JP6033624B2 - 光電変換素子 - Google Patents
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Description
≪全体構成≫
図1に、本発明の光電変換素子の一例である実施の形態の光電変換素子の模式的な断面図を示す。実施の形態の光電変換素子は、n型単結晶シリコンからなる半導体基板1を有しており、半導体基板1の一方の面である裏面の一部には、底面9aとその両側の側壁9bとを備えた溝9が設けられている。ここで、溝9は、図1の紙面の法線方向に伸長している。すなわち、図1は溝9の伸長する方向に対する垂直断面である。そして、該両側の側壁9bの少なくとも一部には絶縁膜15が形成されている。
≪半導体基板≫
半導体基板1としては、典型的にはn型単結晶シリコンからなる基板を用いることができるが、半導体基板1の材質はこれに限定されず、従来公知の材質を広く用いることが可能である。たとえば、ゲルマニウムやガリウム砒素化合物からなる基板を用いても良く、また、単結晶基板のみならず多結晶基板やアモルファス基板を用いても良い。また、たとえば、予め半導体基板1の受光面および/または裏面にテクスチャ構造(図示せず)が形成された半導体基板などであっても良い。
また、溝9の深さDは、特に限定されないが、たとえば10μm以下とすることができ、好ましくは5μm以下とすることができる。
絶縁膜15としては、抵抗率が1×104Ω・cm以上の絶縁性を有する膜であれば特に限定されず、従来公知の絶縁膜を用いることができる。たとえば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、窒化アルミニウム膜、酸化アルミニウム膜、酸化チタニウム膜またはこれらの併用などを挙げることができる。
(第1の誘電体膜)
第1の誘電体膜5は、第1の半導体膜6と半導体基板1との間の電気伝導を妨げず、かつ第1の半導体膜6と半導体基板1との界面をパッシベーション可能な材料からなる膜であり、より好ましくはi型のノンドープ膜である。このような誘電体膜としては、薄膜化した酸化シリコン膜、窒化シリコン膜およびi型のアモルファスシリコン膜などを好適に用いることができる。
第2の誘電体膜10は、第2の半導体膜11と半導体基板1との間の電気伝導を妨げず、かつ第2の半導体膜11と半導体基板1との界面をパッシベーション可能な材料からなる膜であり、より好ましくはi型のノンドープ膜である。このような誘電体膜としては、薄膜化した酸化シリコン膜、窒化シリコン膜およびi型のアモルファスシリコン膜などを好適に用いることができる。
第3の誘電体膜2は、半導体基板1の界面をパッシベーション可能な材料ならば特に制限されず、従来公知の誘電体膜を用いることができる。たとえば、i型のアモルファス半導体膜などを用いることができる。第3の誘電体膜2の厚さも特に制限されず、たとえば、1nm以上20nm以下とすることができる。
(第1の半導体膜)
第1の半導体膜6としてはn型のアモルファスシリコンからなる膜に限定されず、たとえば従来から公知のn型のアモルファス半導体膜などを用いても良い。第1の半導体膜6の厚さは、特に限定されないが、たとえば1nm以上20nm以下とすることができる。ここで、第1の半導体膜6に含まれるn型不純物としては、たとえばリンを用いることができ、第1の半導体膜6のn型不純物濃度は、たとえば5×1019個/cm3程度とすることができる。
第2の半導体膜11としてはp型のアモルファスシリコンからなる膜に限定されず、たとえば従来から公知のp型のアモルファス半導体膜などを用いても良い。第2の半導体膜11の厚さは、特に限定されないが、たとえば1nm以上20nm以下とすることができる。ここで、第2の半導体膜11に含まれるp型不純物としては、たとえばボロンを用いることができ、第2の半導体膜11のp型不純物濃度は、たとえば5×1019個/cm3程度とすることができる。
第3の半導体膜3としては、透光性を示す膜であれば特に限定されず、たとえば従来から公知のn型のアモルファス半導体膜などを用いることができる。第3の半導体膜3の厚さは、特に限定されないが、たとえば1nm以上20nm以下とすることができる。ここで、第3の半導体膜3に含まれるn型不純物としては、たとえばリンを用いることができ、第3の半導体膜3のn型不純物濃度は、たとえば5×1019個/cm3程度とすることができる。
反射防止膜4としては、たとえば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜などを用いることができ、反射防止膜4の厚さは、たとえば10nm以上200nm以下とすることができる。反射防止膜4の厚さが、10nm未満であると、反射防止膜としての効果が十分に得られない場合があり、200nmを超過すると太陽光が透過し難くなるため好ましくない。
(第1の電極層)
第1の電極層13としては、半導体膜とオーミック接合できる材料であれば、特に限定されず、従来公知の材料を広く採用することができる。たとえば、ITO(Indium Tin Oxide)などを用いることができる。ここで、第1の電極層13は、たとえばスパッタリング法により形成することができ、第1の電極層13の厚さは、たとえば80nm以下とすることができる。
第2の電極層14としては、金属的導電性を有する材料が好ましく、より好ましくは半導体膜とオーミック接合できる材料であり、光を全反射できる材料であればさらに好適である。たとえば、アルミニウム、チタン、パラジウム、銀、またはこれらの積層体などを用いることができる。ここで、第2の電極層14は、たとえばスパッタリング法により形成することができ、第2の電極層14の厚さは、たとえば0.5μm以下とすることができる。
以下、図3〜図16の模式的断面図を参照して、実施の形態の光電変換素子の製造方法の一例について説明する。なお、以下に示す例はあくまでも一例であり、各操作の順序は以下の例に限定されず、適宜変更することができる。
次に、半導体基板1の裏面側の全面に電極層を形成する工程を行なう。これにより、電極層は、第1の半導体膜6の裏面の全面と、溝9の第2の半導体膜11の全面と、溝9の側壁9b上に形成された絶縁膜の露出部と、を覆うようにして形成される。
第1の誘電体膜、6 第1の半導体膜、7,16 レジスト膜、8 開口部、9 溝、9a 底面、9b 側壁、10 第2の誘電体膜、11 第2の半導体膜、12 マスク材、13 第1の電極層、14 第2の電極層、15 絶縁膜、20 反射点、21 接線、22 法線、101 c−Si(n)基板、102 a−Si(i/p)層、103 a−Si(i/n)層、104 フォトレジスト膜、105 a−Si(i/n)層、106 フォトレジスト膜、107 透明導電酸化膜、108,109 フォトレジスト膜、110 裏面電極層、111 反射防止膜。
Claims (4)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の一方の表面上に設けられた第1導電型の第1の半導体膜と、を備え、
前記半導体基板は、単結晶基板であり、
前記半導体基板の前記表面には、該表面上に伸長した溝が設けられており、
前記溝の底面上には第2導電型の第2の半導体膜が設けられており、
前記溝の側壁の少なくとも一部が絶縁膜で覆われており、
前記第1の半導体膜および前記第2の半導体膜は、非晶質膜であり、
前記第1の半導体膜上および前記第2の半導体膜上に、電極が設けられており、
前記第1の半導体膜上に設けられている前記電極と、前記第2の半導体膜上に設けられている前記電極とは、電気的に分離されており、
前記絶縁膜は、前記第2の半導体膜の側面と、前記側壁との間に設けられている、光電変換素子。 - 前記半導体基板と前記第1の半導体膜との間および/または前記半導体基板と前記第2の半導体膜との間に誘電体膜が形成されている、請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記絶縁膜は、前記第1の半導体膜および前記第2の半導体膜上には、設けられていない、請求項1または請求項2に記載の光電変換素子。
- 前記第1の半導体膜および前記第2の半導体膜の全面上に、前記電極が設けられている、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の光電変換素子。
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