JP6058923B2 - シームレスカプセル製造方法及びシームレスカプセル製造装置 - Google Patents
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Description
例えば、前述の各種数値はあくまでも一例であり、その値は適宜変更し得ることは言うまでもない。また、前述の実施形態では、二重ノズルを用いた装置を例に取って説明したが、液滴吐出用のノズルは二重ノズルには限定されず、三重以上の多重ノズルでも良い。なお、多重ノズルではなく、1層のみの液滴を噴出する単ノズルであっても勿論良い。また、多層液滴の生成のために必要な振動方式も様々なものを利用できる。さらに、シームレスカプセルの多層液滴の内層および外層の成分などについても任意である。加えて、硬化用液供給筒などの構造も、前記実施例以外の他の構造を適宜採用可能である。
2 多重ノズル(ノズル)
3 カプセル形成管
4 冷却液供給管
5 オーバーフロー管
6 冷却液流入部
7 管路
8 冷却液(硬化用液)
9 リターン管
11 芯液供給チューブ
12 皮膜液供給チューブ
13 加振装置
14 多層液滴
21 ストレート形成管(第1形成管)
21a 導入管
21b 延伸管
21c 延伸管
22 ロータリー形成管(第2形成管)
22a 円筒部
22b テーパ部
23 連結部
24 回転エルボ部(回転放出手段)
25 冷却液排出口
26 冷却液排出管
27 モータ
28 減速機構
29 周壁
SC シームレスカプセル
O 回動管中心線
Ea 回転エルボ部屈曲角
Ed 回転エルボ部出口径
Rd ロータリー形成管円筒部の内径
Sd ストレート形成管の内径
RL 回転エルボ部の下端からロータリー形成管のテーパ部上端までの長さ
SL ストレート形成管のストレート部分の長さ
Claims (7)
- ノズルから硬化用液中に液滴を吐出し、前記液滴の少なくとも表面部分を硬化させてシームレスカプセルを製造するシームレスカプセルの製造方法であって、
前記ノズルの下方に配置され垂直方向に延びる直管状の回転しない第1形成管内に前記液滴を吐出し、該液滴を前記第1形成管内の前記硬化用液中にて落下させて冷却した後、
前記第1形成管の下端に該第1形成管に対して回転可能に設けられた回転放出手段から、前記液滴を前記形成管よりも大径に形成された第2形成管内に前記回転放出手段を回転させつつ放出し、
前記第2形成管内の前記硬化用液中に前記液滴を周方向に散開させつつ垂直方向に落下させ、
前記第2形成管は、上方に設けられ内径が一定の円筒部と、該円筒部の下側に設けられ上下方向に沿って内径が減少するテーパ部と、を有し、
前記第1形成管のストレート部分の長さSLは、前記回転放出手段の下端から前記テーパ部上端までの長さRLよりも大きい(SL>RL)であることを特徴とするシームレスカプセル製造方法。 - 請求項1記載のシームレスカプセル製造方法において、
前記第1形成管のストレート部分の長さSLが800〜2000mmであることを特徴とするシームレスカプセル製造方法。 - 請求項1又は2記載のシームレスカプセル製造方法において、
前記第1形成管内にて前記液滴のゲル化をある程度進行させた後、該液滴を前記第2形成管内に放出することを特徴とするシームレスカプセル製造方法。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載のシームレスカプセル製造方法において、
前記回転放出手段は、5〜50rpmにて回転駆動され、前記液滴は、前記回転放出手段から直下に放出され垂直方向に落下することを特徴とするシームレスカプセル製造方法。 - ノズルから硬化用液中に液滴を吐出し、前記液滴の少なくとも表面部分を硬化させてシームレスカプセルを製造するシームレスカプセルの製造装置であって、
前記ノズルの下方に配置され、前記液滴が吐出される直管状の回転しない第1形成管と、
前記第1形成管の下端に該第1形成管に対して回転可能に設けられた回転放出手段と、
前記第1形成管の下方に配置され、前記第1形成管よりも大径に形成されると共に、前記回転放出手段から前記液滴が放出される第2形成管と、を備え、
前記第2形成管は、上方に設けられ内径が一定の円筒部と、該円筒部の下側に設けられ上下方向に沿って内径が減少するテーパ部と、を有し、
前記第1形成管のストレート部分の長さSLは、前記回転放出手段の下端から前記テーパ部上端までの長さRLよりも大きい(SL>RL)であり、
前記第2形成管内には、前記第1形成管内にて冷却された前記液滴が前記回転放出手段を回転させつつ放出され、前記液滴は、該第2形成管内の前記硬化用液中にて、周方向に散開しつつ垂直方向に落下することを特徴とするシームレスカプセル製造装置。 - 請求項5記載のシームレスカプセル製造装置において、
前記第1形成管のストレート部分の長さSLが800〜2000mmであることを特徴とするシームレスカプセル製造装置。 - 請求項5又は6記載のシームレスカプセル製造装置において、
前記回転放出手段は、前記第1形成管内にてゲル化がある程度進行した状態の前記液滴を前記第2形成管内に放出することを特徴とするシームレスカプセル製造装置。
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