JP6045972B2 - 接合装置、接合システムおよび接合方法 - Google Patents
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Description
<1.接合システムの構成>
まず、本実施形態に係る接合システムの構成について、図1および図2を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る接合システムの構成を示す模式平面図である。また、図2は、被処理基板およびガラス基板の模式側面図である。なお、以下においては、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
次に、接合装置45の構成について図3を参照して説明する。図3は、接合装置45の構成を示す模式平断面図である。
次に、接合部90の構成について図4を参照して説明する。図4は、接合部90の構成を示す模式側断面図である。なお、図4では、接合部90の特徴を説明するために必要な構成要素のみを示しており、一般的な構成要素についての記載を省略している。
次に、上記のように構成された接合部90が実行する接合処理の処理手順について図11Aおよび図11Bを参照して説明する。図11Aおよび図11Bは、接合処理の動作例を示す説明図である。
ところで、本実施形態に係る接合システム1では、支持基板としてガラス基板Sを使用し、このガラス基板Sを保持する第2保持部201として静電チャックを用いることとしている。また、本実施形態に係る接合システム1では、上述したようにチャンバ501内の温度を第1の温度から第2の温度に昇温する昇温工程が行われる。
次に、第1温度検出部301,303および第2温度検出部302,304を用いたフェールセーフ処理の処理手順について図13を参照して説明する。図13は、フェールセーフ処理の処理手順を示すフローチャートである。なお、図13に示すフェールセーフ処理は、たとえば上述した昇温工程および本接合工程中に実行される。
S ガラス基板
T 重合基板
1 接合システム
2 搬入出ステーション
4 接合ステーション
5 制御装置
45 接合装置
90 接合部
101 第1保持部
102 第1冷却機構
103 第3加熱機構
106 加圧機構
111 静電吸着部
117 第1加熱機構
201 第2保持部
202 第2冷却機構
203 第4加熱機構
211 静電吸着部
217 第2加熱機構
301,303 第1温度検出部
302,304 第2温度検出部
401 第1保持機構
402 第2保持機構
501 チャンバ
Claims (12)
- 第1基板を保持する第1保持部と、
前記第1保持部に対向して配置され、第2基板を保持する第2保持部と、
前記第1保持部と前記第2保持部とを相対的に移動させることによって、前記第1基板と前記第2基板とを接触させて加圧する加圧機構と、
前記第1保持部および前記第2保持部の外周部を弾性的に保持する保持機構と
を備え、
前記保持機構は、
前記第1保持部または前記第2保持部との対向面に横設されたコイルバネを有し、該コイルバネを介して前記第1保持部または前記第2保持部に接触する爪部と、
前記爪部を介して前記第1保持部または前記第2保持部を付勢する付勢部と
を備えることを特徴とする接合装置。 - 第1基板を保持する第1保持部と、
前記第1保持部の下方において前記第1保持部に対向して配置され、第2基板を保持する第2保持部と、
前記第1保持部と前記第2保持部とを相対的に移動させることによって、前記第1基板と前記第2基板とを接触させて加圧する加圧機構と、
前記第1保持部および前記第2保持部の外周部を弾性的に保持する保持機構と
を備え、
前記第2保持部を弾性的に保持する保持機構は、
前記第2保持部を収容するチャンバ部の下面に固定されたベース部と、
前記ベース部の上方に所定の間隔を空けて配置され、前記第2保持部に接触する爪部と、
前記ベース部に固定され、前記爪部の上方から前記爪部を下方に付勢する付勢部と、
を備え、
前記付勢部は、
前記爪部を貫通して前記ベース部に固定されるシャフトと、
前記爪部の上方において前記シャフトに取り付けられ、前記シャフトに沿って位置を調整可能な係止部と、
前記爪部と前記係止部との間に設けられ、前記爪部を下方に付勢する付勢部材と
を備えることを特徴とする接合装置。 - 第1基板を保持する第1保持部と、
前記第1保持部の下方において前記第1保持部に対向して配置され、第2基板を保持する第2保持部と、
前記第1保持部と前記第2保持部とを相対的に移動させることによって、前記第1基板と前記第2基板とを接触させて加圧する加圧機構と、
前記第1保持部および前記第2保持部の外周部を弾性的に保持する保持機構と
を備え、
前記第2保持部を弾性的に保持する保持機構は、
前記第2保持部を収容するチャンバ部の下面に固定されたベース部と、
前記ベース部の上方に所定の間隔を空けて配置され、前記第2保持部に接触する爪部と、
前記ベース部に固定され、前記爪部の上方から前記爪部を下方に付勢する付勢部と、
前記爪部を支持する支持部と
を備え、
前記支持部は、
前記爪部を貫通して前記ベース部に当接するボルトと、
前記爪部の上部に設けられ、前記ボルトと螺合するナットと
を備えることを特徴とする接合装置。 - 前記第1保持部および前記第2保持部の前記外周部には、前記第1保持部および前記第2保持部の保持面よりも窪んだ段差が設けられており、
前記爪部は、
前記横設されたコイルバネを介して前記段差に接触すること
を特徴とする請求項1に記載の接合装置。 - 前記保持機構は、
前記第1保持部または前記第2保持部を前記第1保持部または前記第2保持部の保持面に対して水平方向に付勢する水平付勢部材を備え、該水平付勢部材を用いて前記第1保持部または前記第2保持部を弾性的に保持すること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の接合装置。 - 前記第1保持部または前記第2保持部の外周部に対して複数の前記保持機構が設けられることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の接合装置。
- 前記第1保持部および前記第2保持部は、
所定の部材に対して水平方向に所定の遊びをもって積層されること
を特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の接合装置。 - 前記第1保持部および前記第2保持部は、
前記第1基板または前記第2基板を加熱する加熱機構を備えること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の接合装置。 - 前記第1保持部および前記第2保持部が収容されるチャンバと、
前記チャンバ内を減圧する減圧機構と
を備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の接合装置。 - 前記第1保持部および前記第2保持部は、
前記第1基板または前記第2基板を静電吸着する静電吸着部
を備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一つに記載の接合装置。 - 第1基板および第2基板が載置される搬入出ステーションと、
前記搬入出ステーションに載置された前記第1基板および前記第2基板を搬送する基板搬送装置と、
前記基板搬送装置によって搬送された前記第1基板および前記第2基板を接合する接合装置が設置される接合ステーションと
を備え、
前記接合装置は、
前記第1基板を保持する第1保持部と、
前記第1保持部に対向して配置され、前記第2基板を保持する第2保持部と、
前記第1保持部と前記第2保持部とを相対的に移動させることによって、前記第1基板と前記第2基板とを接触させて加圧する加圧機構と、
前記第1保持部および前記第2保持部の外周部を弾性的に保持する保持機構と
を備え、
前記保持機構は、
前記第1保持部または前記第2保持部との対向面に横設されたコイルバネを有し、該コイルバネを介して前記第1保持部または前記第2保持部に接触する爪部と、
前記爪部を介して前記第1保持部または前記第2保持部を付勢する付勢部と
を備えることを特徴とする接合システム。 - 横設されたコイルバネを介して第1保持部に接触する第1爪部と、前記第1爪部を介して前記第1保持部を付勢する第1付勢部とを備える第1保持機構により弾性的に保持された前記第1保持部によって、第1基板を保持する第1保持工程と、
前記第1保持部に対向して配置され、横設されたコイルバネを介して第2保持部に接触する第2爪部と、前記第2爪部を介して前記第2保持部を付勢する第2付勢部とを備える第2保持機構により弾性的に保持された前記第2保持部によって、第2基板を保持する第2保持工程と、
前記第1保持部と前記第2保持部とを相対的に移動させることによって、前記第1基板と前記第2基板とを接触させて加圧する加圧工程と
を含むことを特徴とする接合方法。
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