JP6033849B2 - 測定装置を備えた光学モジュール - Google Patents
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Description
図1〜図3を参照して、本発明による光学素子ユニットの好適な実施形態を有する本発明による光学モジュールの好適な実施形態を備えた、マイクロリソグラフィ用の本発明による光学結像装置101の好適な実施形態を以下で説明する。以下の説明を単純にするために、xyz座標系を図に導入し、以下で参照する。
以下において、図1、図2、及び図4を参照して、図1に示すマイクロリソグラフィ装置101の光学モジュール110の代わりに用いることができる本発明による光学モジュール210の別の好適な実施形態を説明する。
以下では、図1、図2、及び図5を参照して、図1に示すマイクロリソグラフィ装置101の光学モジュール110の代わりに用いることができる本発明による光学モジュール310の別の好適な実施形態を説明する。
Claims (21)
- 特にマイクロリソグラフィ用の光学モジュールであって、
光学素子ユニットと、
支持装置と、
変形装置と、
測定装置と
を備え、前記支持装置は前記光学素子ユニットを支持し、
前記変形装置は、前記光学素子ユニットの光学面を変形させるために、該光学面を含む前記光学素子ユニットの変形部に係合し、
前記測定装置は、少なくとも1自由度の外部基準に対する前記光学素子ユニットの位置及び/又は向きを求めるために、少なくとも1つの測定素子を備え、
該測定素子は前記光学素子ユニットの基準部に配置され、
該基準部は、前記変形装置により前記変形部に導入された前記光学素子ユニットの変形が前記測定素子の領域に実質的に伝播しないような様式で、少なくとも1つの分離部を介して前記変形部から分離される光学モジュール。 - 請求項1に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形装置は、前記光学モジュールの通常動作時に、前記光学素子ユニットに対する最大力により、前記変形部において最大第1変形応力以下の力を発生させ、
前記変形装置は、少なくとも前記測定素子の領域における、特に実質的に前記基準部全体における前記最大力により、最大第2変形応力以下を発生させ、
前記基準部は、前記最大第2変形応力が前記最大1変形応力の5%以下、好ましくは前記最大第1変形応力の4%以下、より好ましくは前記最大第1変形応力の3%以下であるように、前記少なくとも1つの分離部を介して前記変形部から分離される光学モジュール。 - 請求項1又は2に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形部は、特に中心軸を画定する実質的にディスク形本体として設計され、且つ/又は
前記基準部の少なくとも一部は、前記変形部上の突起の様式で形成され、特に前記測定素子は、前記変形部に面しない前記突起の端の領域に配置される光学モジュール。 - 請求項3に記載の光学モジュールにおいて、
前記突起は、前記変形部のうち前記光学面に面しない側に配置され、且つ/又は
前記突起は、前記中心軸と実質的に同心に配置され、且つ/又は
前記変形部は、前記中心軸の方向に延在する長手方向に最大第1長手方向寸法を有し、前記突起は、前記長手方向に最大第2長手方向寸法を有し、該第2長手方向寸法は、前記第1長手方向寸法の80%よりも大きく、好ましくは前記第1長手方向寸法の100%よりも大きく、より好ましくは前記第1長手方向寸法の150%よりも大きく、且つ/又は
前記変形部は、前記中心軸を横切って延びる横方向に最大第1横方向寸法を有し、前記突起は、前記横方向に最大第2横方向寸法を有し、該第2横方向寸法は、前記第1横方向寸法の80%未満、好ましくは前記第1横方向寸法の60%未満、より好ましくは前記第1横方向寸法の40%未満であり、且つ/又は
前記分離部は、前記突起の領域に、特に前記変形部と前記突起との間の移行領域に配置され、前記分離部は、特に、前記横方向での前記突起の断面の少なくとも1つの狭窄により形成される光学モジュール。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形装置は少なくとも1つの変形素子を備え、
該変形素子は、第1端を前記変形部の第1係合点に係合させ、
前記変形素子は、第2端を前記変形部の第2係合点に係合させ、特に、前記第1係合点は、前記変形部の外周の領域に配置され、前記変形部の前記外周は、周面を画定し、前記第2係合点は、前記周面の径方向内方に配置される光学モジュール。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形装置は少なくとも1つの変形素子を備え、
該変形素子は、第1端を前記変形部の第1係合点に係合させ、
前記変形素子は、第2端を前記支持装置の第2係合点に係合させる光学モジュール。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形装置は、前記変形部の外周の領域に係合し、
前記変形部は、前記外周の領域で、特に周方向に前記外周全体にわたって延在する少なくとも1つの凹部を有し、
該少なくとも1つの凹部は、前記変形部の指定可能な変形挙動を達成するよう設計される光学モジュール。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形装置は、少なくとも1つの変形素子と、該変形素子にエネルギー及び/又は制御信号を供給する供給装置とを備え、
前記供給装置は、特に、前記変形素子へのエネルギー及び/又は制御信号の非接触供給用に設計される光学モジュール。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記支持装置は、前記光学素子ユニットの位置及び/又は向きを設定するための特に能動的な位置決め装置を備え、
該位置決め装置は、特に、少なくとも1自由度で前記光学素子の前記位置及び/又は前記向きを設定するよう設計される光学モジュール。 - 請求項9に記載の光学モジュールにおいて、
前記位置決め装置は、前記光学素子ユニット上の前記基準部の領域に係合し、且つ/又は、
前記位置決め装置は、該位置決め装置と前記光学素子ユニットとの間の寄生応力を分離するための分離装置を介して前記光学素子に係合する光学モジュール。 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記光学素子ユニットはモノリシック設計であり、且つ/又は
前記光学素子ユニットは、ゼロに近い熱膨張率を有する材料から作られ、且つ/又は
前記光学面は反射面として設計される光学モジュール。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記測定装置は、前記光学面の変形を求めるよう設計され、
前記測定装置は、特に、前記光学面の前記変形を求めるために、測定光ビームを前記光学面に投影し、前記測定光ビームのうち前記光学面により偏向された部分を検出装置により検出するよう設計される光学モジュール。 - 特にマイクロリソグラフィ用の光学モジュール用の光学素子ユニットであって、
支持装置に係合する支持部と、
前記光学素子ユニットの光学面を変形させる変形装置に係合する変形部と、
測定装置と
を備え、該測定装置は、少なくとも1自由度の外部基準に対する前記光学素子の位置及び/又は向きを求める少なくとも1つの測定素子を備え、
該測定素子は、前記光学素子ユニットの基準部に配置され、
該基準部は、前記変形装置により前記変形部に導入された前記光学素子ユニットの変形が前記測定素子の領域に実質的に伝播しないような様式で、少なくとも1つの分離部を介して前記変形部から分離される光学素子ユニット。 - 特にマイクロリソグラフィ用の光学素子ユニットの位置及び/又は向きを求める方法であって、
前記光学素子ユニットの変形部の光学面を変形させ、
少なくとも1自由度の外部基準に対する光学素子ユニットの位置及び/又は向きを少なくとも1つの測定素子を介して検出し、
該測定素子は前記光学素子の基準部に配置され、
該基準部は、前記変形部に導入された前記光学素子ユニットの変形が前記測定素子の領域に実質的に伝播しないような様式で、少なくとも1つの分離部を介して前記変形部から分離される方法。 - 請求項14に記載の方法において、
光学モジュールの通常動作時に、前記光学素子ユニットに対する最大力により、前記変形部において最大第1変形応力以下の力を発生させ、
少なくとも前記測定素子の領域における、特に実質的に前記基準部全体における前記最大力により、最大第2変形応力以下の力を発生させ、
前記基準部は、前記最大第2変形応力が前記最大1変形応力の5%以下、好ましくは前記最大第1変形応力の4%以下、より好ましくは前記最大第1変形応力の3%以下であるように、少なくとも1つの分離部を介して前記変形部から分離される方法。 - 請求項14又は15に記載の方法において、
前記光学面を変形させるために、前記変形部の第1係合点において、変形素子を介して第1力を導入し、
前記光学面を変形させるために、前記変形部の第2係合点において、前記変形素子を介して第2力を導入し、
前記第1係合点は、特に、前記変形部の外周の領域に配置され、前記変形部の前記外周は、周面を画定し、前記第2係合点は、前記周面の径方向内方に配置される方法。 - 請求項14〜16のいずれか1項に記載の方法において、
前記光学面を変形させるために、前記変形部の第1係合点において、変形素子を介して第1力を導入し、
前記光学面を変形させるために、前記変形部の第2係合点において、前記変形素子を介して前記光学素子ユニットの支持装置に第2力を導入する方法。 - 請求項14〜17のいずれか1項に記載の方法において、
前記変形を少なくとも1つの変形素子を介して行い、
前記変形素子は、特に、エネルギー及び/又は制御信号を非接触供給される方法。 - 請求項14〜18のいずれか1項に記載の方法において、
前記光学素子ユニットの位置及び/又は向きを、位置決め装置を介して設定し、
特に、前記光学素子ユニットの前記位置及び/又は前記向きを前記少なくとも1自由度で設定する方法。 - 請求項19に記載の方法において、
前記位置決め装置は、前記基準部の領域で前記光学素子ユニットに係合し、且つ/又は
前記位置決め装置は、該位置決め装置と前記光学素子ユニットとの間の寄生応力を分離するための分離装置を介して前記光学素子に係合する方法。 - 請求項14〜20のいずれか1項に記載の方法において、
前記光学面の前記変形を求め、
前記光学面の前記変形を求めるために、測定光ビームを前記光学面に投影し、前記測定光ビームの内前記光学面により偏向された部分を検出する方法。
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