JP6060263B2 - 縮合オキサゾール化合物及びその有害生物防除用途 - Google Patents
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Description
本発明は、ある種の縮合複素環化合物及びその有害生物防除用途に関する。
また、ある種の縮合複素環化合物(例えば特許文献1参照)が知られている。
[1] 式(1):
A1はN(O)p又はCHを表し、
A2はN(O)qを表し
R1はトリフルオロメチル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
R2はC1−C3パーフルオロアルキル基を表し、
pは0又は1を表し、
qは0又は1を表し、
nは0、1又は2を表し、
mは0、1又は2を表す。]
で示される縮合複素環化合物(但し、A1がNO及び/又はA2がNOの場合はnが2を表し、mが2を表す。)(以下、「本発明化合物」と記す)。
[2] A1がCHである上記[1]に記載の化合物。
[3] A1がNである上記[1]に記載の化合物。
[4] R1が水素原子である上記[1]〜[3]のいずれか1つに記載の化合物。
[5] R1がトリフルオロメチル基である上記[1]〜[3]のいずれか1つに記載の化合物。
[6] R2がトリフルオロメチル基である上記[1]〜[5]のいずれか1つに記載の化合物。
[7] pが0であり、qが0である上記[1]〜[6]のいずれか1つに記載の化合物。
[8] 上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。
[9] 不活性担体が水であり、上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物が界面活性剤を含有する水に分散されてなる上記[8]に記載の有害生物防除剤。
[10] 上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物の有効量を施用することを含む有害生物の防除方法。
[11] 上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物の有効量を、植物の茎葉部又は植物を栽培する土壌に施用する上記[10]に記載の防除方法。
[12] 不活性担体が喫食性担体である上記[8]に記載の有害生物防除剤。
[13] 不活性担体が溶剤および噴射ガスである上記[8]に記載の有害生物防除剤。
[14] 上記[13]に記載の有害生物防除剤を、有害生物及び/又は有害生物の生息場所に噴射することを含む上記[10]に記載の方法。
[15] 不活性担体がガス発生剤である上記[8]に記載の有害生物防除剤。
[16] 上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物を、有害生物が寄生する動物の体表面に施用することを含む上記[10]に記載の方法。
[17] 上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物を、有害生物が寄生する動物に経口服用させることを含む上記[10]に記載の方法。
[18] 式(M4):
A1はN又はCHを表し、
R1はトリフルオロメチル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
R2はC1−C3パーフルオロアルキル基を表し、
nは0、1又は2を表し、
mは0、1又は2を表す。]
で示される化合物(以下、「中間体化合物(M4)」と記す)。
[19] 式(M6):
A1はN又はCHを表し、
V1はフッ素原子又は塩素原子を表し、
R2はC1−C3パーフルオロアルキル基を表し、
mは0、1又は2を表す。]
で示される化合物(以下、「中間体化合物(M6)」と記す)。
[20] 式(M10):
A1はN又はCHを表し、
V1はフッ素原子又は塩素原子を表し、
R2はC1−C3パーフルオロアルキル基を表し、
mは0、1又は2を表す。]
で示される化合物(以下、「中間体化合物(M10)」と記す)。
「C1−C3パーフルオロアルキル基」としては、例えばトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基及びヘプタフルオロイソプロピル基が挙げられる。
式(1)において、A1がCHである化合物;
式(1)において、R1がフッ素原子である化合物;
式(1)において、R1が塩素原子である化合物;
式(1)において、R1が臭素原子である化合物;
式(1)において、R1がヨウ素原子である化合物;
式(1)において、R1が水素原子である化合物;
式(1)において、R2がペンタフルオロエチル基である化合物;
式(1)において、R2がヘプタフルオロプロピル基である化合物;
式(1)において、R2がヘプタフルオロイソプロピル基である化合物;
式(1)において、nが1である化合物;
式(1)において、nが2である化合物;
式(1)において、mが1である化合物;
式(1)において、mが2である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2であり、mが1又は2である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2であり、mが1又は2である化合物;
式(1)において、A1がNであり、A2がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2であり、mが1又は2である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2であり、mが1又は2である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2であり、mが1又は2である化合物;
式(1)において、A1がCHであり、A2がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基であり、nが2であり、mが1又は2である化合物;
式(1D)において、A3がCHである化合物;
式(1D)において、R1がフッ素原子である化合物;
式(1D)において、R1が塩素原子である化合物;
式(1D)において、R1が臭素原子である化合物;
式(1D)において、R1がヨウ素原子である化合物;
式(1D)において、R1が水素原子である化合物;
式(1D)において、R2がペンタフルオロエチル基である化合物;
式(1D)において、R2がヘプタフルオロプロピル基である化合物;
式(1D)において、R2がヘプタフルオロイソプロピル基である化合物;
式(1D)において、A3がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1D)において、A3がCHであり、R1がトリフルオロメチル基であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1D)において、A3がCHであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1D)において、A3がN又はCHであり、R1が水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1D)において、A3がNであり、R1が水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R2がC1−C3パーフルオロアルキル基であり、mが0又は1であり、nが0又は2である化合物;
式(1D)において、A3がNであり、R1が水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R2がトリフルオロメチル基であり、mが0又は1であり、nが0又は2である化合物;
式(1D)において、A3がCHであり、R1が水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R2がC1−C3パーフルオロアルキル基である化合物;
式(1D)において、A3がCHであり、R1が水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1A)において、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1A)において、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1A)において、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1B)において、A1がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1B)において、A1がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1B)において、A1がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1B)において、A1がCHであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1B)において、A1がCHであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1B)において、A1がCHであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1C)において、A1がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1C)において、A1がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1C)において、A1がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1C)において、A1がCHであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1C)において、A1がCHであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1C)において、A1がCHであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(1)においてA1がN又はCHであり、A2がNであり、mが0であり、nが1又は2である本発明化合物は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、mが0であり、nが0である本発明化合物を酸化することにより製造することができる。
式(1)においてA1がN又はCHであり、A2がNであり、mが0であり、nが1である本発明化合物(1−n1m0)は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、mが0であり、nが0である本発明化合物(1−n0m0)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば過ヨウ素酸ナトリウム及びm−クロロ過安息香酸が挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が通常1〜3モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が1〜1.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−50℃〜50℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n1m0)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−n1m0)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n1m0)1モルに対して、酸化剤が通常1〜4モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n1m0)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n1m0)1モルに対して、酸化剤が1〜2モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n1m0)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−50℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m0)を単離することができる。本発明化合物(1−n2m0)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が通常2〜5モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が2〜3モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m0)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−n2m0)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
式(1)においてA1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが1又は2である本発明化合物(1−n2m1)及び/又は本発明化合物(1−n2m2)は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが0である本発明化合物(1−n2m0)を酸化することにより製造することができる。
式(1)においてA1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが1である本発明化合物(1−n2m1)は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが0である本発明化合物(1−n2m0)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば過ヨウ素酸ナトリウム、m−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、酸化剤が通常1〜3モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、酸化剤が1〜1.2モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−50℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m1)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−n2m1)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n2m1)1モルに対して、酸化剤が通常1〜4モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n2m1)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m1)1モルに対して、酸化剤が1〜2モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m1)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−50℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m2)を単離することができる。本発明化合物(1−n2m2)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、酸化剤が通常2〜5モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、酸化剤が2〜3モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m0)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m2)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−n2m2)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが2である本発明化合物(1−n2m2)の合成中に、本発明化合物(1A)及び/又は本発明化合物(1B)及び/又は本発明化合物(1C)が生成する場合もある。
式(1)においてA1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが1もしくは2である本発明化合物(1−n2m1)及び/又は本発明化合物(1−n2m2)は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが0であり、mが0である本発明化合物(1−n0m0)を酸化することにより製造することができる。
式(1)においてA1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが1である本発明化合物(1−n2m1)は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが0であり、mが0である本発明化合物(1−n0m0)を酸化剤の存在下に反応させることにより一段階反応(ワンポット)で製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が通常3〜10モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が3〜5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m1)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−n2m1)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が通常4〜15モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、酸化剤が4〜5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n0m0)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1−n2m2)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−n2m2)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが2である本発明化合物(1−n2m2)の合成中に、本発明化合物(1A)及び/又は本発明化合物(1B)及び/又は本発明化合物(1C)が生成する場合もある。
本発明化合物(1A)は、A1がNであり、A2がNであり、nが2であり、mが2である本発明化合物(1−n2m2)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、酸化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、酸化剤が2〜5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、20℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜48時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1A)を単離することができる。単離された本発明化合物(1A)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(1A)の合成中に、本発明化合物(1B)及び/又は本発明化合物(1C)も同時に生成する場合もある。
本発明化合物(1B)は、A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが2であり、mが2である本発明化合物(1−n2m2)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、酸化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、酸化剤が2〜5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、20℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜48時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1B)を単離することができる。単離された本発明化合物(1B)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(1B)の合成中に、本発明化合物(1A)及び/又は本発明化合物(1C)も同時に生成する場合もある。
本発明化合物(1C)は、A1がNであり、A2がNであり、nが2であり、mが2である本発明化合物(1−n2m2)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;メタノール、エタノール等のアルコール類;酢酸;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えばm−クロロ過安息香酸、過酸化水素水及びオキソン(登録商標)が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えばタングステン酸、タングステン酸ナトリウム及びタングステン酸カリウムが挙げられる。
該反応には、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、酸化剤が通常2〜20モルの割合で用いられる。該反応には、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、酸化剤が3〜10モルの割合で用いられる。好ましくは、本発明化合物(1−n2m2)1モルに対して、触媒が0.05〜0.2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、50℃〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、1〜48時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液に続いて塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、次いで有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物(1C)を単離することができる。単離された本発明化合物(1C)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(1C)の合成中に、本発明化合物(1A)及び/又は本発明化合物(1B)も同時に生成する場合もある。
A1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物は、中間体化合物(M1)と中間体化合物(M2)とを反応させて中間体化合物(M4)を製造した後、得られた中間体化合物(M4)を分子内縮合させることにより製造することができる。
中間体化合物(M4)は、中間体化合物(M1)と中間体化合物(M2)とを、縮合剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えば、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(以下、「THF」と記す)、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド(以下、「DMF」と記す)、N−メチルピロリドン(以下、「NMP」と記す)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド(以下、「DMSO」と記す)等の非プロトン性極性溶媒;ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤としては、例えば1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、「EDCI塩酸塩」と記す。)、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類が挙げられる。
該反応は触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えば1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(以下、「HOBt」と記す)が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、中間体化合物(M2)が通常0.5〜2モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、触媒が通常0.01〜1モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注いでから有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮する;反応混合物に水を注いで生じた固体を濾過により集める;又は、反応混合物中に生成した固体を濾過により集める等の後処理操作を行うことにより中間体化合物(M4)を単離することができる。単離された中間体化合物(M4)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えば1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、THF、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類;及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、縮合剤、酸、塩基又は塩素化剤の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる縮合剤としては、例えば無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、EDCI塩酸塩、トリフェニルホスフィンと塩基と四塩化炭素もしくは四臭化炭素との混合物、トリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸ジエチル等のアゾジエステル類の混合物等が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えばパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類;酢酸等のカルボン酸類;硫酸;リン酸;ポリリン酸等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、ピコリン、2,6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン(以下、「DBU」と記す)、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−5−ノネン等の含窒素複素環化合物;トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類;リン酸三カリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、例えばオキシ塩化リン等が挙げられる。
該反応に縮合剤を用いる場合、中間体化合物(M4)1モルに対して、縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。該反応に酸を用いる場合、中間体化合物(M4)1モルに対して、酸が通常0.1モル〜5モルの割合で用いられる。該反応に塩基を用いる場合、中間体化合物(M4)1モルに対して、塩基が通常1モル〜5モルの割合で用いられる。該反応に塩素化剤を用いる場合、中間体化合物(M4)1モルに対して、塩素化剤が通常1モル〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注いでから有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮する;反応混合物に水を注いで生じた固体を濾過により集める;又は、反応混合物中に生成した固体を濾過により集める等の後処理操作を行うことにより、A1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)を単離することができる。単離されたA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)は、再結晶、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えば、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、THF、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、例えばEDCI塩酸塩、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、及びほう酸が挙げられる。
該反応は、触媒の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる触媒としては、例えば1−ヒドロキシベンゾトリアゾールが挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、中間体化合物(M2)が通常0.5〜2モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、触媒が通常0.01〜1モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注いでから有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮する;反応混合物に水を注いで生じた固体を濾過により集める;又は、反応混合物中に生成した固体を濾過により集める等の後処理操作を行うことによりA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)を単離することができる。単離されたA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)は、再結晶、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
A1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物は、中間体化合物(M1)と中間体化合物(M3)とを反応させて中間体化合物(M4)を製造した後、得られた中間体化合物(M4)を分子内縮合させることにより製造することができる。
中間体化合物(M4)は、中間体化合物(M1)と中間体化合物(M3)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、塩基の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類;トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類;及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、中間体化合物(M3)が通常1〜3モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注いだ後、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M4)を単離することができる。単離された中間体化合物(M4)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常溶媒の存在下あるいは非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、塩基の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類;トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類;及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、中間体化合物(M3)が通常1〜3モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、20℃〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注いだ後、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、A1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)を単離することができる。単離されたA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
単離されたA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)は、中間体化合物(M1)と中間体化合物(M5)とを酸化剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類;1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、THF、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば酸素、塩化銅(II)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン(以下、「DDQ」と記す。)等が挙げられる。
該反応は酸の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる酸としては、例えばパラトルエンスルホン酸等のスルホン酸類;酢酸等のカルボン酸類;ポリリン酸等が挙げられる。
該反応は亜硫酸塩の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる亜硫酸塩としては、例えば亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸ジナトリウム等が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、中間体化合物(M5)が通常1〜2モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、酸化剤が通常1モル〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、酸が通常0.1〜2モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M1)1モルに対して、亜硫酸塩が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜200℃の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注いでから有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮する;反応混合物に水を注いで生じた固体を濾過により集める;又は、反応混合物中に生成した固体を濾過により集める等の後処理操作を行うことによりA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)を単離することができる。単離されたA1がN又はCHであり、A2がNである本発明化合物(1)は、再結晶、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが0である本発明化合物(1−n0)は、中間体化合物(M6)と化合物(M7)とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類;水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M6)1モルに対して、化合物(M7)が通常1〜10モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M6)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−50℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、A1がN又はCHであり、A2がNであり、nが0である本発明化合物(1−n0)を単離することができる。単離されたA1がN又はCHであり、A2がNであり、nが0である本発明化合物(1−n0)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応においてV1としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
中間体化合物(M1)と、中間体化合物(M8)とを反応させて中間体化合物(M10)を製造した後、得られた中間体合物(M10)を分子内縮合させることにより中間体化合物(M6)を製造することができる。
中間体化合物(M2)に代えて中間体化合物(M8)を用い、製造法5−1の方法に準じて、中間体化合物(M10)を製造することができる。
中間体化合物(M4)に代えて中間体化合物(M10)を用い、製造法5−1もしくは製造法5−2の方法に準じて、中間体化合物(M6)を製造することができる。
また、中間体化合物(M2)に代えて中間体化合物(M8)を用い、製造法5−1の方法に準じて、中間体化合物(M6)を一段階反応(ワンポット)で製造することもできる。
該反応においてV1としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
中間体化合物(M1)と、中間体化合物(M9)とを反応させて中間体化合物(M10)を製造した後、得られた中間体合物(M10)を分子内縮合させることにより中間体化合物(M6)を製造することができる。
中間体化合物(M3)に代えて中間体化合物(M9)を用い、製造法5−2の方法に準じて、中間体化合物(M10)を製造することができる。
中間体化合物(M4)に代えて中間体化合物(M10)を用い、製造法5−1もしくは製造法5−2の方法に準じて、中間体化合物(M6)を製造することができる。
また、中間体化合物(M2)に代えて中間体化合物(M9)を用い、製造法5−2の方法に準じて、中間体化合物(M6)を一段階反応(ワンポット)で製造することもできる。
該反応においてV1としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
中間体化合物(M1)と、中間体化合物(M11)とを反応させることにより中間体化合物(M6)を製造することができる。
中間体化合物(M5)に代えて中間体化合物(M11)を用い、製造法6の方法に準じて、中間体化合物(M6)を製造することができる。
中間体化合物(M10)と化合物(M7)とを反応させることにより、nが0である中間体化合物(M4−n0)を製造することができる。
中間体化合物(M6)に代えて中間体化合物(M10)を用い、製造法7の方法に準じて、nが0である中間体化合物(M4−n0)を製造することができる。
該反応においてV1としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
中間体化合物(M2)は、中間体化合物(M12)を加水分解することにより製造することができる。
酸で加水分解する場合、該反応は、通常、酸の水溶液を溶媒として行われる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等の鉱酸類;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M2)を単離することができる。単離された中間体化合物(M2)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
塩基で加水分解する場合、該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M12)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応液を酸性にした後、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M2)を単離することができる。単離された中間体化合物(M2)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
中間体化合物(M3)は、中間体化合物(M2)を塩素化剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、塩化チオニル、二塩化オキサリル、オキシ塩化リン等が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M2)1モルに対して、塩素化剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物から溶媒を除去することにより、中間体化合物(M3)を単離することができる。
中間体化合物(M2)、中間体化合物(M5)もしくは中間体化合物(M12)は、それぞれ、中間体化合物(M8)、中間体化合物(M11)もしくは中間体化合物(M13)と、中間体化合物(M7)とを反応させ、必要に応じて得られた化合物を酸化することによって製造することができる。
中間体化合物(M6)に代えて中間体化合物(M8)を用い、製造法7の方法に準じて、nが0である中間体化合物(M2)を製造することができる。
中間体化合物(M6)に代えて中間体化合物(M11)を用い、製造法7の方法に準じて、nが0である中間体化合物(M5)を製造することができる。
中間体化合物(M6)に代えて中間体化合物(M13)を用い、製造法7の方法に準じて、nが0である中間体化合物(M12)を製造することができる。
nが0である本発明化合物(1)に代えてnが0である中間体化合物(M5)を用い、製造法1の方法に準じて、nが1である中間体化合物(M5−n1)もしくはnが2である中間体化合物(M5−n2)を製造することができる。
nが0である本発明化合物(1)に代えてnが0である中間体化合物(M12)を用い、製造法1の方法に準じて、nが1である中間体化合物(M12−n1)もしくはnが2である中間体化合物(M12−n2)を製造することができる。
該反応においてV1としては、フッ素原子、塩素原子が好ましい。
中間体化合物(M14)をニトロ化することにより中間体化合物(M15)を製造した後、得られた中間体化合物(M15)を還元することにより、中間体化合物(M1)を製造することができる。
中間体化合物(M15)は、中間体化合物(M14)をニトロ化剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;酢酸、濃硫酸、濃硝酸、水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるニトロ化剤としては、例えば濃硝酸等が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M14)1モルに対して、ニトロ化剤が通常1〜3モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−10℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注ぎ、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M15)を単離することができる。単離された中間体化合物(M15)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応は、通常、1〜100気圧の水素雰囲気下、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素添加触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M15)1モルに対して、水素が通常3モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M15)1モルに対して、水素添加触媒が通常0.001〜0.5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をろ過し、必要に応じて有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M1)を単離することができる。単離された中間体化合物(M1)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該還元反応は例えば還元剤;塩酸、酢酸等の酸;及び水の存在下で行うことができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば鉄粉、亜鉛粉末及び塩化スズ(II)粉末等の金属粉が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M15)1モルに対して、還元剤が通常3〜10モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M15)1モルに対して、酸が通常0.01モル〜0.5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M15)1モルに対して、水が3モル以上の割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M1)を単離することができる。単離された中間体化合物(M1)は、クロマトグラフィー、再結晶等により精製することもできる。
中間体化合物(M16)とチオール化剤とを反応させることにより、中間体化合物(M17)を製造することができる。また、2分子の中間体化合物(M17)を酸化することにより、中間体化合物(M17)のジスルフィド体である中間体化合物(M18)を製造することができる。
中間体化合物(M17)は、中間体化合物(M16)をチオール化剤及び触媒の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるチオール化剤としては、例えば硫化ナトリウム、硫化ナトリウム9水和物、チオウレアが挙げられる。
反応に用いられる触媒としては、例えば塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)が挙げられる。
該反応は、配位子の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる配位子としては、例えばアセチルアセトン、サレン、フェナントロリン等が挙げられる。
該反応は、塩基の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩基;トリエチルアミン等の有機塩基が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、チオール化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、触媒が通常0.1〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、配位子が通常0.1〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、塩基が通常1モル〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、50℃〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M17)を単離することができる。単離された中間体化合物(M17)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応においてV1としては、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
ここで、中間体化合物(M17)から中間体化合物(M18)への反応は起こりやすく、中間体化合物(M17)の合成中に中間体化合物(M18)が生成する場合もある。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば水;メタノール、エタノール等のアルコール類;THF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;酢酸等のカルボン酸類;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば酸素、ヨウ素、過酸化水素水、フェリシアン化カリウム等が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M17)1モルに対して、酸化剤が通常0.5〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M18)を単離することができる。単離された中間体化合物(M18)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
中間体化合物(M17)は、中間体化合物(M16)をチオエステル化して中間体化合物(M19)を製造した後、得られた中間体化合物(M19)を加水分解することにより製造することができる。
中間体化合物(M19)は、中間体化合物(M16)をチオエステル化剤、塩基及び触媒の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるチオエステル化剤としては、例えばチオ安息香酸等が挙げられる。
反応に用いられる触媒としては、例えば塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)が挙げられる。
該反応は、配位子の存在下で行ってもよい。
反応に用いられる配位子としては、例えばアセチルアセトン、サレン、フェナントロリン等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩基;トリエチルアミン等の有機塩基が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、チオエステル化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、触媒が通常0.1〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、配位子が通常0.1〜5モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M16)1モルに対して、塩基が通常1モル〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、50℃〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M19)を単離することができる。単離された中間体化合物(M19)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
該反応においてV1としては、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
酸で加水分解する場合、該反応は通常酸の水溶液を溶媒として行われる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等の鉱酸類;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M17)を単離することができる。単離された中間体化合物(M17)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
塩基で加水分解する場合、該反応は通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M19)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、0℃〜120℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応液を酸性にした後、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、中間体化合物(M17)を単離することができる。単離された中間体化合物(M17)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
ここで、中間体化合物(M17)から中間体化合物(M18)への反応は起こりやすく、中間体化合物(M17)の合成中に中間体化合物(M18)が生成する場合もある。
中間体化合物(M18)と中間体化合物(M20)とを、還元剤の存在下で反応させ、mが0である本発明化合物(1−m0)を製造することができる。
該反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル類;DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性極性溶媒;及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えばテトラキス(ジメチルアミノ)エチレン、ヒドラジン、ヒドラジン1水和物等が挙げられる。
中間体化合物(M20)としては、例えばヨウ化トリフルオロメタン、ヨウ化ペンタフルオロエタン、ヘプタフルオロ−2−ヨードプロパン等が挙げられる。
該反応には、中間体化合物(M18)1モルに対して、中間体化合物(M20)が通常2〜10モルの割合で用いられる。該反応には、中間体化合物(M18)1モルに対して、還元剤が1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常、−80〜50℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常、0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、mが0である本発明化合物(1−m0)を単離することができる。単離された本発明化合物(1−m0)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
式(1−n1):
で示される化合物は、立体異性体を含み、光学分割することによりエナンチオマーを製造することができる。
すなわち、式(1−n1)又は式(1−m1)で示される化合物を、光学異性体分離用カラムを用いるHPLCにより、(+)−エナンチオマーと(−)−エナンチオマーとに分離することができる。
光学異性体分離用カラムとしては、一般に市販されているものでよく、例えばダイセル化学工業株式会社が製造するキラルパックIC(CHRALPAK IC(登録商標))、キラルパックAD(CHIRALPAK AD(登録商標))が挙げられる。
光学分割で使用される移動相としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;メタノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール類;ジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;THF、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;酢酸、ギ酸等のカルボン酸類;水;及びこれらの混合物が挙げられる。
光学分割の温度は、通常、−20℃〜60℃の範囲である。
式(1E)
式(M4)において、A1がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M4)において、A1がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M4)において、A1がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M4)において、A1がCHであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M4)において、A1がCHであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M4)において、A1がCHであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
中間体化合物(M6)としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
式(M6)において、V1が塩素原子である化合物;
式(M6)において、A1がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M6)において、A1がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M6)において、A1がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M6)において、A1がCHであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M6)において、A1がCHであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M6)において、A1がCHであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
中間体化合物(M10)としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
式(M10)において、V1が塩素原子である化合物;
式(M10)において、A1がNであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M10)において、A1がNであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M10)において、A1がNであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M10)において、A1がCHであり、R1が塩素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M10)において、A1がCHであり、R1が臭素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
式(M10)において、A1がCHであり、R1が水素原子であり、R2がトリフルオロメチル基である化合物;
中間体化合物(M16)としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
式(M16)において、V1がヨウ素原子である化合物;
式(M16)において、A1がNであり、R1が塩素原子である化合物;
式(M16)において、A1がNであり、R1が臭素原子である化合物;
式(M16)において、A1がNであり、R1が水素原子である化合物;
式(M16)において、A1がCHであり、R1が塩素原子である化合物;
式(M16)において、A1がCHであり、R1が臭素原子である化合物;
式(M16)において、A1がCHであり、R1が水素原子である化合物;
式(1)において、nが2であり、mが0であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
式(1)において、nが0であり、mが1であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
式(1)において、nが1であり、mが1であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
式(1)において、nが2であり、mが1であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
式(1)において、nが0であり、mが2であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
式(1)において、nが1であり、mが2であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
式(1)において、nが2であり、mが2であり、A2がNであり、R1、R2及びA1が〔表1〕〜〔表2〕に記載の組み合わせのいずれかである本発明化合物。
クモ目害虫:カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum)、セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等のクモ類等
唇脚綱類:ゲジ(Thereuonema hilgendorfi),トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等。
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis),アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
腹足綱類:チャコウラナメクジ(Limax marginatus),キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。
本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物を通常0.01〜95重量%含有する。
該有害生物防除剤は、本発明化合物1−1〜1−98のいずれかを通常0.01〜95重量%含有する。
かかる植物の茎葉への処理としては、具体的には、例えば、茎葉散布、樹幹散布等の植物の表面に施用する処理方法が挙げられる。
かかる土壌処理としては、例えば、土壌への散布、土壌混和、土壌への薬液潅注(薬液潅水、土壌注入、薬液ドリップ)が挙げられる。処理する場所としては、例えば、植穴、作条、植穴付近、作条付近、栽培地の全面、植物地際部、株間、樹幹下、主幹畦、培土、育苗箱、育苗トレイ、苗床等が挙げられる。処理時期としては播種前、播種時、播種直後、育苗期、定植前、定植時、及び定植後の生育期等が挙げられる。
かかる水耕液処理としては、例えば、潅水設備(潅水チューブ、潅水パイプ、スプリンクラー等)への注入、条間湛水液への混入、水耕液へ混入等が挙げられる。
本発明の有害生物防除方法には、通常、本発明の有害生物防除剤の形態で用いられる。
かかる噴射ガスとしては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、LPG(液化石油ガス)、ジメチルエーテル及び炭酸ガスが挙げられる。
かかるエアゾールバルブとしては特に限定されないが、例えばプッシュダウン式エアゾールバルブが挙げられる。
農作物:トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等;
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等;
果樹:仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等;
果樹以外の樹木:チャ、クワ、花木類(サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等)、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等)、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等;
芝生:シバ類(ノシバ、コウライシバ等)、バミューダグラス類(ギョウギシバ等)、ベントグラス類(コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等)、ブルーグラス類(ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等)、フェスク類(オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等)、ライグラス類(ネズミムギ、ホソムギ等)、カモガヤ、オオアワガエリ等;
その他:花卉類(バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等)、バイオ燃料植物(ヤトロファ、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ等)、観葉植物等。
(1)有機リン化合物:
アセフェート(acephate)、リン化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、カズサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、リン化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methyl)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)及びフォレート(phorate)。
(2)カーバメート化合物:
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、キシリルカルブ(xylylcarb)、及びアルジカルブ(aldicarb)。
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベンフルスリン(benfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメスリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメスリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta−cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、メトフルトリン(metofluthrin)、プロフルトリン(profluthrin)、ジメフルトリン(dimefluthrin)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル(EZ)−(1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル(EZ)−(1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、及び2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル(1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル(EZ)−(1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート。
(4)ネライストキシン化合物:
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensultap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、及びビスルタップ(bisultap)。
イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、及びクロチアニジン(clothianidin)。
(6)ベンゾイル尿素化合物:
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、及びトリアズロン(triazuron)。
(7)フェニルピラゾール化合物:
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、及びピラフルプロール(pyrafluprole)。
(8)Btトキシン:
バチルス・チューリンゲンシス菌由来生芽胞及び該菌産生結晶毒素、及びそれらの混合物;
(9)ヒドラジン化合物:
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、及びテブフェノジド(tebufenozide)。
(10)有機塩素化合物:
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、及びメトキシクロル(methoxychlor)。
マシン油(machine oil)、硫酸ニコチン(nicotine−sulfate);アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアザメイト(triazamate)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スルフォキサフロール(sulfoxaflor)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、トラロピリル(tralopyril)、フルピラジフロン(flupyradifurone)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、下記式(K):
R100は塩素、臭素又はトリフルオロメチル基を表し、
R200は塩素、臭素又はメチル基を表し、
R300は塩素、臭素又はシアノ基を表す。〕
で示される化合物、及び下記式(L):
R1000は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。〕
で示される化合物。
(1)アゾール系化合物
トリホリン(triforine)、イマザリル(imaz:alil)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プロクロラズ(prochloraz)、トリフルミゾール(triflumizole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール‐M(diniconazole−M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、マイクロブタニル(myclobutanil)、ペンコナゾール(penconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメノール(triadimenol)、トリチコナゾール(triticonazole)等;
アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クレソキシムメチル(kresoxim−methyl)、メトミノストロビン(metominostrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、エネストロビン(enestrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、ファモキサドン(famoxadone)、フェナミドン(fenamidone)、ピリベンカルブ(pyribencarb)等;
カルベンダジム(carbendezim)、ベノミル(benomyl)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネートメチル(thiophanate−methyl)、ゾキサミド(zoxamide)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ペンシクロン(pencycuron)、フルオピコリド(fluopicolide)、カルボキシン(carboxin)、フルトラニル(frutolanil)、フラメトピル(frametpyr)、チフルザミド(thifluzamide)、ボスカリド(boscalid)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、フルオピラム(fluopyram)、ビキサフェン(bixafen)、イソピラザム(isopyrazam)、ペンフルフェン(penflufen)、セダキサン(sedaxan)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フルアジナム(fluazinam)、フェリムゾン(ferimzone)、シルチオファム(silthiofam)、プロシミドン(procymidone)、イプロジオン(iprodione)、ビンクロゾリン(vinclozolin)、メタラキシル(metalaxyl)、ベナラキシル(benalaxyl)、ピリメサニル(pyrimethanil)、メパニピリム(mepanipyrim)、シプロジニル(cyprodinil)、キノキシフェン(quinoxyfen)、プロキナジド(proquinazid)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph)、フェンプロピジン(fenpropidin)、スピロキサミン(spiroxamine)、チウラム(thiuram)、ジラム(ziram)、マンコゼブ(mancozeb)、クロロタロニル(chlorothalonil)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、キャプタン(captan)、フォルペット(folpet)、イミノクタジン(iminoctadine)、エタボキサム(ethaboxam)、メトラフェノン(metrafenone)、ドジン(dodine)、フサライド(fthalide)、トリシクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroquilon)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)、フェノキサニル(fenoxanil)、ジメトモルフ(dimethomorph)、イプロヴァリカルブ(iprovalicarb)、ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、マンジプロパミド(mandipropamid)、トルクロホスメチル(tolclofos−methyl)、キントゼン(quintozene)、シアゾファミド(cyazofamid)、アミスルブロム(amisulbrom)、アメトクトラジン(ametoctradin)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、バリダマイシンA(validamycin A)、ポリオキシンB(polyoxin B)、ブラストサイジンS(blastcidin−S)、カスガマイシン(kasugamycin)、オキソリニック酸(oxolinic acid)等;
アシベンゾラールSメチル(acibenzolar−S−methyl)、プロベナゾール(probenazole)、イソチアニル(isotianil)及びチアジニル(tiadinil)。
(1)フェノキシ脂肪酸除草性化合物:
2,4−PA、MCP、MCPB、フェノチオール(phenothiol)、メコプロップ(mecoprop)、フルロキシピル(fluroxypyr)、トリクロピル(triclopyr)、クロメプロップ(clomeprop)、及びナプロアニリド(naproanilide)。
(2)安息香酸除草性化合物:
2,3,6−TBA、ジカンバ(dicamba)、クロピラリド(clopyralid)、ピクロラム(picloram)、アミノピラリド(aminopyralid)、キンクロラック(quinclorac)、及びキンメラック(quinmerac)。
(3)尿素除草性化合物:
ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、クロルトルロン(chlortoluron)、イソプロツロン(isoproturon)、フルオメツロン(fluometuron)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、クミルロン(cumyluron)、ダイムロン(daimuron)、及びメチルダイムロン(methyl−daimuron)。
(4)トリアジン除草性化合物:
アトラジン(atrazine)、アメトリン(ametoryn)、シアナジン(cyanazine)、シマジン(simazine)、プロパジン(propazine)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)、メトリブジン(metribuzin)、トリアジフラム(triaziflam)、及びインダジフラム(indaziflam)。
(5)ビピリジニウム除草性化合物:
パラコート(paraquat)、及びジクワット(diquat)。
ブロモキシニル(bromoxynil)、及びアイオキシニル(ioxynil)。
(7)ジニトロアニリン除草性化合物:
ペンディメタリン(pendimethalin)、プロジアミン(prodiamine)、及びトリフルラリン(trifluralin)。
(8)有機リン除草性化合物:
アミプロホスメチル(amiprofos−methyl)、ブタミホス(butamifos)、ベンスリド(bensu1ide)、ピペロホス(piperophos)、アニロホス(anilofos)、グリホサート(glyphosate)、グルホシネート(glufosinate)、グルホシネート−P(glufosinate−P)、及びビアラホス(bialaphos)。
(9)カーバメート除草性化合物:
ジアレート(di−allate)、トリアレート(tri−allate)、EPTC、ブチレート(butylate)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、エスプロカルブ(esprocarb)、モリネート(molinate)、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)、クロルプロファム(chlorpropham)、フェンメディファム(phenmedipham)、フェニソファム(phenisopham)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、及びアシュラム(asulam)。
(10)酸アミド除草性化合物:
プロパニル(propanil)、プロピザミド(propyzamide)、ブロモブチド(bromobutide)、及びエトベンザニド(etobenzanid)。
アセトクロール(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、メトラクロール(metolachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(thenylchlor)、及びペトキサミド(pethoxamid)。
(12)ジフェニルエーテル除草性化合物:
アシフルオルフェン(acifluorfen−sodium)、ビフェノックス(bifenox)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、ラクトフェン(lactofen)、フォメサフェン(fomesafen)、クロメトキシニル(chlomethoxynil)、及びアクロニフェン(aclonifen)。
(13)環状イミド除草性化合物:
オキサジアゾン(oxadiazon)、シニドンエチル(cinidon−ethyl)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazone−ethyl)、スルフェントラゾン(surfentrazone)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen−ethyl)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、ペントキサゾン(pentoxazone)、フルチアセットメチル(fluthiacet−methyl)、ブタフェナシル(butafenacil)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)、及びサフルフェナシル(saflufenacil)。
(14)ピラゾール除草性化合物:
ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾレート(pyrazolate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、トプラメゾン(topramezone)、及びピラスルホトール(pyrasulfotole)。
(15)トリケトン除草性化合物:
イソキサフルトール(isoxaflutole)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、スルコトリオン(sulcotrione)、メソトリオン(mesotrione)、テンボトリオン(tembotrione)、及びテフリルトリオン(tefuryltrione)。
(16)アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物:
クロジナホッププロパルギル(clodinafop−propargyl)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl)、ジクロホップメチル(diclofop−methyl)、フェノキサプロップエチル(fenoxaprop−ethyl)、フルアジホップブチル(fluazifop−butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop−methyl)、及びキザロホップエチル(quizalofop−ethyl)、メタミホップ(metamifop)。
(17)トリオンオキシム除草性化合物:
アロキシジム(alloxydim−sodium)、セトキシジム(sethoxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレソジム(clethodim)、クロプロキシジム(cloproxydim)、シクロキシジム(cycloxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、及びプロフォキシジム(profoxydim)。
クロルスルフロン(chlorsulfuron)、スルホメツロンメチル(sulfometuron−methyl)、メトスルフロンメチル(metsulfuron−methyl)、クロリムロンエチル(chlorimuron−ethyl)、トリベニュロンメチル(tribenuron−methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron−methyl)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron−methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、エタメトスルフロンメチル(ethametsulfuron−methyl)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron−methyl)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム(iodosulfuron−methyl−sodium)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、メソスルフロンメチル(mesosulfuron−methyl)、トリフロキシスルフロン(trifloxysulfuron)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、オルソスルファムロン(orthosulfamuron)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、及びプロピリスルフロン(propyrisulfuron)。
(19)イミダゾリノン除草性化合物:
イマザメタベンズメチル(imazamethabenz−methyl)、イマザメタピル(imazamethapyr)、イマザモックス(imazamox)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、及びイマゼタピル(imazethapyr)。
(20)スルホンアミド除草性化合物:
フルメトスラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、クロランスラムメチル(cloransulam−methyl)、ペノキススラム(penoxsulam)、及びピロキススラム(pyroxsulam)。
(21)ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物:
ピリチオバックナトリウム(pyrithiobac−sodium)、ビスピリバックナトリウム(bispyribac−sodium)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、及びピリミスルファン(pyrimisulfan)。
(22)その他の除草性化合物:
ベンタゾン(bentazon)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、クロルチアミド(chlorthiamid)、イソキサベン(isoxaben)、ジノセブ(dinoseb)、アミトロール(amitrole)、シンメチリン(cinmethylin)、トリジファン(tridiphane)、ダラポン(da1apon)、ジフルフェンゾピルナトリウム(diflufenzopyr−sodium)、ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)、フルカルバゾンナトリウム(flucarbazone−sodium)、プロポキシカルバゾンナトリウム(propoxycarbazone−sodium)、メフェナセット(mefenacet)、フルフェナセット(flufenacet)、フェントラザミド(fentrazamide)、カフェンストロール(cafenstrole)、インダノファン(indanofan)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、ベンフレセート(benfuresate)、ACN、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、フルルタモン(flurtamone)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ピコリナフェン(picolinafen)、ベフルブタミド(beflubutamid)、クロマゾン(clomazone)、アミカルバゾン(amicarbazone)、ピノキサデン(pinoxaden)、ピラクロニル(pyraclonil)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、チエンカルバゾンメチル(thiencarbazone−methyl)、アミノシクロピラクロール(aminocyclopyrachlor)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)、及びメチオゾリン(methiozolin)。
まず、本発明化合物の製造について、製造例を示す。
3−クロロ−2−シアノピリジン1.39g、エチルメルカプタン0.9ml及びDMF10mlの混合物に、氷冷下、水素化ナトリウム(60%、油状)0.52gを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−シアノ−3−エチルスルファニルピリジン1.52gを得た。
2−シアノ−3−エチルスルファニルピリジン:
濃硫酸15ml及び水5mlの混合物に、2−シアノ−3−エチルスルファニルピリジン1.4gを加え、130℃で2時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に水酸化カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた水層に濃塩酸を加え、クロロホルムで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮することにより、3−エチルスルファニルピコリン酸1.15gを得た。
3−エチルスルファニルピコリン酸:
2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルファニル)フェノール(WO2009−131237に記載の方法で合成した)1.0g、3−エチルスルファニルピコリン酸0.87g、EDCI塩酸塩1.10g及びクロロホルム10mlの混合物を、室温で30分間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−エチルスルファニル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルファニル)フェニル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−6」と記す)1.32gを得た。
中間体化合物M4−6:
中間体化合物M4−6(1.23g)、ジ−2−メトキシエチルアゾジカルボキシレート(以下、「DMEAD」と記す)1.28g、トリフェニルホスフィン1.39g及びTHF30mlの混合物を、室温で1時間、続いて50℃で1時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した。該混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルファニルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルファニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−6」と記す)1.21gを得た。
本発明化合物1−6:
本発明化合物1−6(1.06g)及びクロロホルム30mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)1.47gを添加した後、室温で6時間攪拌した。反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルファニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−8」と記す)0.87g及び2−(3−エチルスルホニルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルフィニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−9」と記す)0.17gを得た。
本発明化合物1−8:
本発明化合物1−9:
本発明化合物1−8(0.35g)及びクロロホルム8mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)0.43gを添加した後、40℃で6時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣にアセトニトリル4ml、タングステン酸ナトリウム2水和物30mg及び30%過酸化水素水4mlを加え、80℃で6時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、析出した固体をろ取した。析出した固体に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルホニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−10」と記す)0.35gを得た。
本発明化合物1−10:
2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルファニル)フェノール1.0g、3−クロロ−5−トリフルオロメチルピコリン酸1.08g、EDCI塩酸塩1.10g及びクロロホルム10mlの混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮することにより、3−クロロ−5−トリフルオロメチル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルファニル)フェニル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M10−40」と記す)1.94gを得た。
中間体化合物M10−40:
中間体化合物M10−40(1.93g)、DMF6ml、THF1ml及びエチルメルカプタン0.38mlの混合物に、氷冷下、カリウムtert−ブトキシド0.62gを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルファニル)フェニル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−16」と記す)1.45gを得た。
中間体化合物M4−16:
中間体化合物M4−16(1.45g)、DMEAD1.19g、トリフェニルホスフィン1.29g及びTHF30mlの混合物を、室温で1時間、続いて50℃で1時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した後に水を注いだ。次いで、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルファニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−16」と記す)1.31gを得た。
本発明化合物1−16:
本発明化合物1−16(1.13g)及びクロロホルム25mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)0.56gを添加した後、0℃で40分間攪拌した。反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルフィニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルファニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−17」と記す)1.01gを得た。
本発明化合物1−17:
本発明化合物1−17(1.01g)及びクロロホルム20mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)0.56gを添加した後、室温で6時間攪拌した。さらに反応混合物にm−クロロ過安息香酸(純度65%以上)0.20gを添加した後、室温で3時間攪拌した。反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルファニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−18」と記す)0.53g及び2−(3−エチルスルホニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルフィニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−19」と記す)0.48gを得た。
本発明化合物1−18:
本発明化合物1−19:
本発明化合物1−19(0.26g)、アセトニトリル4ml、タングステン酸ナトリウム2水和物18mg及び30%過酸化水素水3.5mlを加え、85℃で5時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に30%過酸化水素水0.5mlを加え、85℃で3時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、析出した固体をろ取した。固体に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルホニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−20」と記す)0.24gを得た。
本発明化合物1−20:
tert−ブタノール27ml及び水酸化カリウム3.15gの混合物を加熱還流下1時間攪拌した。該混合物に2−クロロ−5−トリフルオロメチルスルファニルピリジン(WO2012−086848に記載の方法で合成した)6.0g及びtert−ブタノール3mLを滴下ロートで加えた。該混合物を加熱還流下5時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、濃塩酸を加えた。析出した固体をろ取し、エタノールで洗浄した。得られたろ液を減圧下濃縮し、1N塩酸を加えた。次いで、析出した固体をろ取し、水で洗浄し、ヘキサンで洗浄した後に乾燥させることにより、2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルファニルピリジン4.42gを得た。
2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルファニルピリジン:
2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルファニルピリジン2g及び濃硫酸10mLの混合物に、氷冷下、発煙硝酸0.74mLを加え、60℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、氷水50mLにあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた固体をtert−ブチルメチルエーテルで洗浄することにより、2−ヒドロキシ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン2.13gを得た。
2−ヒドロキシ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン:
鉄粉4.6g、酢酸0.5mL、エタノール20mL及び水15mLの混合物を70℃で攪拌し、ここに2−ヒドロキシ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン2gを加え、70℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、セライト(登録商標)を通してろ過した。得られたろ液を減圧下濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた固体をtert−ブチルメチルエーテルで洗浄することにより、3−アミノ−2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン1.45gを得た。
3−アミノ−2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン:
3−アミノ−2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン0.63g、3−エチルスルファニルピコリン酸0.55g、EDCI塩酸塩0.68g及びピリジン20mlの混合物を、室温で3時間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、室温で30分間攪拌した。析出した固体をろ取し、減圧下乾燥させることにより、3−エチルスルファニル−N−[2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン−3−イル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−61」と記す)0.73gを得た。
中間体化合物M4−61:
中間体化合物M4−61(0.67g)、DMEAD0.64g、トリフェニルホスフィン0.68g及びTHF40mlの混合物を、50℃で3時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した後に水を注いだ。次いで、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルファニルピリジン−2−イル)−6−(トリフルオロメチルスルフィニル)オキサゾロ[5,4−b]ピリジン(以下、「本発明化合物1−61」と記す)0.59gを得た。
本発明化合物1−61:
本発明化合物1−61(0.43g)及びクロロホルム30mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)0.53gを添加した後、室温で5時間攪拌した。反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニルピリジン−2−イル)−6−(トリフルオロメチルスルフィニル)オキサゾロ[5,4−b]ピリジン(以下、「本発明化合物1−4」と記す)0.34gを得た。
本発明化合物1−4:
本発明化合物1−4(0.17g)、アセトニトリル4ml、タングステン酸ナトリウム2水和物14mg及び30%過酸化水素水4mlの混合物を80℃で4時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加えた。析出した固体をろ取し、該固体に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた。次いで、該混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニルピリジン−2−イル)−6−(トリフルオロメチルスルホニル)オキサゾロ[5,4−b]ピリジン(以下、「本発明化合物1−5」と記す)0.09gを得た。
本発明化合物1−5:
3−クロロ−2−シアノ−5−トリフルオロメチルピリジン10.0g、エチルメルカプタン4.38ml及びDMF40mlの混合物に、氷冷下、水素化ナトリウム(60%、油状)2.53gを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−シアノ−3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピリジン9.25gを得た。
2−シアノ−3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピリジン:
濃硫酸30ml及び水10mlの混合物に、2−シアノ−3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピリジン6.0gを加え、130℃で2時間攪拌した。室温まで放冷後、反応混合物を氷冷し、水200mlを加え、室温で30分間攪拌した。析出した固体をろ取し、水で洗浄後、減圧下乾燥させることにより、3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピコリン酸6.74gを得た。
3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピコリン酸:
3−アミノ−2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン0.67g、3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピコリン酸0.75g、EDCI塩酸塩0.68g及びピリジン20mlの混合物を、室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に水を注ぎ、室温で15分間攪拌した。析出した固体をろ取し、減圧下乾燥させることにより、3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチル−N−[2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルスルフィニルピリジン−3−イル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−65」と記す)1.28gを得た。
中間体化合物M4−65:
中間体化合物M4−65(1.24g)、DMEAD1.01g、トリフェニルホスフィン1.06g及びTHF40mlの混合物を、50℃で3時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した後に水を注いだ。次いで、該混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルファニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−6−(トリフルオロメチルスルフィニル)オキサゾロ[5,4−b]ピリジン(以下、「本発明化合物1−65」と記す)0.94gを得た。
本発明化合物1−65:
本発明化合物1−65(0.74g)及びクロロホルム30mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)0.77gを添加した後、室温で4時間攪拌した。反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−6−(トリフルオロメチルスルフィニル)オキサゾロ[5,4−b]ピリジン(以下、「本発明化合物1−14」と記す)0.75gを得た。
本発明化合物1−14:
本発明化合物1−14(0.38g)、アセトニトリル4ml、タングステン酸ナトリウム2水和物27mg及び30%過酸化水素水4mlの混合物を80℃で4.5時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加えた。次いで、析出した固体をろ取し、10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニル−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル)−6−(トリフルオロメチルスルホニル)オキサゾロ[5,4−b]ピリジン(以下、「本発明化合物1−15」と記す)0.21gを得た。
本発明化合物1−15:
4−(トリフルオロメチルスルファニル)フェノール4.85g及びクロロホルム100mlの混合物に、氷冷下、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)6.33gを添加した後、氷冷下で4時間攪拌した。反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた固体をろ取し、ヘキサンで洗浄することにより、4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール5.16gを得た。
4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール:
4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノールは、以下の方法で製造することができた:
4−(トリフルオロメチルスルファニル)フェノール5.0gおよび50%硫酸10.1gの混合物に70℃で35%過酸化水素水1.26gを加え、次いで、該混合物を70℃で1時間攪拌した。該反応混合物に70℃で35%過酸化水素水0.50gを加え、次いで、該混合物を70℃で1時間攪拌した。該反応混合物に70℃で35%過酸化水素水0.26gを加え、次いで、該混合物を70℃で1時間攪拌した。該反応混合物に70℃で35%過酸化水素水0.6gを加え、次いで、該混合物を70℃で30分間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に炭酸水素ナトリウム溶液を加えた。該混合物を酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた固体をろ取し、ヘキサンで洗浄することにより、4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール4.62g(LCの面積百分率により算出した純度:93.6%)を得た。
4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール0.42g及び酢酸4mlの混合物に、硝酸0.29g及び濃硫酸160μlを注ぎ、室温で8時間攪拌した。反応混合物に氷水を注ぎ、析出した固体をろ取した。該固体を水で洗浄し、減圧下乾燥させることにより、2−ニトロ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール0.28gを得た。
2−ニトロ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール:
2−ニトロ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール5.0g、パラジウムカーボン(Pd5%)0.50g及びエタノール65mlの混合物を、水素雰囲気下35℃で6時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物をセライト(登録商標)でろ過した。ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた固体をクロロホルムで洗浄することにより、2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール3.87gを得た。
2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール:
3−エチルスルファニルピコリン酸1.0g、トルエン12ml及びDMF0.1mlの混合物に、氷冷下、塩化チオニル0.8mlを加え、100℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、減圧下濃縮した。反応混合物にTHF8mlを加え、これを2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール1.23g及びTHF12mlの混合物に加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮することにより、3−エチルスルファニル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェニル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−63」と記す)2.07gを得た。
中間体化合物M4−63:
中間体化合物M4−63(0.60g)、DMEAD0.52g、トリフェニルホスフィン0.56g及びTHF12mlの混合物を、50℃で2.5時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した後に水を注いだ。次いで、該混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルファニルピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルフィニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−63」と記す)0.51gを得た。
本発明化合物1−63:
本発明化合物1−8(915mg)およびクロロホルム8.5mlの混合物に、m−クロロ過安息香酸(純度65%以上)1.42gを加え、室温で4日間攪拌した。反応混合物に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、室温で10分間攪拌した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−エチルスルホニル−オキシピリジン−2−イル)−5−(トリフルオロメチルスルホニル)ベンズオキサゾール(以下、「本発明化合物1−76」と記す)117mgを得た。
本発明化合物1−76:
3−エチルスルホニルピコリン酸1.00gのトルエン5ml懸濁液にDMF0.003gを加え、塩化チオニル1.12gを室温下で滴下した。滴下後、該混合物を75℃で1時間攪拌し、溶媒を蒸発除去して3−エチルスルホニルピコリン酸クロリド1.06g得た。
3−エチルスルホニルピコリン酸クロリド:
2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェノール0.93gのTHF5ml溶液に3−エチルスルホニルピコリン酸クロリドのTHF2ml溶液を氷冷下で滴下した後、室温で18時間攪拌した。反応混合物を水でクエンチし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて水及び飽和塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−エチルスルホニル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェニル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−9」と記す)1.50gを得た。
中間体化合物M4−9:
中間体化合物M4−9 (0.50g)のキシレン5ml懸濁液にp−トルエンスルホン酸一水和物0.45gを加えた。ディーンスターク装置で該混合物を8時間還流攪拌した。放冷した反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に続いて水及び飽和塩水で洗浄した。次いで、該混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−9(0.38g)を得た。
4−(トリフルオロメチルスルファニル)フェノール10.0g及びタングステン酸ナトリウム2水和物0.86gの混合物に70℃で35%過酸化水素水4.99gを加え、次いで、該混合物を70℃で30分間攪拌した。反応混合物に70℃で35%過酸化水素水5.0gを加え、次いで、該混合物を80℃で1時間攪拌した。反応混合物に80℃で35%過酸化水素水2.0gを加え、次いで、該混合物を80℃で3時間攪拌した。反応混合物に80℃で35%過酸化水素水1.0gを加え、次いで、該混合物を80℃で3時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた。沈殿した固体をろ取し、減圧下濃縮することにより、4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール10.81gを得た。
4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール:
4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール5.0g及び酢酸20mlの混合物に50℃で65%硝酸1.90mlを加え、次いで、該混合物を50℃で9時間攪拌した後、60℃で2時間攪拌した。反応混合物に60℃で65%硝酸1.26mlを加え、次いで、該混合物を60℃で1時間攪拌した後、70℃で8時間攪拌した。反応混合物に氷水を注ぎ、析出した固体をろ取した。該固体を水で洗浄し、減圧下乾燥させることにより、2−ニトロ−4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール4.98gを得た。
2−ニトロ−4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール:
2−ニトロ−4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール4.5g、パラジウムカーボン(Pd5%)1.37g、酢酸0.05ml及びエタノール(45.6ml)の混合物を、水素雰囲気下40℃で9時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物をセライト(登録商標)でろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた固体をトルエンで洗浄することにより、2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール3.78gを得た。
2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール:
2−アミノ−4−(トリフルオロメチルスルホニル)フェノール0.60gをTHF4.22gに溶解し、ここへTHF3.63gに溶解した3−エチルスルホニルピコリン酸クロリド0.59gを20〜25℃で滴下した。滴下後、該混合物を室温で2時間攪拌し、溶媒を蒸発除去した。析出した固体をろ取し、減圧下乾燥させることにより、3−エチルスルホニル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルホニル)フェニル]ピコリンアミド(以下、「中間体化合物M4−10」と記す)1.09g(1H−NMRにより算出した純度:86%)を得た。
中間体化合物M4−10:
中間体化合物M4−10(0.60g)にモノクロロベンゼン7.23g及びp−トルエンスルホン酸一水和物0.52gを加え、加熱還流を17時間行なった。室温まで放冷した反応混合物に水を加えた。該混合物に酢酸エチル40mLを加え、有機層を水で2回、続いて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−10(0.35g)を得た。
本発明化合物1−26:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.50(1H,dd),8.26(1H,s),7.74−7.70(3H,m),3.07(2H,q),1.50(3H,t).
本発明化合物1−28:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.96(1H,d),8.59(1H,d),8.19(1H,d),7.79(1H,dd),7.74(1H,d),4.08(2H,q),1.46(3H,t).
本発明化合物1−29:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.97(1H,dd),8.60(1H,dd),8.36(1H,s),7.94(1H,d),7.89(1H,d),4.07(2H,q),1.47(3H,t).
本発明化合物1−30:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.99(1H,d),8.60(1H,d),8.59(1H,d),8.18(1H,dd),7.98(1H,dd),4.04(2H,q),1.47(3H,t).
本発明化合物1−46:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.59(1H,dd),8.26(1H,d),7.79(1H,dd),7.74(1H,d),7.70(1H,dd),7.43(1H,dd),3.07(2H,q),1.48(3H,t).
本発明化合物1−48:
1H−NMR(CDCl3)δ:9.03(1H,dd),8.61(1H,dd),8.18(1H,s),7.79−7.71(3H,m),4.04(2H,q),1.43(3H,t).
本発明化合物1−49:
1H−NMR(CDCl3)δ:9.05(1H,dd),8.62(1H,dd),8.36(1H,d),7.94(1H,dd),7.88(1H,d),7.78(1H,dd),4.02(2H,q),1.44(3H,t).
本発明化合物1−50:
1H−NMR(CDCl3)δ:9.06(1H,dd),8.62(1H,dd),8.58(1H,d),8.17(1H,dd),7.97(1H,d),7.80(1H,dd),3.99(2H,q),1.45(3H,t).
本発明化合物1−64:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.66(1H,d),8.61(1H,dd),8.12(1H,dd),7.98−7.92(1H,m),7.82(1H,dd),7.47(1H,dd),3.09(2H,q),1.49(3H,t).
本発明化合物1−94:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.52(1H,d),8.39(1H,d),7.93(1H,d),7.88(1H,dd),7.74(1H,d),3.08(2H,q),1.51(3H,t).
本発明化合物1−95:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.42(1H,d),8.26(1H,s),7.73−7.71(2H,m),7.48(1H,dd),3.05(2H,q),1.50(3H,t).
本発明化合物1−96:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.88(1H,d),8.34(1H,dd),8.19(1H,d),7.78(1H,dd),7.74(1H,d),4.08(2H,q),1.45(3H,t).
本発明化合物1−97:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.90(1H,d),8.59(1H,d),8.35(1H,dd),8.18(1H,dd),7.97(1H,d),4.04(2H,q),1.47(3H,t).
本発明化合物1−98:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.96(1H,dd),8.70(1H,dd),8.61(1H,d),8.18(1H,dd),8.10−7.96(1H,m),7.82(1H,ddd),3.62−3.45(1H,m),3.17−2.99(1H,m),1.43(3H,t).
M4−8:
1H−NMR(DMSO−D6)δ:11.05(1H,s),10.15(1H,s),8.95(1H,d),8.47(1H,s),8.43(1H,d),7.87(1H,dd),7.38(1H,d),7.06(1H,d),3.71(2H,q),1.19(3H,t).
M4−46:
1H−NMR(CDCl3)δ:10.42(1H,s),8.37(1H,dd),7.75(1H,dd),7.53(1H,d),7.46(1H,dd),7.40(1H,dd),7.08(1H,d),2.97(2H,q),1.45(3H,t).
M4−64:
1H−NMR(DMSO−D6)δ:12.54(1H,s),10.69(1H,s),9.07(1H,s),8.48(1H,d),7.98(1H,d),7.77(1H,d),7.65(1H,dd),7.31(1H,d),2.99(2H,q),1.31(3H,t).
M6−34:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.77(1H,dd),8.26(1H,s),7.98(1H,dd),7.77−7.72(2H,m),7.47(1H,dd).
M6−35:
1H−NMR(DMSO−D6)δ:8.82(1H,dd),8.52(1H,s),8.30−8.24(2H,m),8.07(1H,d),7.75(1H,dd).
M6−36:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.79(1H,dd),8.65(1H,d),8.16(1H,dd),8.01(1H,dd),7.97(1H,d),7.53(1H,dd).
M6−46:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.71(1H,dd),8.25(1H,s),8.00(1H,dd),7.79−7.72(2H,m).
M6−61:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.61(1H,d),8.23(1H,s),7.79−7.72(2H,m),7.54−7.47(1H,m).
M10−34:
1H−NMR(CDCl3)δ:10.29(1H,s),9.45(1H,brs),8.58(1H,dd),7.94(1H,dd),7.54(1H,d),7.51(1H,dd),7.44(1H,dd),7.10(1H,d).
M10−35:
1H−NMR(DMSO−D6)δ:11.59(1H,s),10.47(1H,s),8.83(1H,d),8.69(1H,dd),8.15(1H,dd),7.69(1H,dd),7.55(1H,dd),7.22(1H,d).
M10−36:
1H−NMR(DMSO−D6)δ:12.48(1H,br.s),10.56(1H,s),9.01(1H,d),8.70(1H,dd),8.16(1H,dd),7.79(1H,dd),7.70(1H,dd),7.31(1H,d).
M10−46:
1H−NMR(DMSO−D6)δ:11.64(1H,brs),10.36(1H,s),8.80−8.77(2H,m),8.46(1H,d),7.54(1H,d),7.21(1H,d).
M10−61:
1H−NMR(CDCl3)δ:9.91(1H,brs),9.42(1H,s),8.42(1H,d),7.54(1H,d),7.48−7.43(2H,m),7.10(1H,d).
M16−25:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.63(1H,d),8.61(1H,dd),8.51(1H,d),7.78(1H,dd),7.43(1H,dd),3.05(2H,q),1.45(3H,t).
M16−28:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.57(1H,dd),8.27(1H,d),7.77(1H,dd),7.71(1H,dd),7.46(1H,d),7.40(1H,dd),3.05(2H,q),1.46(3H,t).
M16−29:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.91(1H,d),8.64(1H,d),8.26−8.20(1H,m),7.80−7.70(2H,m),7.50(1H,d),3.53−3.42(1H,m),3.06−2.96(1H,m),1.41(3H,t).
M16−30:
1H−NMR(CDCl3)δ:9.02(1H,dd),8.59(1H,dd),8.20(1H,d),7.76(1H,dd),7.72(1H,dd),7.47(1H,d),4.02(2H,q),1.42(3H,t).
M16−31:
1H−NMR(CDCl3)δ:8.80(1H,s),8.67(1H,d),8.56(1H,d),7.93(1H,s),3.10(2H,q),1.49(3H,t).
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10部を、キシレン35部とN,N−ジメチルホルムアミド35部との混合物に溶解し、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル14部及びドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、攪拌して各化合物の乳剤を得る。
ラウリル硫酸ナトリウム4部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、シリカ微粉末20部及び珪藻土54部を混合し、さらに本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 20部を加え、混合して各化合物の水和剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 2部に、シリカ微粉末1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリン65部を加え混合する。ついで、この混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、造粒機で製粒し、通風乾燥して各化合物の粒剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 1部を適当量のアセトンに溶解しする。該混合物にシリカ微粉末5部、PAP0.3部及びパイロフィライト93.7部を加え、充分攪拌した。次いで、アセトンを蒸発除去して各化合物の粉剤を得る。
ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩及びホワイトカーボンの混合物(重量比1:1)35部と、本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10部と、水55部とを混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各化合物のフロアブル剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 0.1部をキシレン5部及びトリクロロエタン5部に溶解し、これを脱臭灯油89.9部と混合して各化合物の油剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10mgをアセトン0.5mlに溶解した。この混合物を、動物用固形飼料粉末(飼育繁殖用固形飼料粉末CE−2、日本クレア株式会社商品)5gに加え、均一に混合する。ついで、アセトンを蒸発除去して各化合物の毒餌剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 0.1部、ネオチオゾール(中央化成株式会社)49.9部をエアゾール容器に入れた。エアゾールバルブを装着した後、ジメチルエーテル25部及びLPG25部を充填した。振とうを加え、アクチュエータを装着することで各化合物の油剤エアゾールを得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 0.6部、BHT(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール)0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部及び乳化剤{レオドールMO−60(花王株式会社製)}1部を混合溶解した。該混合物と蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブを装着した。該バルブを通じて容器に噴射剤(LPG)40部を加圧充填して水性エアゾールを得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 0.1gを、プロピレングリコール2mlに溶解させ、多孔セラミック板(4.0×4.0cm、厚さ1.2cm)に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 5部とエチレンーメタクリル酸メチル共重合体(共重合体中のメタクリル酸メチルの割合:10重量%、アクリフトWD301、住友化学製)95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練した。得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、棒状成型体(長さ15cm、直径3mm)を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 5部と軟質塩化ビニル樹脂95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練した。得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、棒状成型体(長さ15cm、直径3mm)を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 100mg、ラクトース68.75mg、トウモロコシデンプン237.5mg、微結晶性セルロース43.75mg、ポリビニルピロリドン18.75mg、ナトリウムカルボキシメチルデンプン28.75mg、及びステアリン酸マグネシウム2.5mgを混合し、得られた混合物を適切な大きさに圧縮して、錠剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 25mg、ラクトース60mg、トウモロコシデンプン25mg、カルメロースカルシウム6mg、及び5%ヒドロキシプロピルメチルセルロース適量を混合し、得られた混合物をハードシェルゼラチンカプセル又はヒドロキシプロピルメチルセルロースカプセルに充填し、カプセル剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 1000mg、フマル酸500mg、塩化ナトリウム2000mg、メチルパラベン150mg、プロピルパラベン50mg、顆粒糖25000mg、ソルビトール(70%溶液)13000mg、VeegumK(VanderbiltCo.)100mg、香料35mg、及び着色料500mgの混合物に、最終容量が100mlとなるよう蒸留水を加え、充分混合して、経口投与用サスペンジョンを得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 5重量%を、ポリソルベート85 5重量%、ベンジルアルコール3重量%、及びプロピレングリコール30重量%に溶解し、この溶液のpHが6.0〜6.5となるようにリン酸塩緩衝液を加えた後、最終容量となるまで水を加えて、経口投与用液剤を得る。
分留ヤシ油57重量%およびポリソルベート85 3重量%中にジステアリン酸アルミニウム5重量%を加熱により分散させる。これを室温に冷却し、その油状ビヒクル中にサッカリン25重量%を分散させる。これに本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10重量%を配分し、経口投与用ペースト状製剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 5重量%を石灰石粉95重量%と混合し、湿潤顆粒形成法を使用して経口投与用粒剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 5部をジエチレングリコールモノエチルエーテル80部に溶解し、これに炭酸プロピレン15部を混合して、スポットオン液剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10部をジエチレングリコールモノエチルエーテル70部に溶解し、これに2−オクチルドデカノール20部を混合して、ポアオン液剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 0.5部に、ニッコールTEALS−42(日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの42%水溶液)60部、プロピレングリコール20部を添加した。均一溶液になるまで充分攪拌混合した後、水19.5部を加えてさらに充分攪拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 0.15重量%、動物飼料95重量%、並びに、第2リン酸カルシウム、珪藻土、Aerosil、及びカーボネート(又はチョーク)からなる混合物4.85重量%を十分攪拌混合し、動物用飼料プレミックスを得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 7.2g、及びホスコS−55(丸石製薬株式会社製)92.8gを100℃で溶解混和した。次いで、該混合物を坐剤形に注いで、冷却固化して、坐剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10部、ポリオキシアルキレンアリールフェニルエーテルリン酸塩、プロピレングリコール5部、シリコーン系消泡剤0.2部及び水58.5部を混合し、湿式粉砕法により微粉砕し、懸濁液を得る。該懸濁液に、ケイ酸アルミニウムマグネシウム0.4部、キサンタンガム0.2部、防腐剤0.2部及び水23.5部の混合物を加えて混合し、各化合物のフロアブル剤を得る。
水43.5部にポリビニルアルコール3部を溶解させて調製されるポリビニルアルコール水溶液に、本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 10部及び芳香族炭化水素(Solvesso 200ND、ExxonMobil Chemical社製)20部を加え、攪拌機を用いて攪拌することにより、懸濁液を得る。得られた懸濁液に、ケイ酸アルミニウムマグネシウム0.3部、キサンタンガム0.15部、防腐剤0.2部及び水17.65部の混合物と、プロピレングリコール5部と、シリコーン系消泡剤0.2部とを加えて混合し、各化合物のフロアブル剤を得る。
本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種 3.6部とアセトン14.3部とを混合し溶液を得る。この溶液に、酸化亜鉛0.2部、α−澱粉1.0部及びアゾジカルボンアミド42.8部を加える。これに水38.1部を加えて混練し、押出機で顆粒状に成形、乾燥させる。得られた本発明化合物含有顆粒を中央部がアルミ製隔壁で区分された容器の上部空間に収容し、酸化カルシウム50gをこの容器の下部空間に収容し、燻煙剤を得る。
酸化亜鉛0.5部、α−澱粉2部、及びアゾジカルボンアミド97.5部を混合し、ここに水を加えた。該混合物を混練し、押出機で顆粒状に成形し、乾燥して顆粒を得る。この顆粒2gに本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種0.58gを含有するアセトン溶液を均一に含浸させた後、乾燥して本発明化合物1−1〜1−98のいずれか1種を含有する顆粒を得る。得られた本発明化合物含有顆粒を中央部がアルミ製隔壁で区分された容器の上部空間に収容し、酸化カルシウム50gをこの容器の下部空間に収容し、燻煙剤を得る。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−18、1−19、1−20、1−29、1−46、1−48、1−49、1−50、1−63、1−65及び1−76のいずれかを含有する製剤を、有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗(第1本葉展開期)にワタアブラムシ(Aphis gossypii)(全ステージ)約30頭を接種し、1日間放置した。この幼苗に、前記試験用薬液20mlを散布した。
散布6日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた:
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:無処理区の観察時の虫数
ここで無処理区とは、製剤例5において本発明化合物を含まない製剤を、処理区と同量の水で希釈した試験用薬液を散布した区を意味する。
その結果、本発明化合物1−4、1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−18、1−19、1−20、1−29、1−46、1−48、1−49、1−50、1−63、1−65及び1−76の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、防除価90%以上を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−5、1−8、1−9、1−10及び1−76のいずれかを含有する製剤を、有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗(第2本葉展開期)に、前記試験用薬液5mlを株元潅注し、7日間25℃の温室内に保った。ワタアブラムシ(Aphis gossypii)(全ステージ)約30頭をキュウリ葉面に接種し、さらに6日該温室内に保った後に、該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:無処理区の観察時の虫数
ここで無処理区とは、製剤例5において本発明化合物を含まない製剤を、処理区と同量の水で希釈した試験用薬液を散布した区を意味する。
その結果、本発明化合物1−4、1−5、1−8、1−9、1−10及び1−76の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、防除価90%以上を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−6、1−8、1−9、1−10、1−18、1−19、1−48、1−49及び1−76のいずれかを含有する製剤を、有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、ポリエチレンカップに植えたイネ幼苗(第2葉展開期)に、前記試験用薬液10mlを散布した。風乾後、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)の3〜4齢幼虫を20頭放して、25℃の温室内に保管した。6日後、イネに寄生したトビイロウンカの生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:無処理区の観察時の虫数
ここで無処理区とは、製剤例5において本発明化合物を含まない製剤を、処理区と同量の水で希釈した試験用薬液を散布した区を意味する。
その結果、本発明化合物1−4、1−6、1−8、1−9、1−10、1−18、1−19、1−48、1−49及び1−76の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、防除価90%以上を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−6、1−8、1−9、1−10、1−19、1−48、1−49、1−63及び1−76のいずれかを含有する製剤を、有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、プラスチックカップに植えたイネ幼苗(播種2週間後、第2葉展開期)に、前記試験用薬液5mlを株元潅注し、7日間25℃の温室内に保った。トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)の3〜4齢幼虫を20頭放して、さらに6日該温室内に保った後に、該イネに寄生したトビイロウンカ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:無処理区の観察時の虫数
ここで無処理区とは、製剤例5において本発明化合物を含まない製剤を、処理区と同量の水で希釈した試験用薬液を散布した区を意味する。
その結果、本発明化合1−4、1−6、1−8、1−9、1−10、1−19、1−48、1−49、1−63及び1−76の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、防除価90%以上を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物のいずれかを含有する製剤を、有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製する。
一方、ポリエチレンカップに植えたトマト幼苗(第3本葉展開期)に、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)成虫を放ち、約72時間産卵させる。該トマト苗を8日間温室内に保持した。産下された卵から初齢幼虫が孵化してきたところへ前記試験用薬液を20ml/カップの割合で散布した。25℃で温室内に保持する。7日間保持した後、トマト葉上の生存幼虫数の調査を行い、次の式により防除価を求める。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:無処理区の観察時の虫数
ここで無処理区とは、製剤例5において本発明化合物を含まない製剤を、処理区と同量の水で希釈した試験用薬液を散布した区を意味する。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−16、1−18、1−19、1−20、1−29、1−46、1−48、1−49、1−50、1−63及び1−76のいずれかを含有する製剤を、有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、ポリエチレンカップに植えたキャベツ(3葉期)に、前記試験用薬液を20mL/カップの割合で散布した。薬液が乾いた後、茎葉部を切り取って50mLカップに収容した。該カップ中にコナガ(Plutella xylostella)2令幼虫5頭を放ち、蓋をした。25℃で保管し、5日後に生存虫数を数えた。次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物1−4、1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−16、1−18、1−19、1−20、1−29、1−46、1−48、1−49、1−50、1−63及び1−76の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、死虫率80%以上を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−16、1−18、1−19、1−20、1−46、1−48、1−49、1−50、1−63及び1−76のいずれかを含有する製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。
一方、プラスチックカップにリンゴの苗を植え、第7本葉ないしは第8本葉が展開するまで生育させた。そのリンゴに上記試験用薬液を20mL/カップの割合で散布した。試験用薬液が乾いた後、リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata)初齢幼虫60頭を放ち、底面をくりぬき、ろ紙を貼ったプラスチックカップを逆さにして被せた。7日後に生存虫数を数えた。次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物1−4、1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−16、1−18、1−19、1−20、1−46、1−48、1−49、1−50、1−63及び1−76の各々を含有する試験用薬液の処理区は、死虫率90%以上を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−4、1−6、1−8、1−9、1−10、1−63及び1−95のいずれかを含有する製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
直径5.5cmのポリエチレンカップの底に直径5.5cmの濾紙を敷き、上記試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下した。餌としてショ糖30mgを濾紙上に均一に置いた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ(Musca domestica)雌成虫10頭を放ち、蓋をした。24時間後にイエバエの生死を調査し、次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物1−4、1−6、1−8、1−9、1−10、1−63及び1−95の各々を含有する試験用薬液による処理においては死虫率100%を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−9及び1−19のいずれかを含有する製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
直径5.5cmのポリエチレンカップの底に直径5.5cmの濾紙を敷き、上記試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下した。餌としてショ糖30mgを濾紙上に均一に置いた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ(Blattella germanica)雄成虫2頭を放ち、蓋をした。6時間後にチャバネゴキブリの生死を調査し、次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物1−9及び1−19の各々を含有する試験用薬液による処理においては死虫率100%を示した。
製剤例5により得られた本発明化合物1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−18、1−19、1−20、1−29、1−46、1−48、1−49、1−50、1−61、1−63及び1−76のいずれかを含有する製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
上記試験用薬液0.7mlをイオン交換水100mlに加えた(有効成分濃度3.5ppm)。該液中にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を放った。1日後にアカイエカの生死を調査し、次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物1−5、1−6、1−8、1−9、1−10、1−18、1−19、1−20、1−29、1−46、1−48、1−49、1−50、1−61、1−63及び1−76の各々を含有する試験用薬液による処理においては死虫率95%以上を示した。
本発明化合物の各々2mgをスクリュー管(マルエム(登録商標) No.5;27×55mm)に量り取った。アセトン0.2mLを加えて蓋をした。化合物がアセトンに溶解した後、スクリュー管を回転・反転させ内壁全体に均一になるよう薬液をコーティングする。蓋を取り、約2時間風乾させる。次いで、該管にフタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)未吸血若ダニ1群5頭を放し蓋をする。2日後に死亡マダニ数を調査し、以下の計算式で死虫率を算出する。
死虫率(%)=100×(死亡マダニ数/供試マダニ数)
その結果、本発明化合物の各々を含有する試験用薬液による処理においては死虫率100%を示した。
本発明化合物1−6、1−8、1−9及び1−10のいずれか10mgを、キシレン、DMFおよびソルポール(登録商標)3005X(東邦化学社製)を4:4:1の割合で混合した溶液0.1mlに溶解して製剤を得た。各製剤を、有効成分濃度が50ppmとなるように水で希釈した。
一方、ポリエチレンカップに植えたイネ幼苗(2.5葉期)に、前記試験用薬液10mlを散布した。風乾後、ヒメトビウンカ(Laodelphax striatella)の3齢幼虫を10頭放して、25℃の温室内に保管した。5日後、生存虫数を調査した。次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)={10−(5日後の生存虫数)/10}×100
その結果、本発明化合物1−6、1−8、1−9及び1−10の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、死虫率100%を示した。
本発明化合物1−6、1−8、1−9及び1−10のいずれか10mgを、キシレン、DMFおよびソルポール(登録商標)3005X(東邦化学社製)を4:4:1の割合で混合した溶液0.1mlに溶解して製剤を得た。各製剤を、有効成分濃度が50ppmとなるように水で希釈した。
一方、ポリエチレンカップに植えたイネ幼苗(2.5葉期)に、前記試験用薬液10mlを散布した。風乾後、セジロウンカ(Sogatella furcifera)の3齢幼虫を10頭放して、25℃の温室内に保管した。5日後、生存虫数を調査した。次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)={10−(5日後の生存虫数)/10}×100
その結果、本発明化合物1−6、1−8、1−9及び1−10の各々を含有する試験用薬液を用いた処理区は、死亡率100%を示した。
Claims (5)
- イネ用がイネの育苗箱用である請求項1記載の有害節足動物防除剤。
- さらに水を含有する、請求項1又は請求項2に記載の有害節足動物防除剤。
- イネがイネの苗である、請求項4記載の有害節足動物防除方法。
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