JP6049510B2 - セラミックヒータ及びその製法 - Google Patents
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Description
(a)第1及び第2のセラミック成形体を、それぞれ、成形型にアルミナ粉末、焼結助剤としてのフッ化マグネシウム、溶媒、分散剤及びゲル化剤を含むスラリーを投入し、前記成形型内で前記ゲル化剤を化学反応させて前記スラリーをゲル化させたあと離型することにより作製する工程と、
(b)前記第1及び第2のセラミック成形体を乾燥したあと脱脂し、更に仮焼することにより、第1及び第2のセラミック仮焼体を得る工程と、
(c)前記第1及び第2のセラミック仮焼体のいずれか一方の表面に、TiSi2粉末にアルミナ粉末を添加したペーストを印刷する工程と、
(d)前記印刷されたペーストを挟み込むようにして前記第1及び第2のセラミック仮焼体を重ね合わせた状態で1120〜1300℃でホットプレス焼成する工程と、
を含むものであるか、
あるいは、
(a)第1及び第2のセラミック成形体を、それぞれ、成形型にアルミナ粉末、焼結助剤としてのフッ化マグネシウム、溶媒、分散剤及びゲル化剤を含むスラリーを投入し、前記成形型内で前記ゲル化剤を化学反応させて前記スラリーをゲル化させたあと離型することにより作製する工程と、
(b)前記第1及び第2のセラミック成形体のいずれか一方の表面に、TiSi2粉末にアルミナ粉末を添加したペーストを印刷する工程と、
(c)前記第1及び第2のセラミック成形体を乾燥したあと脱脂し、更に仮焼することにより、第1及び第2のセラミック仮焼体を得る工程と、
(d)前記ペーストが印刷されていた部分を挟み込むようにして前記第1及び第2のセラミック仮焼体を重ね合わせた状態で1120〜1300℃でホットプレス焼成する工程と、
を含むものである。
(a)成形体の作製(図2(a)参照)
第1〜第3の成形体51〜53を作製する。各成形体51〜53は、まず、成形型にアルミナ粉体、焼結助剤としてのフッ化マグネシウム、溶媒、分散剤及びゲル化剤を含むスラリーを投入し、成形型内でゲル化剤を化学反応させてスラリーをゲル化させたあと離型することにより、作製する。
第1〜第3の成形体51〜53を乾燥したあと脱脂し、更に仮焼することにより、第1〜第3の仮焼体61〜63を得る。成形体51〜53の乾燥は、成形体51〜53に含まれる溶媒を蒸発させるために行う。乾燥温度や乾燥時間は、使用する溶媒に応じて適宜設定すればよい。但し、乾燥温度は、乾燥中の成形体51〜53にクラックが入らないように注意して設定する。また、雰囲気は大気雰囲気、不活性雰囲気、真空雰囲気のいずれであってもよい。乾燥後の成形体51〜53の脱脂は、分散剤や触媒やバインダなどの有機物を分解・除去するために行う。脱脂温度は、含まれる有機物の種類に応じて適宜設定すればよいが、例えば400〜600℃に設定してもよい。また、雰囲気は大気雰囲気、不活性雰囲気、真空雰囲気のいずれであってもよい。脱脂後の成形体51〜53の仮焼は、強度を高くしハンドリングしやすくするために行う。仮焼温度は、特に限定するものではないが、例えば750〜900℃に設定してもよい。また、雰囲気は大気雰囲気、不活性雰囲気、真空雰囲気のいずれであってもよい。
第1の仮焼体61の片面にヒータ電極ペースト71を印刷し、第3の仮焼体63の片面に静電電極ペースト72を印刷する。両ペースト71,72は、いずれも、TiSi2粉末とアルミナセラミック粉末とバインダと溶媒とを含むものである。バインダとしては、例えば、セルロース系バインダ(エチルセルロースなど)やアクリル系バインダ(ポリメタクリル酸メチルなど)やビニル系バインダ(ポリビニルブチラールなど)が挙げられる。溶媒としては、例えば、テルピネオールなどが挙げられる。印刷方法は、例えば、スクリーン印刷法などが挙げられる。
印刷されたヒータ電極ペースト71を挟むようにして第1の仮焼体61と第2の仮焼体62とを重ね合わせると共に、印刷された静電電極ペースト72を挟むようにして第2の仮焼体62と第3の仮焼体63とを重ね合わせ、その状態で黒鉛製の金型を用いてホットプレス焼成する。これにより、ヒータ電極ペースト71が焼成されてヒータ電極14となり、静電電極ペースト72が焼成されて静電電極16となり、各仮焼体61〜63が焼結し一体化してアルミナセラミック基材12となり、静電チャック10が得られる。ホットプレス焼成では、少なくとも最高温度(焼成温度)において、プレス圧力を30〜300kgf/cm2とすることが好ましく、50〜250kgf/cm2とすることがより好ましい。また、最高温度は、アルミナ粉体にフッ化マグネシウムが添加されているため、フッ化マグネシウムが添加されていない場合に比べて低温(1120〜1300℃)に設定すればよい。雰囲気は、大気雰囲気、不活性雰囲気、真空雰囲気の中から、適宜選択すればよい。
(a)成形体の作製(図3(a)参照)
第1〜第3の成形体51〜53を作製する。この工程は、「1.第1の製造手順」の「(a)成形体の作製」と同じである。
第1の成形体51の片面にヒータ電極ペースト71を印刷し、第3の成形体53の片面に静電電極ペースト72を印刷する。両ペースト71,72は、「1.第1の製造手順」の「(c)電極ペーストの印刷」で用いたペーストと同じである。
第1〜第3の成形体51〜53(第1及び第3の成形体51,53は印刷が施されたもの)を乾燥したあと脱脂し、更に仮焼することにより、第1〜第3の仮焼体61〜63を得る。このとき、印刷されていたペースト71,72は、仮焼ペースト81,82となる。この工程は、「1.第1の製造手順」の「(b)仮焼体の作製」と同じである。
仮焼ペースト81を挟むようにして第1の仮焼体61と第2の仮焼体62とを重ね合わせると共に、仮焼ペースト82を挟むようにして第2の仮焼体62と第3の仮焼体63とを重ね合わせ、その状態でホットプレス焼成する。これにより、仮焼ペースト81が焼成されてヒータ電極14となり、仮焼ペースト82が焼成されて静電電極16となり、各仮焼体61〜63が焼結し一体化してアルミナセラミック基材12となり、静電チャック10が得られる。ホットプレス焼成の条件は、「1.第1の製造手順」の「(d)ホットプレス焼成」で述べたとおりである。
上述した第1の製造手順により静電チャック10を作製した(図2参照)。
(a)成形体の作製
アルミナ粉末(平均粒径0.5μm,純度99.99%)100重量部、マグネシア0.2重量部、フッ化マグネシウム0.3重量部、分散剤としてポリカルボン酸系共重合体3重量部、溶媒として多塩基酸エステル20重量部を秤量し、これらをボールミル(トロンメル)で14時間混合し、スラリー前駆体とした。このスラリー前駆体に対して、ゲル化剤、すなわちイソシアネート類として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 3.3重量部、ポリオール類としてエチレングリコール0.3重量部、触媒として6−ジメチルアミノ−1−ヘキサノール0.1重量部を加え、自公転式撹拌機で12分間混合し、スラリーを得た。得られたスラリーを、実施例1の1.で用いた第1〜第3成形型にそれぞれ流し込んだ。その後、22℃で2時間放置することにより、各成形型内でゲル化剤を化学反応させてスラリーをゲル化させたあと離型した。これにより、第1〜第3成形型からそれぞれ第1〜第3の成形体51〜53(図2(a)参照)を得た。
第1〜第3の成形体51〜53を100℃で10時間乾燥した後、最高温度500℃で1時間脱脂し、更に最高温度820℃、大気雰囲気で1時間仮焼することにより、第1〜第3の仮焼体61〜63(図2(b)参照)を得た。
TiSi2粉末とアルミナ粉末とを、アルミナ含有量が5重量%となるようにし、バインダとしてポリメタクリル酸メチルと溶媒としてテルピネオールを加えて混合することにより電極ペーストを調製した。この電極ペーストは、静電電極用、ヒータ電極用の両方に用いることとした。そして、第1の仮焼体61の片面にヒータ電極ペースト71をスクリーン印刷し、第3の仮焼体63の片面に静電電極ペースト72をスクリーン印刷した(図2(c)参照)。
ヒータ電極ペースト71を挟むようにして第1及び第2の仮焼体61,62を重ね合わせると共に、静電電極ペースト72を挟むようにして第2及び第3の仮焼体62,63を重ね合わせた。そして、その状態で黒鉛製の金型を用いてホットプレス焼成を行った。これにより、ヒータ電極ペースト71が焼成されてヒータ電極14となり、静電電極ペースト72が焼成されて静電電極16となり、各仮焼体61〜63が焼結し一体化してアルミナセラミックス基材12となった(図2(d)参照)。ホットプレス焼成は、真空雰囲気下、圧力250kgf/cm2、最高温度1170℃で2時間保持することにより行った。
上述した実施例1において電極ペーストを変更した以外は、実施例1と同様にして静電チャック10を作製した。電極ペーストは、次のようにして調製した。すなわち、モリブデン粉末とチタン粉末とアルミナ粉末を、チタン含有量が5重量%、アルミナ含有量が20重量%となるようにし、バインダとしてポリメタクリル酸メチルと溶媒としてテルピネオールを加えて混合することにより電極ペーストを調製した。
上述した実施例1において電極ペーストを変更した以外は、実施例1と同様にして静電チャック10を作製した。電極ペーストは、次のようにして調製した。すなわち、モリブデン粉末とアルミナ粉末をアルミナ含有量が20重量%となるようにし、バインダとしてポリメタクリル酸メチルと溶媒としてテルピネオールを加えて混合することにより電極ペーストを調製した。
・電気抵抗率の温度依存特性
電気抵抗率ρ(Ω・cm)の測定は、実施例1及び比較例1,2に対応するテストピースを用いて測定した。テストピースのヒータ電極は、図4に示す形状に形成した。具体的には、円盤状のアルミナセラミック基材を4つの扇形領域(中心角90°)に分割し、扇形領域ごとに7つのヒータ線a〜gと2つのダミー線とを形成した。各ヒータ線a〜gは、円弧に沿ってジグザグになるように形成し、両端には端子を設けた。各ヒータ線a〜gの端子は、アルミナセラミック基材12を焼成する前に予め埋めておき、焼成後にセラミックを削って露出させた。ダミー線は、それぞれ所定半径の円弧に沿うように形成し、端子は設けなかった。基体中心からヒータ線a〜gの中央までの距離D、電極幅w(mm)、電極長さL(mm)を表1に示す。各ヒータ線a〜gの電極厚みt(mm)は、表1に示さなかったが、焼成後のアルミナセラミック基材12を切断した断面を用いて測定した。
比較例1の試験体を真空チャンバ内に設置し、予め定めた基準点が60℃になったときのセラミックスヒータ表面の温度分布をチャンバ外部から赤外線放射温度計(IRカメラ)で測定した。得られた温度分布から温度の最大値と最小値との差△Tを均熱性の指標とした。その結果、均熱性(△T)は3.0℃であった。実験例1の均熱性(△T)は、比較例1の均熱性(△T)の値と図5,6のグラフから計算により求めたところ、2.0℃であった。このことから、実施例1の方が比較例1に比べて均熱性の点でも優れているといえる。
Lab表色系の明度L*を測定したところ、実施例1は79.0、比較例1は70.1であった。このことから、実施例1の方が比較例1に比べて白く明るいため、見栄えがよい。
Claims (5)
- セラミック基材にヒータ電極が埋設されたセラミックヒータであって、
前記ヒータ電極は、TiSi2 を主成分とし、前記セラミック基材と同じ材料を含んでいる(但し、珪化ニッケルを含むものを除く)、
セラミックヒータ。 - 前記セラミック基材は、フッ化マグネシウムが入ったアルミナである、
請求項1に記載のセラミックヒータ。 - (a)第1及び第2のセラミック成形体を、それぞれ、成形型にアルミナ粉末、焼結助剤としてのフッ化マグネシウム、溶媒、分散剤及びゲル化剤を含むスラリーを投入し、前記成形型内で前記ゲル化剤を化学反応させて前記スラリーをゲル化させたあと離型することにより作製する工程と、
(b)前記第1及び第2のセラミック成形体を乾燥したあと脱脂し、更に仮焼することにより、第1及び第2のセラミック仮焼体を得る工程と、
(c)前記第1及び第2のセラミック仮焼体のいずれか一方の表面に、TiSi2粉末にアルミナ粉末を添加したペーストを印刷する工程と、
(d)前記印刷されたペーストを挟み込むようにして前記第1及び第2のセラミック仮焼体を重ね合わせた状態で1120〜1300℃でホットプレス焼成する工程と、
を含むセラミックヒータの製法。 - (a)第1及び第2のセラミック成形体を、それぞれ、成形型にアルミナ粉末、焼結助剤としてのフッ化マグネシウム、溶媒、分散剤及びゲル化剤を含むスラリーを投入し、前記成形型内で前記ゲル化剤を化学反応させて前記スラリーをゲル化させたあと離型することにより作製する工程と、
(b)前記第1及び第2のセラミック成形体のいずれか一方の表面に、TiSi2粉末にアルミナ粉末を添加したペーストを印刷する工程と、
(c)前記第1及び第2のセラミック成形体を乾燥したあと脱脂し、更に仮焼することにより、第1及び第2のセラミック仮焼体を得る工程と、
(d)前記ペーストが印刷されていた部分を挟み込むようにして前記第1及び第2のセラミック仮焼体を重ね合わせた状態で1120〜1300℃でホットプレス焼成する工程と、
を含むセラミックヒータの製法。 - 前記ペーストは有機物を含有しており、前記ホットプレス焼成時の金型は炭素材料製である、
請求項3又は4に記載のセラミックヒータの製法。
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