JP6048424B2 - 常圧水素添加反応を行う方法 - Google Patents
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Description
(i)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物又は該化合物を含む混合物を準備する工程、
(ii)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対し、
(A)金属触媒
(B)第3級アルキルアミン化合物、及び
(C)ギ酸又はギ酸塩
を添加し、常圧で水素添加反応を行う工程
を含む、非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対して水素添加反応を行う方法が有効であることを知見し、本発明をなすに至った。
〔1〕
(i)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物又は該化合物を含む混合物を準備する工程、
(ii)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対し、
(A)金属触媒:金属の含有量として質量比で1ppm以上、
(B)第3級アルキルアミン化合物:0モル当量より多く、2モル当量未満、及び
(C)ギ酸又はギ酸塩:反応混合液がpH7以上となる量
を添加し、常圧で水素添加反応を行う工程
を含み、
前記金属触媒が、Pd/C、Pt/C、Rh/C、Ru/C、Pt−Pd/C、Pd/Al 2 O 3 、Pt/Al 2 O 3 、Pd/SiO 2 およびPt/SiO 2 から選ばれるものである非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対して水素添加反応を行う方法。
〔2〕
工程(i)において準備される非置換又は置換アルケニルエーテル化合物が、SiH基含有化合物とアルケニルエーテル化合物とのヒドロシリル化反応において残存したアルケニルエーテル化合物及び/又は該ヒドロシリル化反応の副生成物として生じたアルケニルエーテル化合物のオレフィン内部転位体であることを特徴とする〔1〕記載の水素添加反応を行う方法。
〔3〕
工程(ii)が、工程(i)に続いてイン・サイチュで行われることを特徴とする〔1〕又は〔2〕記載の水素添加反応を行う方法。
〔4〕
(A)成分の金属触媒が、Pd/C、Pt/C、Rh/C、Ru/C、Pt−Pd/CおよびPt/Al 2 O 3 から選ばれるものである〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の水素添加反応を行う方法。
〔5〕
アルケニルエーテル化合物に(D)成分として溶剤を加え、次に(B)成分の第3級アルキルアミン化合物を添加し、続いて(A)成分の金属触媒を加え、最後に(C)成分のギ酸又はギ酸塩を加えて水素添加反応を行うようにした〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の水素添加反応を行う方法。
〔6〕
溶剤が極性有機溶剤又は水である〔5〕の水素添加を行う方法。
本発明の非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対し常圧で水素添加反応を行う方法は、下記工程(i)及び(ii)からなる。
(i)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物又は該化合物を含む混合物を準備する工程、
(ii)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対し、
(A)金属触媒:金属の含有量として質量比で1ppm以上、
(B)第3級アルキルアミン化合物:0モル当量より多く、2モル当量未満、及び
(C)ギ酸又はギ酸塩:反応混合液がpH7以上となる量
を添加し、常圧で水素添加反応を行う工程。
本発明の常圧水素添加反応における工程(i)は、非置換又は置換アルケニルエーテル化合物又は該化合物を含む混合物を準備する工程である。工程(i)において準備される非置換又は置換アルケニルエーテル化合物は、非置換又は置換のビニルエーテル化合物やアリルエーテル化合物、1−プロペニルエーテル化合物、又はそれらの混合物等が挙げられる。
工程(ii)は、非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対し、
(A)金属触媒:金属の含有量として質量比で1ppm以上、
(B)第3級アルキルアミン化合物:0モル当量より多く、2モル当量未満、及び
(C)ギ酸又はギ酸塩:反応混合液がpH7以上となる量
を添加し、常圧で水素添加反応を行う工程である。
なお、本実施例において、反応の追跡は主に核磁気共鳴分光法(1H−NMR)及び赤外分光法(IR)を測定することで行った。
温度計、マグネチックスターラーバー、窒素導入管を装着した100mL三つ口フラスコに2−ヒドロ−1,1,1,2,3,3,3−ヘプタメチルトリシロキサン(MDHM)4.00g(18.0mmol)とトルエン2.86g(30質量%)とBHT0.92mg(100ppm)をフラスコに入れ、東京化成株式会社製のグリセロール−α,α'−ジアリルエーテル(GDAE)1.72g(10.0mmol)を入れた滴下ロートを窒素雰囲気下でフラスコに装着し、内部温度を70℃まで撹拌しながら昇温した。そこに、カーステッド触媒(Karstedt,Pt2[[(CH2=CH)(CH3)2Si]2O]3)の0.5質量%トルエン溶液をマイクロシリンジにて5.22mg(3ppm)加え、そのままの温度で10分間撹拌した後、内部温度が75℃を超えないようにGDAEを継続的に滴下し、発熱が収まった後、1H−NMRスペクトルにおいて、アリル基のシグナルが消失したこととビニルエーテル体が25〜30%生成したことを確認した。
その後、反応温度を室温まで戻した反応溶液を反応容器から出さずに、場合によっては溶剤を加え、塩基、固定化遷移金属触媒を加えて撹拌後、発生する水素が系中から抜けてしまうことを避けるために窒素ガスの流入を止め、(株)スギヤマゲンギ製の圧力調整用バブラーを反応容器に装着し、ギ酸又はギ酸塩を滴下し、所定の温度で撹拌を行った。結果を表1に示した。表1における各成分の当量はGDAEに対して加えたモル当量である。
反応が進行した場合の後処理は、還元終了後、反応容器を室温に戻し、ろ過を行い、50℃、1KPa以下の減圧下で乾燥することで、[[(CH3)3SiO]2Si(CH3)(CH2)3OCH2]2CHOHと[(CH3)3SiO]2Si(CH3)(CH2)3OCH2CH(OH)CH2O(CH2)2CH3の組成物を得た。
※)反応中に反応液のpHが7以上を保つように滴下
反応性に関しては下記の様に評価した。
×:全く反応せず。
□:非常に遅い。36時間経過時点の1H−NMRによる解析でビニルエーテル残存率50%以上100%未満
△:遅い。36時間経過時点の1H−NMRによる解析でビニルエーテル残存率0%より多く、50%未満
数字:反応が完了し(1H−NMRによる解析でビニルエーテル残存率0%)、後処理後の組成物の収率(%)
実施例12において、GDAEをユニオックスMA300(日油株式会社製、片末端にアリル基、もう一方の末端にメチル基を有するオリゴエーテル)に替えた以外は、実施例12と同様の方法で行い、ビニルエーテル残存率0%、収率96%で無色透明の組成物を得た。
Claims (6)
- (i)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物又は該化合物を含む混合物を準備する工程、
(ii)非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対し、
(A)金属触媒:金属の含有量として質量比で1ppm以上、
(B)第3級アルキルアミン化合物:0モル当量より多く、2モル当量未満、及び
(C)ギ酸又はギ酸塩:反応混合液がpH7以上となる量
を添加し、常圧で水素添加反応を行う工程
を含み、
前記金属触媒が、固定化された遷移金属触媒であり、Pd/C、Pt/C、Rh/C、Ru/C、Pt−Pd/C、Pd/Al 2 O 3 、Pt/Al 2 O 3 、Pd/SiO 2 およびPt/SiO 2 から選ばれるものである非置換又は置換アルケニルエーテル化合物に対して水素添加反応を行う方法。 - 工程(i)において準備される非置換又は置換アルケニルエーテル化合物が、SiH基含有化合物とアルケニルエーテル化合物とのヒドロシリル化反応において残存したアルケニルエーテル化合物及び/又は該ヒドロシリル化反応の副生成物として生じたアルケニルエーテル化合物のオレフィン内部転位体であることを特徴とする請求項1記載の水素添加反応を行う方法。
- 工程(ii)が、工程(i)に続いてイン・サイチュで行われることを特徴とする請求項1又は2記載の水素添加反応を行う方法。
- (A)成分の金属触媒が、Pd/C、Pt/C、Rh/C、Ru/C、Pt−Pd/CおよびPt/Al 2 O 3 から選ばれるものである請求項1〜3のいずれか1項記載の水素添加反応を行う方法。
- アルケニルエーテル化合物に(D)成分として溶剤を加え、次に(B)成分の第3級アルキルアミン化合物を添加し、続いて(A)成分の金属触媒を加え、最後に(C)成分のギ酸又はギ酸塩を加えて水素添加反応を行うようにした請求項1〜4のいずれか1項記載の水素添加反応を行う方法。
- 溶剤が極性有機溶剤又は水である請求項5記載の水素添加を行う方法。
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