JP6086648B2 - フォトトランジスタおよび撮像装置 - Google Patents
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Description
半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置された構造を有し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域および第3半導体領域と絶縁されており、
前記第1の半導体領域の少なくとも一部は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。
半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の高濃度の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に低濃度の第1導電型の第3半導体領域が配置された構造を有し、
前記第2半導体領域内は、前記第1半導体領域側よりも前記第3半導体領域側において不純物濃度を小さくするように傾斜させた不純物分布を有し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域および第3半導体領域と絶縁されており、
前記第1の半導体領域の少なくとも一部は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
前記電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。
半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置され、さらに、その下部に第2導電型の第4の半導体領域をもつ構造であって、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域、第3半導体領域および第4半導体領域と絶縁されており、
前記第1の半導体領域の少なくとも一部は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
前記電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。
SOI基板を用いて半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置され、第3半導体領域の下部に、酸化膜と接するBOX酸化膜が配置された構造を有し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域および第3半導体領域と絶縁されており、
前記第1の半導体領域の少なくとも一部は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
前記電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。
21 BOX酸化膜
Claims (6)
- 半導体基板の表面から深さ方向に、エミッタ領域、ベース領域およびコレクタ領域が順次形成された縦型バイポーラ構造のフォトトランジスタであって、
半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で切れ目無く囲まれたフォトトランジスタ領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置された構造を有し、
前記第1半導体領域はエミッタ領域に該当し、前記第2半導体領域はベース領域に該当し、前記第3半導体領域はコレクタ領域に該当し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域および第3半導体領域と絶縁されており、
少なくとも前記第2半導体領域および前記第3半導体領域は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。 - 半導体基板の表面から深さ方向に、エミッタ領域、ベース領域およびコレクタ領域が順次形成された縦型バイポーラ構造のフォトトランジスタであって、
半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で切れ目無く囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置された構造を有し、
前記第1半導体領域はエミッタ領域に該当し、前記第2半導体領域はベース領域に該当し、前記第3半導体領域はコレクタ領域に該当し、
前記第2半導体領域内は、前記第1半導体領域側よりも前記第3半導体領域側において不純物濃度を小さくするように傾斜させた不純物分布を有し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域および第3半導体領域と絶縁されており、
少なくとも前記第2半導体領域および前記第3半導体領域は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
前記電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。 - 半導体基板の表面から深さ方向に、エミッタ領域、ベース領域およびコレクタ領域が順次形成された縦型バイポーラ構造のフォトトランジスタであって、
半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で切れ目無く囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置され、さらに、その下部に第2導電型の第4の半導体領域をもつ構造であって、
前記第1半導体領域はエミッタ領域に該当し、前記第2半導体領域はベース領域に該当し、前記第3半導体領域はコレクタ領域に該当し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域、第3半導体領域および第4半導体領域と絶縁されており、
少なくとも前記第2半導体領域および前記第3半導体領域は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
前記電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。 - 半導体基板の表面から深さ方向に、エミッタ領域、ベース領域およびコレクタ領域が順次形成された縦型バイポーラ構造のフォトトランジスタであって、
SOI基板を用いて半導体基板の表面から内部にかけて酸化膜により絶縁され埋め込まれた電極を備え、
基板表面において、その電極で囲まれた半導体デバイス領域の内部に酸化膜を介して電極に沿って表面側から第1導電型の第1半導体領域が配置され、第1半導体領域の下部に第2導電型の第2半導体領域が配置され、第2半導体領域の下部に第1導電型の第3半導体領域が配置され、第3半導体領域の下部に、酸化膜と接するBOX酸化膜が配置された構造を有し、
前記第1半導体領域はエミッタ領域に該当し、前記第2半導体領域はベース領域に該当し、前記第3半導体領域はコレクタ領域に該当し、
前記電極は、酸化膜を介して第1半導体領域、第2半導体領域および第3半導体領域と絶縁されており、
少なくとも前記第2半導体領域および前記第3半導体領域は、前記酸化膜を介して前記電極と対向しており、
前記電極への電圧印加によって光照射により得られる光電流の電流増幅率が可変であることを特徴とするフォトトランジスタ。 - 請求項1〜4のいずれかに記載のフォトトランジスタが、2次元に配置されていることを特徴とする撮像装置。
- 光照射により出力される光電流あるいは光電流を変換した電圧を監視し、監視結果に基づいて電極への電圧印加を制御するコンパレータ回路を備えたことを特徴とする請求項5記載の撮像装置。
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