力の強い溶
液で表面を処理することにより、金属膜表面に当該金属膜の酸化物又は酸化窒化物を設け
ることができる。
は珪素の窒化物を含む膜を、単層又は積層で形成する。下地となる絶縁膜が2層構造の場
合、例えば、1層目として窒化酸化珪素膜を形成し、2層目として酸化窒化珪素膜を形成
するとよい。下地となる絶縁膜が3層構造の場合、1層目の絶縁膜として酸化珪素膜を形
成し、2層目の絶縁膜として窒化酸化珪素膜を形成し、3層目の絶縁膜として酸化窒化珪
素膜を形成するとよい。または、1層目の絶縁膜として酸化窒化珪素膜を形成し、2層目
の絶縁膜として窒化酸化珪素膜を形成し、3層目の絶縁膜として酸化窒化珪素膜を形成す
るとよい。下地となる絶縁膜は、基板1601からの不純物の侵入を防止するブロッキン
グ膜として機能する。
25〜200nm(好ましくは30〜150nm)の厚さで形成する。半導体膜1604
としては、例えば、非晶質珪素膜を形成すればよい。
ー光の照射と、RTA又はファーネスアニール炉を用いる熱結晶化法、結晶化を助長する
金属元素を用いる熱結晶化法とを組み合わせた方法等により非晶質の半導体膜1604の
結晶化を行ってもよい。その後、得られた結晶質半導体膜を所望の形状にエッチングして
、半導体膜1604a〜1604dを形成し、当該半導体膜1604a〜1604dを覆
うようにゲート絶縁膜1605を形成する(図13(B))。
プラズマCVD法を用いて、膜厚50〜60nmの非晶質半導体膜(例えば、非晶質珪素
膜)を形成する。次に、結晶化を助長する金属元素であるニッケルを含む溶液を非晶質半
導体膜上に保持させた後、非晶質半導体膜に脱水素化の処理(500℃、1時間)と、熱
結晶化の処理(550℃、4時間)を行って結晶質半導体膜を形成する。その後、レーザ
ー発振器からレーザー光を照射し、フォトリソグラフィ法を用いることよって半導体膜1
604a〜1604dを形成する。なお、結晶化を助長する金属元素を用いる熱結晶化を
行わずに、レーザー光の照射だけで非晶質半導体膜の結晶化を行ってもよい。
ス発振型のレーザービーム(パルスレーザービーム)を用いることができる。ここで用い
ることができるレーザービームは、Arレーザー、Krレーザー、エキシマレーザーなど
の気体レーザー、単結晶のYAG、YVO4、フォルステライト(Mg2SiO4)、Y
AlO3、GdVO4、若しくは多結晶(セラミック)のYAG、Y2O3、YVO4、
YAlO3、GdVO4に、ドーパントとしてNd、Yb、Cr、Ti、Ho、Er、T
m、Taのうち1種または複数種添加されているものを媒質とするレーザー、ガラスレー
ザー、ルビーレーザー、アレキサンドライトレーザー、Ti:サファイアレーザー、銅蒸
気レーザーまたは金蒸気レーザーのうち一種または複数種から発振されるものを用いるこ
とができる。このようなレーザービームの基本波、及びこれらの基本波の第2高調波から
第4高調波のレーザービームを照射することで、大粒径の結晶を得ることができる。例え
ば、Nd:YVO4レーザー(基本波1064nm)の第2高調波(532nm)や第3
高調波(355nm)を用いることができる。このときレーザーのパワー密度は0.01
〜100MW/cm2程度(好ましくは0.1〜10MW/cm2)が必要である。そし
て、走査速度を10〜2000cm/sec程度として照射する。なお、単結晶のYAG
、YVO4、フォルステライト(Mg2SiO4)、YAlO3、GdVO4、若しくは
多結晶(セラミック)のYAG、Y2O3、YVO4、YAlO3、GdVO4に、ドー
パントとしてNd、Yb、Cr、Ti、Ho、Er、Tm、Taのうち1種または複数種
添加されているものを媒質とするレーザー、Arイオンレーザー、またはTi:サファイ
アレーザーは、連続発振をさせることが可能であり、Qスイッチ動作やモード同期などを
行うことによって10MHz以上の発振周波数でパルス発振をさせることも可能である。
10MHz以上の発振周波数でレーザービームを発振させると、半導体膜がレーザーによ
って溶融してから固化するまでの間に、次のパルスが半導体膜に照射される。従って、発
振周波数が低いパルスレーザーを用いる場合と異なり、半導体膜中において固液界面を連
続的に移動させることができるため、走査方向に向かって連続的に成長した結晶粒を得る
ことができる。
る。ゲート絶縁膜1605は、CVD法やスパッタリング法等により、珪素の酸化物又は
珪素の窒化物を含む膜を、単層又は積層して形成する。具体的には、酸化珪素膜、酸化窒
化珪素膜、窒化酸化珪素膜を、単層又は積層して形成する。
対し高密度プラズマ処理を行い、表面を酸化又は窒化することで形成しても良い。例えば
、He、Ar、Kr、Xeなどの希ガスと、酸素、酸化窒素(NO2)、アンモニア、窒
素、水素などの混合ガスを導入したプラズマ処理で形成する。この場合のプラズマの励起
は、マイクロ波の導入により行うと、低電子温度で高密度のプラズマを生成することがで
きる。この高密度プラズマで生成された酸素ラジカル(OHラジカルを含む場合もある)
や窒素ラジカル(NHラジカルを含む場合もある)によって、半導体膜の表面を酸化又は
窒化することができる。
mの絶縁膜が半導体膜に形成される。この場合の反応は、固相反応であるため、当該絶縁
膜と半導体膜との界面準位密度はきわめて低くすることができる。このような、高密度プ
ラズマ処理は、半導体膜(結晶性シリコン、或いは多結晶シリコン)を直接酸化(若しく
は窒化)するため、形成される絶縁膜の厚さは理想的には、ばらつきをきわめて小さくす
ることができる。加えて、結晶性シリコンの結晶粒界でも酸化が強くされることがないた
め、非常に好ましい状態となる。すなわち、ここで示す高密度プラズマ処理で半導体膜の
表面を固相酸化することにより、結晶粒界において異常に酸化反応をさせることなく、均
一性が良く、界面準位密度が低い絶縁膜を形成することができる。
も良いし、それに加えてプラズマや熱反応を利用したCVD法で酸化シリコン、酸窒化シ
リコン、窒化シリコンなどの絶縁膜を堆積し、積層させても良い。いずれにしても、高密
度プラズマで形成した絶縁膜をゲート絶縁膜の一部又は全部に含んで形成されるトランジ
スタは、特性のばらつきを小さくすることができる。
るレーザー光を照射しながら一方向に走査して結晶化させて得られた半導体膜1604a
〜1604dは、そのレーザー光の走査方向に結晶が成長する特性がある。その走査方向
をチャネル長方向(チャネル形成領域が形成されたときにキャリアが流れる方向)に合わ
せてトランジスタを配置し、上記ゲート絶縁膜を組み合わせることで、特性ばらつきが小
さく、しかも電界効果移動度が高い薄膜トランジスタ(TFT)を得ることができる。
。ここでは、第1の導電膜は、プラズマCVD法やスパッタ法等により、20〜100n
mの厚さで形成する。第2の導電膜は、100〜400nmの厚さで形成する。第1の導
電膜と第2の導電膜は、タンタル(Ta)、タングステン(W)、チタン(Ti)、モリ
ブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、クロム(Cr)、ニオブ(Nb)
等から選択された元素又はこれらの元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料で形
成する。または、リン等の不純物元素をドーピングした多結晶珪素に代表される半導体材
料により形成する。第1の導電膜と第2の導電膜の組み合わせの例を挙げると、窒化タン
タル膜とタングステン膜、窒化タングステン膜とタングステン膜、窒化モリブデン膜とモ
リブデン膜等が挙げられる。タングステンや窒化タンタルは、耐熱性が高いため、第1の
導電膜と第2の導電膜を形成した後に、熱活性化を目的とした加熱処理を行うことができ
る。また、2層構造ではなく、3層構造の場合は、モリブデン膜とアルミニウム膜とモリ
ブデン膜の積層構造を採用するとよい。
ゲート配線を形成するためのエッチング処理を行って、半導体膜1604a〜1604d
の上方にゲート電極1607を形成する。
604a〜1604dに、イオンドープ法またはイオン注入法により、n型を付与する不
純物元素を低濃度に添加する。n型を付与する不純物元素は、15族に属する元素を用い
れば良く、例えばリン(P)、砒素(As)を用いる。
絶縁膜は、プラズマCVD法やスパッタ法等により、珪素、珪素の酸化物又は珪素の窒化
物の無機材料を含む膜や、有機樹脂などの有機材料を含む膜を、単層又は積層して形成す
る。次に、絶縁膜を、垂直方向を主体とした異方性エッチングにより選択的にエッチング
して、ゲート電極1607の側面に接する絶縁膜1608(サイドウォールともよばれる
)を形成する。絶縁膜1608は、後にLDD(Lightly Doped drai
n)領域を形成する際のドーピング用のマスクとして用いる。
607および絶縁膜1608をマスクとして用いて、半導体膜1604a〜1604dに
n型を付与する不純物元素を添加して、チャネル形成領域1606aと、第1の不純物領
域1606bと、第2の不純物領域1606cを形成する(図13(C))。第1の不純
物領域1606bは薄膜トランジスタのソース領域又はドレイン領域として機能し、第2
の不純物領域1606cはLDD領域として機能する。第2の不純物領域1606cが含
む不純物元素の濃度は、第1の不純物領域1606bが含む不純物元素の濃度よりも低い
。
層して形成し、当該絶縁膜上に薄膜トランジスタのソース電極又はドレイン電極として機
能する導電膜1631を形成する(図13(D))。
により、珪素の酸化物や珪素の窒化物等の無機材料、ポリイミド、ポリアミド、ベンゾシ
クロブテン、アクリル、エポキシ等の有機材料やシロキサン材料等により、単層または積
層で形成する。ここでは、絶縁膜を2層で設けた例を示しており、1層目の絶縁膜160
9として窒化酸化珪素膜で形成し、2層目の絶縁膜1610として酸化窒化珪素膜で形成
することができる。
ちの一方又は両方を形成した後に、半導体膜1604a〜1604dの結晶性の回復や半
導体膜に添加された不純物元素の活性化、半導体膜の水素化を目的とした加熱処理を行う
とよい。加熱処理には、熱アニール、レーザーアニール法またはRTA法などを適用する
とよい。
ングして、第1の不純物領域1606bを露出させるコンタクトホールを形成した後、コ
ンタクトホールを充填するように導電膜を形成し、当該導電膜を選択的にエッチングして
形成する。なお、導電膜を形成する前に、コンタクトホールにおいて露出した半導体膜1
604a〜1604dの表面にシリサイドを形成してもよい。
)、タングステン(W)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、ニ
ッケル(Ni)、白金(Pt)、銅(Cu)、金(Au)、銀(Ag)、マンガン(Mn
)、ネオジウム(Nd)、炭素(C)、シリコン(Si)から選択された元素、又はこれ
らの元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料で、単層又は積層で形成する。アル
ミニウムを主成分とする合金材料とは、例えば、アルミニウムを主成分としニッケルを含
む材料、又は、アルミニウムを主成分とし、ニッケルと、炭素と珪素の一方又は両方とを
含む合金材料に相当する。導電膜1631は、例えば、バリア膜とアルミニウムシリコン
膜とバリア膜の積層構造、バリア膜とアルミニウムシリコン膜と窒化チタン膜とバリア膜
の積層構造を採用するとよい。なお、バリア膜とは、チタン、チタンの窒化物、モリブデ
ン、又はモリブデンの窒化物からなる薄膜に相当する。アルミニウムやアルミニウムシリ
コンは抵抗値が低く、安価であるため、導電膜1631を形成する材料として最適である
。また、上層と下層のバリア層を設けると、アルミニウムやアルミニウムシリコンのヒロ
ックの発生を防止することができる。また、還元性の高い元素であるチタンからなるバリ
ア膜を形成すると、結晶質半導体膜上に薄い自然酸化膜ができていたとしても、この自然
酸化膜を還元し、結晶質半導体膜と良好なコンタクトをとることができる。
縁膜1611は、CVD法、スパッタリング法、SOG法、液滴吐出法またはスクリーン
印刷法等を用いて、無機材料又は有機材料により、単層又は積層で形成する。また、絶縁
膜1611は、好適には、0.75μm〜3μmの厚さで形成する。
する(図14(B))。
電膜1631を露出させるコンタクトホールを形成した後、コンタクトホールを充填する
ように導電膜を形成し、当該導電膜を選択的にエッチングして形成する。
等の印刷法、メッキ処理等を用いて、導電性材料により形成すればよい。導電性材料は、
アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)、白金(
Pt)ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)
から選択された元素、又はこれらの元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料で、
単層構造又は積層構造で形成する。
場合には、粒径が数nmから数十μmの導電体粒子を有機樹脂に溶解または分散させた導
電性のペーストを選択的に印刷することによって設けることができる。導電体粒子として
は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、パラジウ
ム(Pd)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)およびチタン(Ti)等のいずれか
一つ以上の金属粒子やハロゲン化銀の微粒子、または分散性ナノ粒子を用いることができ
る。スクリーン印刷法を用いて形成することにより、工程の簡略化が可能となり低コスト
化を図ることができる。
(図15(A))。
印刷法等により、シリコンの酸化物やシリコンの窒化物等の無機材料(例えば、酸化珪素
膜、酸化窒化珪素膜、窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜等)、ポリイミド、ポリアミド、ベン
ゾシクロブテン、アクリル、エポキシ等の有機材料やシロキサン材料等により、単層また
は積層で形成する。
12を含む素子形成層を基板1601から剥離する。
続いて、素子形成層の一方の面(ここでは、絶縁膜1613の表面)を第1のシート材1
620に貼り合わせた後、物理的な力を用いて基板1601から素子形成層を剥離する(
図16(A))。第1のシート材1620としては、ホットメルトフィルム等を用いるこ
とができる。また、後に第1のシート材1620を剥離する場合には、熱を加えることに
より粘着力が弱まる熱剥離テープを用いることができる。
って、薄膜トランジスタ1630a〜薄膜トランジスタ1630d等の素子が静電気等に
よって破壊されることを防止できる。また、素子形成層が剥離された基板1601を再利
用することによって、低コスト化を実現することができる。
ート材1621を設ける(図16(B))。第2のシート材1621は、ホットメルトフ
ィルム等を用い、加熱処理と加圧処理の一方又は両方を行うことにより素子形成層の他方
の面に貼り合わせることができる。また、第1のシート材1620として熱剥離テープを
用いた場合には、第2のシート材1621を貼り合わせる際に加えた熱を利用して剥離す
ることができる。
グ又はレーザーカット法等により選択的に分断することによって、複数のRFタグを得る
ことができる。第2のシート材1621として、プラスチック等の可撓性を有する基板を
用いることによって可撓性を有するRFタグを作製することができる。
た後、当該基板1601から剥離することによって可撓性を有するRFタグを作製する場
合について示したが、これに限られない。例えば、基板1601上に剥離層1602を設
けずに図13(A)(B)、図14(A)(B)、図15(A)の工程を適用することに
より、基板1601上に薄膜トランジスタやアンテナ等の素子が設けられたRFタグを作
製することができる。
たが、この構成に限定されない。トランジスタを形成した後、別途形成したアンテナを、
集積回路と電気的に接続するようにしても良い。この場合、アンテナと集積回路との電気
的な接続は、異方導電性フィルム(ACF(Anisotropic Conducti
ve Film))や異方導電性ペースト(ACP(Anisotropic Cond
uctive Paste))等で圧着させることにより電気的に接続することが出来る
。また、他にも、銀ペースト、銅ペーストまたはカーボンペースト等の導電性接着剤や半
田接合等を用いて接続を行うことも可能である。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
例について図17、図18を用いて説明する。
コンからなるシリコン基板1901を用意する。そして、n型の導電性が付与されたシリ
コン基板の主面(素子形成面または回路形成面)の素子形成領域にp型ウェル1902を
選択的に形成する。また、シリコン基板の裏面を研磨する等の手法によって薄くすること
も可能である。予め、シリコン基板を薄膜化することによって、軽量で薄型なRFタグを
作製することができる。
なるフィールド酸化膜1903を形成する。フィールド酸化膜1903は厚い熱酸化膜で
あり、公知のLOCOS法を用いて形成すればよい。なお、素子分離法は、LOCOS法
に限定されず、例えば素子分離領域はトレンチ分離法を用いてトレンチ構造を有していて
もよいし、LOCOS構造とトレンチ構造の組み合わせであってもよい。
4を形成する。ゲート絶縁膜1904は、CVD法を用いて形成してもよく、酸化窒化珪
素膜や酸化珪素膜や窒化珪素膜やそれらの積層膜を用いることができる。
し、リソグラフィ技術およびドライエッチング技術に基づき積層膜を形成することによっ
てゲート絶縁膜上にポリサイド構造を有するゲート電極1905を形成する。ポリシリコ
ン層1905aは低抵抗化するために予め、1021/cm3程度の濃度でリン(P)を
ドープしておいても良いし、ポリシリコン層を形成した後で濃いn型不純物を拡散させて
も良い。また、シリサイド層1905bを形成する材料はモリブデンシリサイド、タング
ステンシリサイド、タンタルシリサイド、チタンシリサイドなどを適用することが可能で
あり、公知の方法に従い形成すれば良い。
絶縁材料層を全面にCVD法にて堆積させ、かかる絶縁材料層をエッチバックすることに
よってサイドウォールを形成すればよい。エッチバックの際に自己整合的にゲート絶縁膜
を選択的に除去してもよい。
オン注入を行う。pチャネル型トランジスタを形成すべき素子形成領域をレジスト材料で
被覆し、n型不純物であるヒ素(As)やリン(P)をシリコン基板に注入してソース領
域1913及びドレイン領域1914を形成する。また、nチャネル型トランジスタを形
成すべき素子形成領域をレジスト材料で被覆し、p型不純物であるボロン(B)をシリコ
ン基板に注入してソース領域1915及びドレイン領域1916を形成する。
ン基板における結晶欠陥を回復するために、活性化処理を行う。
を形成する。層間絶縁膜1917は、プラズマCVD法や減圧CVD法を用いて酸化シリ
コン膜や酸化窒化シリコン膜などを形成する。なお、さらにその上にリンシリケートガラ
ス(PSG)、あるいはボロンシリケートガラス(BSG)、もしくはリンボロンシリケ
ートガラス(PBSG)の層間絶縁膜が形成してもよい。
は、層間絶縁膜1917にそれぞれのトランジスタのソース領域及びドレイン領域に達す
るコンタクトホールを形成した後に形成するもので、低抵抗材料として通常良く用いられ
るアルミニウムを用いると良い。また、アルミニウムとチタンの積層構造としても良い。
は、ポジ型の電子線描画用レジストを層間絶縁膜1917上の全面に形成し、電子線が照
射された部分を現像液によって溶解させる。そして、コンタクト穴が形成される箇所のレ
ジストに穴が空き、レジストをマスクとしてドライエッチングを行なうことにより、所定
の位置の層間絶縁膜1917がエッチングされてコンタクト穴を形成することができる。
以上のようにして、pチャネル型トランジスタ1951、nチャネル型トランジスタ19
52を、単結晶基板を用いて作製することが出来る(図17(A))。
ッチングしコンタクトホールを形成し、メタル電極1922の一部を露出させる。層間膜
1924は樹脂には限定せず、CVD酸化膜など他の膜であっても良いが、平坦性の観点
から樹脂であることが望ましい。また、感光性樹脂を用いて、エッチングを用いずにコン
タクトホールを形成しても良い。次に層間膜1924上に、コンタクトホールを介してメ
タル電極1922と接する配線1925を形成する。
。導電膜1926は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、クロ
ム(Cr)、白金(Pt)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、
タングステン(W)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、亜鉛(Z
n)、錫(Sn)、ニッケル(Ni)などの金属を用いて形成することが出来る。導電膜
1926は、上記金属で形成された膜の他に、上記金属を主成分とする合金で形成された
膜、或いは上記金属を含む化合物を用いて形成された膜を用いても良い。導電膜1926
は、上述した膜を単層で用いても良いし、上述した複数の膜を積層して用いても良い。
印刷法、液滴吐出法、ディスペンサ法、めっき法、フォトリソグラフィ法、蒸着法等を用
いて形成することが出来る。
構成に限定されない。トランジスタを形成した後、別途形成したアンテナを、集積回路と
電気的に接続するようにしても良い。この場合、アンテナと集積回路との電気的な接続は
、異方導電性フィルム(ACF(Anisotropic Conductive Fi
lm))や異方導電性ペースト(ACP(Anisotropic Conductiv
e Paste))等で圧着させることにより電気的に接続することが出来る。また、他
にも、銀ペースト、銅ペーストまたはカーボンペースト等の導電性接着剤や半田接合等を
用いて接続を行うことも可能である。
1927を形成する。保護膜1927は、窒化シリコン膜、または酸化シリコン膜、ある
いは窒化酸化シリコン膜で形成されている。また、窒化シリコン膜等の代わりに有機樹脂
膜、若しくは保護膜の上に有機樹脂膜を積層してもよい。有機樹脂材料として、ポリイミ
ド、ポリアミド、アクリル、ベンゾシクロブテン(BCB)などを用いることができる。
有機樹脂膜を用いる利点は、膜の形成方法が簡単である点や、比誘電率が低いので寄生容
量を低減できる点、平坦化するのに適している点などがある。勿論、上述した以外の有機
樹脂膜を用いても良い。
とができる。フィルム1928の表面には、水分や酸素等の侵入を防ぐために、保護膜を
形成しても良い。保護膜は、珪素を有する酸化物、又は珪素を有する窒化物によって形成
することができる。また、フィルムにはRFタグのブースターアンテナとなるパターンが
形成されていてもよい。
供することができる。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
通信システムの用途について説明する。本発明のRFタグは、例えば、紙幣、硬貨、有価
証券、無記名債券類、証書類(運転免許証や住民票等)、包装用容器類(包装紙やボトル
等)、DVD(Digital Versatile Disc)ソフトやCD(コンパ
クトディスク)に設けて使用することができる。また、ビデオテープ等の記録媒体、車や
バイクや自転車等の乗物類、鞄や眼鏡等の身の回り品、食品類、衣類、生活用品類、電子
機器等に設けて使用することができる。電子機器とは、液晶表示装置、EL(エレクトロ
ルミネッセンス)表示装置、テレビジョン装置(単にテレビまたはテレビ受像器とも呼ぶ
)および携帯電話機等を指す。
することができる。例えば、本なら紙に埋め込んだり、有機樹脂からなるパッケージなら
当該有機樹脂に埋め込んだりするとよい。紙幣、硬貨、有価証券類、無記名債券類、証書
類等にRFタグを設けることにより、偽造を防止することができる。また、包装用容器類
、記録媒体、身の回り品、食品類、衣類、生活用品類、電子機器等にRFタグを設けるこ
とにより、検品システムやレンタル店のシステムなどの効率化を図ることができる。また
乗物類にRFタグを設けることにより、偽造や盗難を防止することができる。また、動物
等の生き物に埋め込むことによって、個々の生き物の識別を容易に行うことができる。例
えば、家畜等の生き物に無線タグを埋め込むことによって、生まれた年や性別または種類
等を容易に識別することが可能となる。
も設けて使用することができる。
表示部9521を含む端末9520には、アンテナ及び当該アンテナに接続されたリーダ
/ライタが設けられている。物品A9532には本発明のRFタグ9531が設けられ、
物品B9522には本発明のRFタグ9523が設けられている。図12(A)では、物
品Aや物品Bの一例として内服薬を示した。物品A9532が含むRFタグ9531に端
末9520のアンテナをかざすと、表示部9521に物品A9532の原材料や原産地、
生産工程ごとの検査結果や流通過程の履歴、商品の説明等の商品に関する情報が表示され
る。物品B9522が含むRFタグ9523に端末9520のアンテナをかざすと、表示
部9521に物品B9522の原材料や原産地、生産工程ごとの検査結果や流通過程の履
歴、商品の説明等の商品に関する情報が表示される。
(B)のフローチャートを用いる。端末9520において、アレルギーの情報を入力して
おく(第1のステップ9001)。アレルギーの情報とは、所定の人物がアレルギー反応
を起こす医薬品またはその成分等の情報である。端末9520に設けられたアンテナによ
って、前述のとおり物品A9532である内服薬Aの情報を取得する(第2のステップ9
002)。内服薬Aの情報には内服薬Aの成分等の情報が含まれる。アレルギーの情報と
取得した内服薬Aの成分等の情報とを比較し、一致するか否かを判断する(第3のステッ
プ9003)。一致する場合、所定の人物は内服薬Aに対してアレルギー反応を起こす危
険性があるとし、端末9520の使用者に注意を呼びかける(第4のステップ9004)
。一致しない場合、所定の人物は内服薬Aに対してアレルギー反応を起こす危険性が少な
いとし、端末9520の使用者にその旨(安全である旨)を知らせる(第5のステップ9
005)。第4のステップや第5のステップにおいて、端末9520の使用者に情報を知
らせる方法は、端末9520の表示部9521に表示を行う方法であっても良いし、端末
9520のアラーム等を鳴らす方法であっても良い。
ると危険な内服薬または同時に服用すると危険な内服薬の成分の組み合わせの情報(以下
、組み合わせの情報という)を入力しておく(第1のステップ9101)。端末9520
に設けられたアンテナによって、前述のとおり物品A9532である内服薬Aの情報を取
得する(第2のステップ9102)。内服薬Aの情報には内服薬Aの成分等の情報が含ま
れる。次いで、端末9520に設けられたアンテナによって、前述のとおり物品B952
2である内服薬Bの情報を取得する(第3のステップ9103)。内服薬Bの情報には内
服薬Bの成分等の情報が含まれる。こうして、複数の内服薬の情報を取得する。組み合わ
せの情報と取得した複数の内服薬の情報とを比較し、一致するか否か、即ち、同時に使用
すると危険な内服薬の成分の組み合わせが有るか否かを判断する(第4のステップ910
4)。一致する場合、端末9520の使用者に注意を呼びかける(第5のステップ910
5)。一致しない場合、端末9520の使用者にその旨(安全である旨)を知らせる(第
6のステップ9106)。第5のステップ9105や第6のステップ9106において、
端末9520の使用者に情報を知らせる方法は、端末9520の表示部9521に表示を
行う方法であっても良いし、端末のアラーム等を鳴らす方法であっても良い。
ができる。すなわち本発明を用いることで、RFタグを構成するアンテナとチップ本体と
のインピーダンス整合を意図的にずらすことができる。そのため、RFタグとリーダ/ラ
イタとの通信距離が極端に短い状況等においてRFタグが大電力を受信することによって
生じる不具合を防ぐことができ、RFタグの信頼性の向上を図ることができる。すなわち
、RFタグ内部の素子を劣化させたり、RFタグ自体を破壊することなく、RFタグを正
常に動作させることができる。
11 回路部
12 比較回路
13 スイッチ
14 負荷
15 整流回路
16 電流比較回路
100 RFタグ
101 保護回路部
102 保護回路制御回路部
103 整流回路部
104 定電圧電源回路部
105 クロック生成回路部
106 復調回路部
107 判定回路部
108 記憶装置
109 コントローラ回路部
110 符号化回路部
111 変調回路部
112 アンテナ
113 アンテナ
120 チップ本体
121 入力回路部
122 ロジック回路部
123 充電回路部
201 負荷
202 トランジスタ
203 トランジスタ
204 トランジスタ
205 容量
206 抵抗
207 ダイオード
208 トランジスタ
300 整流回路部
301 ダイオード
302 容量
303 ダイオード
304 容量
305 抵抗
400 RFタグ
401 バッテリー
410 充電機構制御回路部
420 整流回路部
500 整流回路部
501 ダイオード
502 容量
504 容量
505 抵抗
600 整流回路部
601 ダイオード
602 容量
603 ダイオード
604 容量
700 RFタグ
900 測定サンプル
901 ネットワークアナライザ
902 アンプ
903 サーキュレータ
904 同軸ケーブル
905 電波シールドボックス
906 高周波測定用プローブ
907 アッテネータ
101b 充電用保護回路部
102b 充電用保護回路制御回路部
9001 ステップ
9002 ステップ
9003 ステップ
9004 ステップ
9005 ステップ
9101 ステップ
9102 ステップ
9103 ステップ
9104 ステップ
9105 ステップ
9106 ステップ
9520 端末
9521 表示部
9522 物品B
9523 RFタグ
9531 RFタグ
9532 物品A
1601 基板
1602 剥離層
1603 絶縁膜
1604 半導体膜
1605 ゲート絶縁膜
1607 ゲート電極
1608 絶縁膜
1609 絶縁膜
1610 絶縁膜
1611 絶縁膜
1612 導電膜
1613 絶縁膜
1617 絶縁膜
1618 開口部
1620 シート材
1621 シート材
1631 導電膜
1901 シリコン基板
1902 p型ウェル
1903 フィールド酸化膜
1904 ゲート絶縁膜
1905 ゲート電極
1913 ソース領域
1914 ドレイン領域
1915 ソース領域
1916 ドレイン領域
1917 層間絶縁膜
1918 導電膜
1919 メタル電極
1920 メタル電極
1921 メタル電極
1922 メタル電極
1924 層間膜
1951 pチャネル型トランジスタ
1925 配線
1952 nチャネル型トランジスタ
1926 導電膜
1927 保護膜
1928 フィルム
1604a 半導体膜
1604b 半導体膜
1604c 半導体膜
1604d 半導体膜
1606a チャネル形成領域
1606b 不純物領域
1606c 不純物領域
1630a 薄膜トランジスタ
1630b 薄膜トランジスタ
1630c 薄膜トランジスタ
1630d 薄膜トランジスタ
1630a 薄膜トランジスタ
1905a ポリシリコン層
1905b シリサイド層
Claims (3)
- アンテナと、
第1の容量と、
抵抗と、
第1のトランジスタと、
第2のトランジスタと、
第3のトランジスタと、
直列接続した複数のダイオードと、を有し、
前記アンテナは、第1の端子を有し、
前記第1の端子は、前記第1の容量の第1の端子と電気的に接続され、
前記第1の容量の第2の端子は、前記抵抗の一端と電気的に接続され、
前記第1の容量の第2の端子は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記抵抗の他端は、直列接続した複数の前記ダイオードの陽極と電気的に接続され、
前記抵抗の他端は、前記第1のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
直列接続した複数の前記ダイオードの陰極は、前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第1の端子と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、直列接続した複数の前記ダイオードの陰極と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲートには、基準電圧が供給されることを特徴とする半導体装置。 - アンテナと、
第1の容量と、
第2の容量と、
抵抗と、
第1のトランジスタと、
第2のトランジスタと、
第3のトランジスタと、
直列接続した複数のダイオードと、を有し、
前記アンテナは、第1の端子を有し、
前記第1の端子は、前記第1の容量の第1の端子と電気的に接続され、
前記第1の容量の第2の端子は、前記抵抗の一端と電気的に接続され、
前記第1の容量の第2の端子は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記抵抗の他端は、直列接続した複数の前記ダイオードの陽極と電気的に接続され、
前記抵抗の他端は、前記第1のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
直列接続した複数の前記ダイオードの陰極は、前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第1の端子と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、直列接続した複数の前記ダイオードの陰極と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲートには、基準電圧が供給され、
直列接続した複数の前記ダイオードの陰極は、前記第2の容量の第1の端子と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の容量の第2の端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1または請求項2において、
複数の前記ダイオードは、それぞれ、トランジスタのゲートとドレインとを導通させたものであることを特徴とする半導体装置。
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TWI553825B (zh) * | 2013-01-11 | 2016-10-11 | 日月光半導體製造股份有限公司 | 堆疊式封裝模組與其製造方法 |
JP6128986B2 (ja) * | 2013-06-24 | 2017-05-17 | 任天堂株式会社 | 通信システム、通信端末装置、通信プログラム、および通信方法 |
US9361564B2 (en) | 2013-12-02 | 2016-06-07 | Qualcomm Technologies International, Ltd. | Protection of an NFC or RFID radio in the presence of strong electromagnetic fields |
EP3136287A3 (en) * | 2015-08-24 | 2017-09-06 | Ruizhang Technology Limited Company | Increasing backscatter level for rfid chip |
CN106485290B (zh) | 2015-08-24 | 2019-08-13 | 瑞章科技有限公司 | 增强标签反向散射能量的装置及方法 |
KR102443842B1 (ko) | 2015-09-14 | 2022-09-16 | 삼성전자주식회사 | Nfc 장치의 태그 감지기, nfc 장치 및 이를 포함하는 모바일 장치 |
WO2017143098A1 (en) | 2016-02-16 | 2017-08-24 | Above the Fold, LLC | Systems for tracking medications |
JP6906978B2 (ja) | 2016-02-25 | 2021-07-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、半導体ウェハ、および電子機器 |
GB2562638B (en) | 2016-02-26 | 2020-10-07 | Cirrus Logic Int Semiconductor Ltd | Clamping audio signal paths |
CN105929317B (zh) * | 2016-04-12 | 2019-03-08 | 中国科学院微电子研究所 | 一种高速信号隔离装置 |
CN107301443A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 中兴通讯股份有限公司 | 电子标签、电子标签的电源管理方法及装置 |
CN106209178A (zh) * | 2016-08-25 | 2016-12-07 | 成都优购科技有限公司 | 一种过压保护蓝牙装置 |
US10043124B2 (en) * | 2016-12-15 | 2018-08-07 | Em Microelectronic-Marin Sa | Voltage regulation circuit for an RFID circuit |
JP6855989B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2021-04-07 | オムロン株式会社 | Rfタグ回路 |
JP6844478B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2021-03-17 | オムロン株式会社 | Rfタグ |
CN110752756B (zh) * | 2019-10-28 | 2021-10-08 | 北方工业大学 | 一种高增益变换电路及其控制方法 |
Family Cites Families (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3898522A (en) * | 1973-12-03 | 1975-08-05 | Gte Sylvania Inc | Television receiver power supply system and protective circuitry therefor |
US4717996A (en) * | 1987-01-14 | 1988-01-05 | Best Power Technology, Inc. | Gated parallel power switching devices protection circuit |
KR100271690B1 (ko) * | 1992-01-31 | 2000-11-15 | 스즈키 진이치로 | 보호회로를 구비하는 반도체 장치 및 전자시스템 |
JPH0962808A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Mitsubishi Electric Corp | 非接触icカード及び非接触icカードシステム |
US7215248B2 (en) * | 1995-08-31 | 2007-05-08 | Intermec Ip Corp. | Diode receiver for radio frequency transponder |
JP3755675B2 (ja) | 1995-11-20 | 2006-03-15 | ソニー株式会社 | クランプ回路、cmosチツプic及び非接触型情報カード |
US6097292A (en) * | 1997-04-01 | 2000-08-01 | Cubic Corporation | Contactless proximity automated data collection system and method |
SG54559A1 (en) * | 1996-09-13 | 1998-11-16 | Hitachi Ltd | Power transmission system ic card and information communication system using ic card |
JP3392016B2 (ja) | 1996-09-13 | 2003-03-31 | 株式会社日立製作所 | 電力伝送システム並びに電力伝送および情報通信システム |
JPH10307898A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-17 | Toppan Printing Co Ltd | 充電式非接触icカードシステム |
US6879809B1 (en) * | 1998-04-16 | 2005-04-12 | Motorola, Inc. | Wireless electrostatic charging and communicating system |
US6069782A (en) * | 1998-08-26 | 2000-05-30 | Integrated Device Technology, Inc. | ESD damage protection using a clamp circuit |
US6198646B1 (en) * | 1999-01-08 | 2001-03-06 | Quantum Manufacturing Technologies, Inc. | Commutation circuit for arresting and dissipating energy reflected from a magnetic pulse compression network |
FR2801745B1 (fr) * | 1999-11-30 | 2007-05-25 | St Microelectronics Sa | Transpondeur electromagnetique a desaccord en frequence |
JP2002176141A (ja) | 2000-12-07 | 2002-06-21 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置及びicタグ |
JP4662003B2 (ja) * | 2001-02-09 | 2011-03-30 | ミツミ電機株式会社 | Acアダプタ出力端子ショートによる保護回路 |
US7589944B2 (en) * | 2001-03-16 | 2009-09-15 | Sofics Bvba | Electrostatic discharge protection structures for high speed technologies with mixed and ultra-low voltage supplies |
JP2002368647A (ja) | 2001-06-06 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | データキャリア |
JP2003085506A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Yoshikawa Rf System Kk | データキャリアにおける過電圧防止回路 |
US20030107424A1 (en) * | 2001-12-11 | 2003-06-12 | Chien-Chang Huang | ESD protection circuit |
WO2004013806A1 (en) * | 2002-07-30 | 2004-02-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Transponder with a controllable power-on-reset circuit |
US7102862B1 (en) * | 2002-10-29 | 2006-09-05 | Integrated Device Technology, Inc. | Electrostatic discharge protection circuit |
SI21392A (sl) * | 2002-12-24 | 2004-06-30 | Vinko Kunc | Postopek za avtomatsko nastavitev ojačenja izpraševalnikovega sprejemnika v brezkontaktnem identifikacijskem sistemu |
DE10356259B4 (de) * | 2003-12-03 | 2010-07-22 | Atmel Automotive Gmbh | Verfahren und Schaltungsanordnung zum Vergrößern einer Funktionsreichweite bei einer aus einem elektromagnetischen Feld mit Energie versorgten Vorrichtung |
JP4536496B2 (ja) * | 2003-12-19 | 2010-09-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び半導体装置の駆動方法 |
US7471188B2 (en) * | 2003-12-19 | 2008-12-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and driving method thereof |
JP2005202721A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 非接触データキャリア |
JP2005242989A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-09-08 | Toshiba Microelectronics Corp | 非接触icカードのリーダライタ端末装置、通信システム及び非接触データキャリア |
DE102004013177B4 (de) * | 2004-03-17 | 2006-05-18 | Infineon Technologies Ag | Datenübertragungseinheit mit einer Datenübertragungsschnittstelle und ein Verfahren zum Betreiben der Datenübertragungseinheit |
JP4519713B2 (ja) | 2004-06-17 | 2010-08-04 | 株式会社東芝 | 整流回路とこれを用いた無線通信装置 |
JP4265487B2 (ja) * | 2004-06-17 | 2009-05-20 | 富士通株式会社 | リーダー装置、その装置の送信方法及びタグ |
US7424266B2 (en) | 2004-11-09 | 2008-09-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Rectifier circuit and RFID tag |
JP2006155045A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Sony Corp | 電子価値情報伝送システム及び電子価値情報伝送方法 |
DE102005013687B3 (de) * | 2005-03-18 | 2005-12-01 | Atmel Germany Gmbh | ESD-Schutzschaltung für niedrige Spannungen |
KR100554889B1 (ko) | 2005-03-21 | 2006-03-03 | 주식회사 한림포스텍 | 무접점 충전 시스템 |
US7605056B2 (en) * | 2005-05-31 | 2009-10-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device including separation by physical force |
KR100688555B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | Mos트랜지스터를 구비하는 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
EP1909384A3 (en) * | 2006-10-06 | 2015-11-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Rectifier circuit with variable capacitor, semiconductor device using the circuit, and driving method therefor |
DE602007013986D1 (de) * | 2006-10-18 | 2011-06-01 | Semiconductor Energy Lab | ID-Funktransponder |
US20080133850A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-05 | Inventec Corporation | Computer device with function of selectively redeploying one of memory modules as hard disc |
JP5325415B2 (ja) * | 2006-12-18 | 2013-10-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US8358202B2 (en) * | 2006-12-26 | 2013-01-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
TWM319464U (en) | 2007-04-10 | 2007-09-21 | Coretronic Corp | Electronic device |
-
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