JP4264907B2 - シームレスカプセルの製造装置および製造方法 - Google Patents
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Description
図1 本発明の液滴法によるシームレスカプセルの製造方法の原理を示すためのノズル部分の拡大模式図。
図2 本発明のカプセル製造装置の概略配管図。
図3 本発明のカプセル製造装置のノズル部分を拡大した模式図。
図4 本発明の振動付加装置を模式的に示す図。
図5 比較例のグラフを示す図。
図6 比較例のグラフを示す図。
図7 実施例のグラフを示す図。
図8 比較例のグラフを示す図。
図9 実施例のグラフを示す図。
図10 実施例および比較例のグラフを示す図。
図11 比較で用いた特許文献5に対応するチューブ振動装置の模式図。
(a)ゼラチン、
(b)寒天、
(c)低メトキシルペクチンまたはアルギン酸ナトリウムを含有する組成物を、低メトキシルペクチンまたはアルギン酸ナトリウムの水溶液をゲル化し得る化合物で処理して得られる皮膜形成物、
(d)水溶性多価アルコールまたはその水溶性誘導体をゲル化処理して得られる皮膜形成物、
(e)(i)ゼラチンと(ii)寒天との混合物、
(f)(i)ゼラチンと(ii)低メトキシルペクチンまたはアルギン酸ナトリウムを含有する組成物との混合物を、低メトキシルペクチンまたはアルギン酸ナトリウムの水溶液をゲル化し得る化合物で処理して得られる皮膜形成物など。
図2の振動装置を図1の送液管6と二重ノズル1の間に設置してカプセル化を行った。送液管6はステンレス製で剛体である。
粒径1mmのシームレスカプセルを339Hz(339粒/秒)、680Hz(680粒/秒)、800Hz(800粒/秒)の振動数を付加してカプセル化し、形成されたシームレスカプセル粒子径のバラツキを測定した。また、無振動のものにて同じ測定を行った。無振動のものの結果を図5に示し、339Hzのものを図7に、680Hzのものを図9に、800Hzのものを図10に示した。
図1のシームレスカプセル製造装置において送液管6の一部分を可撓性であるシリコン性のチューブとし、該シリコンチューブを半径方向に押しつぶすように振動を与えてカプセル化を行った。シリコンチューブ部分の模式図を図11に示す。
Claims (4)
- 最外ノズルからシームレスカプセル皮膜液が噴出し、同時にその内側の1以上のノズルからその他の液体が噴出する多重ノズルと、該多重ノズルのそれぞれに所定液体を送液するノズルと同数の送液管と、該多重ノズルから噴出したジェット液流を液滴状にすると同時に冷却する冷却液が流れる冷却管とからなるシームレスカプセルの製造装置であって、該多重ノズルへの送液管の少なくとも1つ、またはいずれか1つのノズル内部に剛体振動付加装置を介在させてなることを特徴とするシームレスカプセルの製造装置。
- 前記剛体振動付加装置が、送液管の断面積を任意の周期で変化させる機構である請求項1記載のシームレスカプセルの製造装置。
- 最外ノズルからシームレスカプセル皮膜液が噴出し、同時にその内側の1以上のノズルからその他の液体が噴出したジェット液流を、冷却液が流れる冷却管中で液滴化することによりシームレスカプセルを製造する方法であって、該多重ノズルへカプセル形成用の液体を送る送液管の少なくとも1つ、またはいずれか1つのノズル内部に剛体振動付加装置を介在させてなることを特徴とするシームレスカプセルの製造方法。
- 前記剛体振動付加装置が、送液管の断面積を任意の周期で変化させる機構である請求項2記載のシームレスカプセルの製造方法。
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