JP6080610B2 - マルチ放射線発生装置および放射線撮影システム - Google Patents
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Description
それぞれが前記複数の電子源に対応して列状に設けられ、該電子源から放出された電子の照射により放射線を発生する複数のターゲットと、前記ターゲットを保持する開口を備えた遮蔽部材と、を備え、前記複数のターゲットがそれぞれ前記遮蔽部材の前記開口に保持されたアノードアレイと、
を有するマルチ放射線発生装置であって、
前記複数のターゲットは、トモシンセシス撮影と非トモシンセシス撮影の両者に用いられる両用ターゲットと、トモシンセシス撮影にのみ用いられ前記所定方向に列状に配列された複数の単用ターゲットからなる単用ターゲットアレイと、を含み、
前記両用ターゲットは前記単用ターゲットアレイとともに前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とするマルチ放射線発生装置を提供するものである。
また、本発明の第2は、所定方向に列状に配列された複数の電子源と、
それぞれが前記複数の電子源に対応して列状に設けられ、該電子源から放出された電子の照射により放射線を発生する複数のターゲットと、前記ターゲットを保持する開口を備えた遮蔽部材と、を備え、前記複数のターゲットがそれぞれ前記遮蔽部材の前記開口に保持されたマルチ放射線発生装置であって、
前記複数のターゲットは、トモシンセシス撮影と非トモシンセシス撮影の両者に用いられる両用ターゲットと、トモシンセシス撮影にのみ用いられ前記所定方向に列状に配列された複数の単用ターゲットからなる単用ターゲットアレイと、を含み、
前記両用ターゲットは前記単用ターゲットアレイとともに前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とするマルチ放射線発生装置を提供するものである。
該マルチ放射線発生装置から放出されて被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
前記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御するシステム制御装置とを備えていることを特徴とする放射線撮影システムを提供するものである。
さらに、本発明の第4は、上記本発明の第2に係るマルチ放射線発生装置と、
前記マルチ放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
前記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御するシステム制御装置とを備えることを特徴とする放射線撮影システムを提供するものである。
図1に示すように、本発明に係るマルチ放射線発生装置1は、電子を放出する電子源4と、電子の照射により放射線を発生するターゲット(以下の説明ではターゲット部と称する)5とを有する複数の放射線源2と、真空容器9とを備えている。各放射線源2の電子源4とターゲット部5がそれぞれ間隔をあけて一列に並べられていることで、放射線源2が列状に配置されている。なお、放射線源2のうち、トモシンセシス撮影と非トモシンセシス撮影の両者に用いられる放射線源を両用放射線源2a、トモシンセシス撮影にのみ用いられる放射線源2を単用放射線源2bとする。本実施形態における両用放射線源2aは中央の1つであるが、本発明においては、放射線源2のうちの少なくとも1つが両用放射線源2aであれば足り、複数の放射線源2を両用放射線源2aとすることもできる。複数の両用放射線源2aを設ける場合、装置のコストアップを抑制するため、放射線源2の総数の1/10以下、特に3つ以下の個数とすることが好ましい。また、両用放射線源2aは、非トモシンセシス撮影時に、必要な領域に放射線を照射しやすくするために、放射線源2の列の中央に配置されていることが好ましい。
図2に示す実施形態は、基本的には第1の実施形態と同様である。しかし、両用通放射線源2aのターゲット部5の電子照射面の温度上昇が、同じ条件で電子が照射されたときの単用放射線源2bのターゲット部5の電子照射面の温度上昇に比して小さくなっている。具体的には、図2(c)に示すように、両用放射線源2aのターゲット部5を構成する支持基板6bの厚みが、単用放射線源2bのターゲット部5を構成する支持基板6bの厚みよりも厚くなっている。
両用放射線源2aのターゲット部5の電子照射面の温度上昇を、同じ条件で電子が照射されたときの単用放射線源2bのターゲット部5の電子照射面の温度上昇より小さくすることは、図3の構成によっても得ることができる。図3に示す両用放射線源2aの支持基板6bの径は、単用放射線源2bの支持基板6bの径よりも大きくなっている。本例において、ターゲット層6aで発生した熱は、支持基板6bおよび放射線遮蔽部材7,8を介して、マルチ放射線発生装置1の外部に放熱される。前述のように、支持基板6bとしては、ダイアモンド、炭化シリコン、窒化アルミニウム等を用いることができるが、これらの材料は、放射線遮蔽部材7,8を構成する金属材料よりも熱伝導率が高い。そのため、支持基板6bの径を大きくすることで、ターゲット層6aの放熱特性をより高くすることができ、ターゲット層6aに入射可能な電流量を大きくすることができる。
本実施形態は、基本的には第1の実施形態と同様である。しかし、図4に示すように、両用放射線源2aに対応する放射線遮蔽部材7,8が、単用放射線源2bに対応する放射線遮蔽部材7,8よりも、ターゲット部5の列および電子の入射方向に対して直角方向に厚い構造を有する。本実施形態において、ターゲット層6aで発生した熱は、支持基板6bおよび放射線遮蔽部材7,8を介して、マルチ放射線発生装置1の外部に放熱される。両用放射線源3に対応する放射線遮蔽部材7,8を上記のように厚くしておくことで、熱が等方的に広く拡散し、放熱性がより高くなる。また、放射線遮蔽部材7,8の熱容量が大きくなり、温度上昇が低減する。そのため、ターゲット層6aに入射可能な電流量を大きくすることができる。
本実施形態は、基本的には第1の実施形態と同様である。しかし、図5に示すように、両用放射線源3に対応する放射線遮蔽部材7,8に放熱用のフィン12が接続された構造を有する。フィン12は、放射線遮蔽部材7,8の表面であって、少なくとも真空容器9よりも外側の領域に設けるのが好ましい。
両用通放射線源2aのターゲット部5の電子照射面の温度上昇を、同じ条件で電子が照射されたときの単用放射線源2bのターゲット部5の電子照射面の温度上昇より小さくすることは、図6(a)または(b)の構成によっても得ることができる。図6(a)では、両用放射線源2aに対応する放射線遮蔽部材8の通過孔10が、単用放射線源2bに対応する放射線遮蔽部材8の通過孔10よりも、ターゲット部5と接する位置での径が小さい構造となっている。図6(b)では、両用放射線源2aに対応する放射線遮蔽部材8の放出孔11が、単用放射線源2bに対応する放射線遮蔽部材8の放出孔11よりも、ターゲット部5と接する位置での径が小さい構造となっている。また、両用放射線源2aに対応する放射線遮蔽部材8を、図6(a)の構成と図6(b)の構成の両者を満たすものとすることもできる。
図7に示される両用放射線源3のターゲット部5は、電子が入射する方向に対して傾いて配置された構造となっている。また、他の放射線源2である単用放射線源2bのターゲット部5は、電子が入射する方向に対して垂直に配置されている。ターゲット部5を電子が入射する方向に対して傾いて配置することで、ターゲット部5に入射される単位面積あたりの電流密度を小さくすることができる。そのため、ターゲット部5に入射可能な電流量を大きくすることができる。両用放射線源2aのターゲット部5は、電子が入射する方向に対して30°〜60°程度傾いて配置することが好ましい。なお、全ての放射線源2のターゲット部5を、両用放射線源2aのターゲット部5と同様に傾いて配置することも可能であるが、両用放射線源2aのターゲット部5のみを傾いて配置することで、不要な製造コストの増加を避けることができる。
次に、本発明のマルチ放射線発生装置を用いた放射線撮影システムについて説明する。マルチ放射線発生装置には、前記実施形態1〜7で説明したマルチ放射線発生装置を適用することができる。
Claims (28)
- 所定方向に列状に配列された複数の電子源を備えるカソードアレイと、
それぞれが前記複数の電子源に対応して列状に設けられ、該電子源から放出された電子の照射により放射線を発生する複数のターゲットと、前記ターゲットを保持する開口を備えた遮蔽部材と、を備え、前記複数のターゲットがそれぞれ前記遮蔽部材の前記開口に保持されたアノードアレイと、
を有するマルチ放射線発生装置であって、
前記複数のターゲットは、トモシンセシス撮影と非トモシンセシス撮影の両者に用いられる両用ターゲットと、トモシンセシス撮影にのみ用いられ前記所定方向に列状に配列された複数の単用ターゲットからなる単用ターゲットアレイと、を含み、
前記両用ターゲットは前記単用ターゲットアレイとともに前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とするマルチ放射線発生装置。 - 前記両用ターゲットは前記単用ターゲットアレイと一列で前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記ターゲットは、前記電子源に対向する側に位置するターゲット層と、前記ターゲット層を支持する支持基板と、からなることを特徴とする請求項1または2に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットの前記支持基板は、前記単用ターゲットの前記支持基板よりも厚いことを特徴とする請求項3に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットの前記支持基板は、前記単用ターゲットの前記支持基板よりも径が大きいことを特徴とする請求項3に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットは、前記電子が入射する方向に対して傾いて配置され、前記単用ターゲットは、前記電子が入射する方向に対して垂直に前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とする請求項1または2に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記遮蔽部材は、前記電子源の側に、前記ターゲットへの前記電子の照射を許容する通過孔と、前記電子源とは反対側に、前記ターゲットで発生した放射線の所定の方向への放出を許容する放出孔と、が設けられていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットが接続される開口に対応する前記遮蔽部材の部分は、前記単用ターゲットに対応する前記遮蔽部材の部分よりも、前記ターゲットの配列方向に対して垂直であり、かつ、前記電子が照射される方向に対して垂直な方向において厚いことを特徴とする請求項7に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットに対応する前記遮蔽部材に放熱フィンが接続されていることを特徴とする請求項1に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットに対応する前記遮蔽部材の通過孔または放出孔は、単用ターゲットに対応する前記遮蔽部材の通過孔または放出孔よりも、前記ターゲットと接する位置における径が小さいことを特徴とする請求項7に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記各ターゲットが有する前記遮蔽部材が、前記ターゲットの配列方向において連続に形成されていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のマルチ放射線発生装置。
- 請求項1乃至11のいずれか1項に記載のマルチ放射線発生装置と、
前記マルチ放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
前記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御するシステム制御装置とを備えることを特徴とする放射線撮影システム。 - 前記列状に配置された前記複数のターゲットより順次放射線を照射するトモシンセシス撮影モードと、前記両用ターゲットのみから放射線を照射する非トモシンセシス撮影モードと、を有することを特徴とする請求項12に記載の放射線撮影システム。
- 前記システム制御装置は、トモシンセシス撮影モードにおいては、前記カソードアレイと前記アノードアレイとの間に、第1の加速電圧を印加させ、非トモシンセシス撮影モードにおいては、前記カソードアレイと前記アノードアレイとの間に、前記第1の加速電圧とは異なる第2の加速電圧を印加させる制御を行うことを特徴とする請求項13に記載の放射線撮影システム。
- 所定方向に列状に配列された複数の電子源と、
それぞれが前記複数の電子源に対応して列状に設けられ、該電子源から放出された電子の照射により放射線を発生する複数のターゲットと、前記ターゲットを保持する開口を備えた遮蔽部材と、を備え、前記複数のターゲットがそれぞれ前記遮蔽部材の前記開口に保持されたマルチ放射線発生装置であって、
前記複数のターゲットは、トモシンセシス撮影と非トモシンセシス撮影の両者に用いられる両用ターゲットと、トモシンセシス撮影にのみ用いられ前記所定方向に列状に配列された複数の単用ターゲットからなる単用ターゲットアレイと、を含み、
前記両用ターゲットは前記単用ターゲットアレイとともに前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とするマルチ放射線発生装置。 - 前記両用ターゲットは前記単用ターゲットアレイと一列で前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とする請求項15に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記ターゲットは、前記電子源に対向する側に位置するターゲット層と、前記ターゲット層を支持する支持基板と、からなることを特徴とする請求項15または16に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットの前記支持基板は、前記単用ターゲットの前記支持基板よりも厚いことを特徴とする請求項17に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットの前記支持基板は、前記単用ターゲットの前記支持基板よりも径が大きいことを特徴とする請求項17に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットは、前記電子が入射する方向に対して傾いて配置され、前記単用ターゲットは、前記電子が入射する方向に対して垂直に前記遮蔽部材に接続されていることを特徴とする請求項15または16に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記遮蔽部材は、前記電子源の側に、前記ターゲットへの前記電子の照射を許容する通過孔と、前記電子源とは反対側に、前記ターゲットで発生した放射線の所定の方向への放出を許容する放出孔と、が設けられていることを特徴とする請求項15乃至20のいずれか1項に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットが接続される開口に対応する前記遮蔽部材の部分は、前記単用ターゲットに対応する前記遮蔽部材の部分よりも、前記ターゲットの配列方向に対して垂直であり、かつ、前記電子が照射される方向に対して垂直な方向において厚いことを特徴とする請求項21に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットに対応する前記遮蔽部材に放熱フィンが接続されていることを特徴とする請求項15に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記両用ターゲットに対応する前記遮蔽部材の通過孔または放出孔は、単用ターゲットに対応する前記遮蔽部材の通過孔または放出孔よりも、前記ターゲットと接する位置における径が小さいことを特徴とする請求項21に記載のマルチ放射線発生装置。
- 前記各ターゲットが有する前記遮蔽部材が、前記ターゲットの配列方向において連続に形成されていることを特徴とする請求項15乃至24のいずれか1項に記載のマルチ放射線発生装置。
- 請求項15乃至25のいずれか1項に記載のマルチ放射線発生装置と、
前記マルチ放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
前記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御するシステム制御装置とを備えることを特徴とする放射線撮影システム。 - 前記列状に配置された前記複数のターゲットより順次放射線を照射するトモシンセシス撮影モードと、前記両用ターゲットのみから放射線を照射する非トモシンセシス撮影モードと、を有することを特徴とする請求項26に記載の放射線撮影システム。
- 前記システム制御装置は、トモシンセシス撮影モードにおいては、前記複数の電子源と前記複数のターゲットとの間に、第1の加速電圧を印加させ、非トモシンセシス撮影モードにおいては、前記複数の電子源と前記複数のターゲットとの間に、前記第1の加速電圧とは異なる第2の加速電圧を印加させる制御を行うことを特徴とする請求項27に記載の放射線撮影システム。
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