JP6006723B2 - ビアリールジホスフィン配位子、それらの中間体、および不斉触媒反応におけるそれらの使用法 - Google Patents
ビアリールジホスフィン配位子、それらの中間体、および不斉触媒反応におけるそれらの使用法 Download PDFInfo
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Description
本開示は、ビアリールジホスフィン配位子、該配位子の作製のための方法、および不斉合成のための金属触媒中での該配位子の使用に関する。本開示はまた、ビアリールジホスフィン配位子の作製のために使用される中間体に関する。
水素化、移動水素化、異性化、酸化、ヒドロシリル化、ヒドロホウ素化、カップリング反応などを含む不斉合成のために使用される遷移金属錯体に関する数多くの報告が存在する。これらの反応は通常、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウムなどの金属が触媒として三級ホスフィン化合物に配位している遷移金属錯体によって媒介される。
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)またはC6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)、C6〜14-(アリール)、C5〜14-(ヘテロアリール)、-O-C1〜20-(アルキル)、-O-C6〜14-(アリール)、-O-CH2-C6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
Xはハロである。
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)またはC6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)、C6〜14-(アリール)、C5〜14-(ヘテロアリール)、-O-C1〜20-(アルキル)、-O-C6〜14-(アリール)、-O-CH2-C6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールである。
式(B)の化合物:
式中、
R 1 およびR 2 は独立してまたは同時に、C 1〜20 -(アルキル)、C 2〜20 -(アルケニル)、C 2〜20 -(アルキニル)、C 3〜20 -(シクロアルキル)またはC 6〜14 -(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R 3 およびR 4 は独立してまたは同時に、C 1〜20 -(アルキル)、C 2〜20 -(アルケニル)、C 2〜20 -(アルキニル)、C 3〜20 -(シクロアルキル)、C 6〜14 -(アリール)、C 5〜14 -(ヘテロアリール)、-O-C 1〜20 -(アルキル)、-O-C 6〜14 -(アリール)、-O-CH 2 -C 6〜14 -(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R 3 およびR 4 は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR 5 、SiR 5 およびSiR 5 R 6 より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基は、ハロ、OR 5 、NR 5 R 6 およびR 7 のうちの1つまたは複数より選択され、
R 5 およびR 6 は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C 1〜6 アルキル、C 1〜6 アルキル、C 2〜6 アルケニル、C 2〜6 アルキニルまたはC 6〜14 アリールであり、かつ
R 7 は、フルオロ置換C 1〜6 アルキル、C 1〜6 アルキル、C 2〜6 アルケニル、C 2〜6 アルキニルまたはC 6〜14 アリールである。
[本発明1002]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時に、C 1〜10 -(アルキル)、C 2〜10 -(アルケニル)、C 2〜10 -(アルキニル)、C 3〜10 -(シクロアルキル)またはC 6〜10 -(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1001の化合物。
[本発明1003]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時に、C 1〜6 -(アルキル)、C 2〜6 -(アルケニル)、C 2〜6 -(アルキニル)、C 3〜6 -(シクロアルキル)またはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1002の化合物。
[本発明1004]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1003の化合物。
[本発明1005]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1004の化合物。
[本発明1006]
R 1 およびR 2 が同時にメチルである、本発明1005の化合物。
[本発明1007]
R 3 およびR 4 が独立してまたは同時に、C 1〜10 -(アルキル)、C 2〜10 -(アルケニル)、C 2〜10 -(アルキニル)、C 3〜10 -(シクロアルキル)、C 6〜10 -(アリール)、C 5〜10 -(ヘテロアリール)、-O-C 1〜10 -(アルキル)、-O-C 6〜10 -(アリール)、-O-CH 2 -C 6〜10 -(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1001〜1006のいずれかの化合物。
[本発明1008]
R 3 およびR 4 が独立してまたは同時に、C 1〜6 -(アルキル)、C 2〜6 -(アルケニル)、C 2〜6 -(アルキニル)、C 3〜6 -(シクロアルキル)、フェニル、C 5〜6 -(ヘテロアリール)、-O-C 1〜6 -(アルキル)、-O-フェニル、-O-CH 2 -フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1007の化合物。
[本発明1009]
R 3 およびR 4 が独立してまたは同時に、フェニル、トリル(4-メチルフェニル)、アニシル(4-メトキシフェニル)、キシリル(3,5-ジメチルフェニル)、3,5-ジメチル-4-メトキシ-フェニル、3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシ-フェニルまたは3,5-ビス(トリフルオロメチル)-フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1008の化合物。
[本発明1010]
R 3 およびR 4 が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子が、O、S、N、NHおよびNC 1〜4 アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい、本発明1001の化合物。
[本発明1011]
R 3 およびR 4 が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成する、本発明1010の化合物。
[本発明1012]
前記任意の置換基が、ハロ、OH、NH 2 、NHR 5 、OR 5 、NR 5 R 6 およびR 7 のうちの1つまたは複数であり、R 5 、R 6 およびR 7 が同時にまたは独立して、フルオロ置換C 1〜4 アルキル、C 1〜4 アルキル、C 2〜4 アルケニル、フェニルおよびC 1〜4 アルキレンフェニルより選択される、本発明1001〜1011のいずれかの化合物。
[本発明1013]
R 5 、R 6 およびR 7 が同時にまたは独立してメチル、ベンジルおよびフェニルより選択される、本発明1012の化合物。
[本発明1014]
式Aの化合物:
式中、
R 1 およびR 2 は独立してまたは同時に、C 1〜20 -(アルキル)、C 2〜20 -(アルケニル)、C 2〜20 -(アルキニル)、C 3〜20 -(シクロアルキル)またはC 6〜14 -(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R 3 およびR 4 は独立してまたは同時に、C 1〜20 -(アルキル)、C 2〜20 -(アルケニル)、C 2〜20 -(アルキニル)、C 3〜20 -(シクロアルキル)、C 6〜14 -(アリール)、C 5〜14 -(ヘテロアリール)、-O-C 1〜20 -(アルキル)、-O-C 6〜14 -(アリール)、-O-CH 2 -C 6〜14 -(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R 3 およびR 4 は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR 5 、SiR 5 およびSiR 5 R 6 より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基は、ハロ、OR 5 、NR 5 R 6 およびR 7 のうちの1つまたは複数より選択され、
R 5 およびR 6 は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C 1〜6 アルキル、C 1〜6 アルキル、C 2〜6 アルケニル、C 2〜6 アルキニルまたはC 6〜14 アリールであり、
R 7 は、フルオロ置換C 1〜6 アルキル、C 1〜6 アルキル、C 2〜6 アルケニル、C 2〜6 アルキニルまたはC 6〜14 アリールであり、かつ
Xはハロである。
[本発明1015]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時に、C 1〜10 -(アルキル)、C 2〜10 -(アルケニル)、C 2〜10 -(アルキニル)、C 3〜10 -(シクロアルキル)またはC 6〜10 -(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1014の化合物。
[本発明1016]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時に、C 1〜6 -(アルキル)、C 2〜6 -(アルケニル)、C 2〜6 -(アルキニル)、C 3〜6 -(シクロアルキル)またはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1015の化合物。
[本発明1017]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1016の化合物。
[本発明1018]
R 1 およびR 2 が独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1017の化合物。
[本発明1019]
R 1 およびR 2 がメチルである、本発明1018の化合物。
[本発明1020]
R 3 およびR 4 が独立してまたは同時に、C 1〜10 -(アルキル)、C 2〜10 -(アルケニル)、C 2〜10 -(アルキニル)、C 3〜10 -(シクロアルキル)、C 6〜10 -(アリール)、C 5〜10 -(ヘテロアリール)、-O-C 1〜10 -(アルキル)、-O-C 6〜10 -(アリール)、-O-CH 2 -C 6〜10 -(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよいか、あるいはR 3 およびR 4 が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子が、O、S、N、NHおよびNC 1〜4 アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい、本発明1014〜1019のいずれかの化合物。
[本発明1021]
R 3 およびR 4 が独立してまたは同時に、C 1〜6 -(アルキル)、C 2〜6 -(アルケニル)、C 2〜6 -(アルキニル)、C 3〜6 -(シクロアルキル)、フェニル、C 5〜6 -(ヘテロアリール)、-O-C 1〜6 -(アルキル)、-O-フェニル、-O-CH 2 -フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよいか、あるいはR 3 およびR 4 が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成する、本発明1020の化合物。
[本発明1022]
R 3 およびR 4 が独立してまたは同時に、フェニル、トリル(4-メチルフェニル)、アニシル(4-メトキシフェニル)、キシリル(3,5-ジメチルフェニル)、3,5-ジメチル-4-メトキシ-フェニル、3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシ-フェニルまたは3,5-ビス(トリフルオロメチル)-フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、本発明1021の化合物。
[本発明1023]
前記任意の置換基が、ハロ、OH、NH 2 、NHR 5 、OR 5 、NR 5 R 6 およびR 7 のうちの1つまたは複数であり、R 5 、R 6 およびR 7 が同時にまたは独立して、フルオロ置換C 1〜4 アルキル、C 1〜4 アルキル、C 2〜4 アルケニルまたはフェニルである、本発明1014〜1022のいずれかの化合物。
[本発明1024]
XがF、Cl、BrまたはIである、本発明1014〜1023のいずれかの化合物。
[本発明1025]
(i) R 1 〜R 4 が本発明1001〜1011のいずれかで定義される、式(C)
の化合物と、N-ハロスクシンイミドを接触させて、R 1 〜R 4 およびXが本発明1001〜1011のいずれかで定義される、式(A)
の化合物を提供する工程
を含む、本発明1014〜1024のいずれかで定義される式(A)の化合物を調製するための方法。
[本発明1026]
前記N-ハロスクシンイミドが、N-フルオロスクシンイミド、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミドまたはN-ヨードスクシンイミドである、本発明1025の方法。
[本発明1027]
式(B)の化合物を含有する、金属錯体。
[本発明1028]
前記金属が触媒活性を有する、本発明1027の金属錯体。
[本発明1029]
前記金属が、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀または金である、本発明1028の金属錯体。
[本発明1030]
式[RuX 2 (配位子)(B)]を有し、式中、Xがハロであり、かつ配位子が任意の中性配位子である、金属錯体。
[本発明1031]
前記中性配位子がp-シメンまたはCODである、本発明1030の金属錯体。
[本発明1032]
RuCl 2 (p-シメン)((R)-Ph-Garphos)またはRuCl 2 (p-シメン)((R)-DMM-Garphos)である、本発明1030または1031の金属錯体。
[本発明1033]
式[RuX 2 (ジアミン)(B)]を有し、式中、Xがハロであり、かつジアミンが任意のジアミノ配位子である、金属錯体。
[本発明1034]
前記ジアミノ配位子がDPENまたはDAIPENである、本発明1033の金属錯体。
[本発明1035]
RuCl 2 ((S)-Ph-Garphos)(S,S-DPEN)、RuCl 2 ((S)-Ph-Garphos)(S)-DAIPEN)、RuCl 2 ((S)-キシリル-Garphos)(S,S-DPEN)、RuCl 2 ((S)-キシリル-Garphos)(S)-DAIPEN)、RuCl 2 ((S)-DMM-Garphos)(S,S-DPEN)またはRuCl 2 ((S)-DMM-Garphos)((S)-DAIPEN)である、本発明1033または1034の金属錯体。
[本発明1036]
式[Rh(配位子)(B)][X]を有し、式中、配位子が任意の中性配位子であり、かつXが任意のアニオン性配位子である、金属錯体。
[本発明1037]
前記中性配位子がp-シメンであり、かつXがBF 4 である、本発明1036の金属錯体。
[本発明1038]
[Rh(COD)((R)-Ph-Garphos)][BF 4 ]、[Rh(COD)((R)-キシリル-Garphos)][BF 4 ]または[Rh(COD)((R)-DMM-Garphos)][BF 4 ]である、本発明1036または1037の金属錯体。
[本発明1039]
触媒反応のための、式(B)の化合物を含有する金属錯体の使用。
[本発明1040]
水素化のための、式(B)の化合物を含有する金属錯体の使用。
[本発明1041]
式(b)
の化合物と、本発明1001〜1013のいずれかの式(B)の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程
を含む、式(a)
の化合物の調製のための方法。
[本発明1042]
式(d)
の化合物と、本発明1001〜1013のいずれかの式(B)の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程
を含む、式(c)
の化合物の調製のための方法。
[本発明1043]
式(f)
の化合物と、本発明1001〜1013のいずれかの式(B)の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程
を含む、式(e)
の化合物の調製のための方法。
[本発明1044]
式(h)
の化合物と、本発明1001〜1013のいずれかの式(B)の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程
を含む、式(g)
の化合物の調製のための方法。
本開示の他の特徴および利点は、以下の詳細な説明から明らかになるであろう。しかし、本開示の真意および範囲内の各種の変更および修正がこの詳細な説明から当業者に明らかになることから、本開示の好ましい態様を示す詳細な説明および具体例が例示のみを目的として示されると理解すべきである。
(I) 定義
本明細書において使用される「C1〜n-(アルキル)」という用語は、1個〜「n」個の炭素原子を含有する直鎖および/または分岐鎖の飽和アルキル基を意味し、(nの独自性に応じて)メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、s-ブチル、イソブチル、t-ブチル、2,2-ジメチルブチル、n-ペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、n-ヘキシルなどを含み、変数nは、アルキル基中の炭素原子の最大数を表す整数である。
本開示は、金属触媒反応に有用であるビアリールジホスフィン配位子を作製するために使用することができる中間体モノ-ホスフィン化合物に関する。したがって、本開示の一態様では、式Aの化合物が提供される:
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)またはC6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)、C6〜14-(アリール)、C5〜14-(ヘテロアリール)、-O-C1〜20-(アルキル)、-O-C6〜14-(アリール)、-O-CH2-C6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
Xはハロである。
式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)またはC6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)、C6〜14-(アリール)、C5〜14-(ヘテロアリール)、-O-C1〜20-(アルキル)、-O-C6〜14-(アリール)、-O-CH2-C6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールである。
本開示はまた、式(B)の化合物を作製するために後で用いられる式(A)の化合物の作製のための方法に関する。特に、スキーム1に示す通り、式(C)の化合物とN-ハロスクシンイミドとの間の反応が高収率の式(A)の化合物を生じさせると決定された。
スキーム1
式中、R1〜R4およびXは上記で定義された通りである。
(i) 式(C)
の化合物とN-ハロスクシンイミドを接触させて、
式(A)
の化合物を提供する工程であって、
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)またはC6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)、C6〜14-(アリール)、C5〜14-(ヘテロアリール)、-O-C1〜20-(アルキル)、-O-C6〜14-(アリール)、-O-CH2-C6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ、単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
Xはハロである、工程
を含む、式(A)の化合物を作製するための方法を含む。
(i) 式(A)
の化合物と銅粉を接触させ、かつ
式(E)
の化合物を単離する工程であって、
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)またはC6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20-(アルキル)、C2〜20-(アルケニル)、C2〜20-(アルキニル)、C3〜20-(シクロアルキル)、C6〜14-(アリール)、C5〜14-(ヘテロアリール)、-O-C1〜20-(アルキル)、-O-C6〜14-(アリール)、-O-CH2-C6〜14-(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ、単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
Xはハロである、工程
を含む、式(B)のビアリールジホスフィン配位子の作製のための方法がある。
本開示はまた、式(B)のビアリールジホスフィン配位子を組み込んでいる、遷移金属錯体などの金属錯体を提供する。式(B)の化合物を組み込んでいる金属錯体は、種々のプロキラル基質の不斉水素化を含む種々の触媒プロセスにおいて有用である。
式中、Arはフェニル(Ph)、キシリルまたは3,5-ジメチル-4-メトキシフェニル(DMM)を表す。
3,5-ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチルの調製
1-ブロモ-3,5-ジメトキシベンゼン(20g、92.1mmol)のTHF(100ml)溶液をマグネシウム(2.5g、103mmol)、I2(20mg)およびTHF(50ml)と共にフラスコ(500ml)に加え、2時間還流させた。得られた明褐色溶液を別のフラスコ(500ml)に移し、-78℃に冷却した。THF(80ml)中ホスホロクロリド酸ジエチル(17.8g、103mmol)を-78℃で1時間以内に加えた。混合物を-78℃で1時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で終夜攪拌した。ブライン(20%、200ml)を混合物に加え、それを30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(200mlx1)およびCH2Cl2(100mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(300mlx2)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。残渣をシリカゲルパッドで精製した(溶離液: CH2Cl2で不純物を除去した後、CH2Cl2/THF=10/1で生成物を洗い流す)。溶媒を除去した後、純粋な生成物を淡黄色油状物として得た(20.2g、収率80%)。
2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチルの調製
3,5-ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチル(12.5g、45.6mmol)のCH2Cl2(150ml)溶液にN-ブロモスクシンイミド(NBS)(8.9g、50mmol)を0℃で加えた。得られた懸濁液を0℃で6時間攪拌した。Na2CO3(飽和、60ml)を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離し、水層をCH2Cl2(80mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色油状物(14g、収率87%)として得た。それは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な試料をクロマトグラフィーで得た。
4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸(R,S)-テトラエチルの調製
2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチル(8.0g、22.7mmol)のDMF(30ml)溶液に銅粉(4.23g、68mmol)を加えた。懸濁液を140℃で2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣をCHCl3(80ml)と共に30分間攪拌した。それを濾過し、固体をCHCl3(50ml)で洗浄した。一緒にした有機層をブライン中(100ml)希NH4OH(5%)、次にブライン(100ml)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過した(溶離液: CHCl3/THF=15/1で不純物を除去した後、CH2Cl2/THF=1/1で生成物を洗い流す)。溶媒を濾液から除去して生成物を淡黄色固体として得て、これをCH2Cl2/エーテル(1/10)から再結晶させて純粋な生成物を無色結晶性固体(3.1g、収率50%)として得た。
4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸(R,S)-テトラエチルの分割
4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸テトラエチル(1.82g、3.3mmol)をCH2Cl2(4.5ml)に溶解させた。エーテル(20ml)中L-(-)-DBTA一水和物(1.35g、3.6mmol)を加えた。別のエーテル(30ml)をゆっくりと加えた。懸濁液を室温で1時間攪拌した。それを濾過して白色固体(1.32g、82%ee)を得て、これをCH2Cl2(3.2ml)に再溶解させ、エーテル(50ml)を加えた。得られた懸濁液を1時間攪拌した。固体を濾取し(0.97g、97.5%ee)、これをもう一度再結晶させて(S)-体/(-)-DBTA複合体(0.8g、99%ee)を得た。複合体をCH2Cl2(30ml)に溶解させ、NaHCO3(飽和、40mlx2)、ブライン(40ml)で洗浄した。有機層をMgSO4で2時間乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して(S)体鏡像異性体を無色固体(0.46g、収率50%、>99%ee)として得た。[α]25 D = -22.8°(C=1.1、CHCl3)。一緒にした母液をNaHCO3で遊離させ、D-(+)-DBTAで分解して(R)体鏡像異性体を無色固体(0.53g、収率58%、>99%ee)として得た。[α]25 D = +23.0°(C=1.0、CHCl3)。(HPLC: Chiralpak AS-Hカラム0.46cm×25cm。2-PrOH/ヘキサン=15/85、1ml/分、25℃、254nm。(S)体=6.96分、(R)体=4.9分)。
(R)-4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸ジクロリドの調製
4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸(R)-テトラエチル(220mg、0.4mmol)とDMF(0.08ml)との混合物に塩化チオニル(0.4ml、650mg、5.5mmol)を加えた。得られた混合物を80〜90℃で3時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。残渣をCH2Cl2/ヘキサンから再結晶させて白色固体を得た。31P NMR(121.1MHz、CD2Cl2)δ: 34.45。
(R)-4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル-ビス(ジフェニルホスフィンオキシド)の調製
4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸ジクロリド(0.5mmol)のTHF(3ml)溶液に臭化フェニルマグネシウム(THF中1.0M、6mmol)を-78℃で加えた。混合物を-78℃で1時間攪拌した後、それを室温にゆっくりと昇温させ、室温でさらに1時間攪拌した。NH4Cl(飽和、30ml)を加えた。有機層を分離し、水層をCH2Cl2(40mlx2)で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。溶媒を除去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した(溶離液: CH2Cl2/THF=10/1、次にCH2Cl2/THF=1/1で生成物を洗い流す)。溶媒を除去して生成物を白色固体として得た。
(R)-4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル-ビス(ジフェニルホスフィン)の調製
(R)-4,4',6,6'-テトラメトキシ-ビフェニル-2,2'-ジイル-ビス(ジフェニルホスフィンオキシド)(50mg、0.074mmol)のトルエン(6ml)懸濁液にHSiCl3(0.2ml、268mg、1.98mmol)を加えた。得られた混合物をAr下で20時間還流させた。それを室温に冷却し、NaOH(2N、30ml)を加え、得られた混合物を50℃で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(30mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過した。溶媒を除去して生成物を白色固体(40mg、84%)として得た。
(S)-4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル-ビス(ジフェニルホスフィン)の調製
実施例7で概説した手順を使用して(S)-4,4',6,6'-テトラメトキシ-ビフェニル-2,2'-ジイル-ビス(ジフェニルホスフィンオキシド)から(S)-4,4',6,6'-テトラメトキシ-ビフェニル-2,2'-ジイル-ビス(ジフェニルホスフィン)を調製した。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシフェニル)ホスフィンオキシドの調製
NaI(1.1g、7.4mmol)および4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸(R)-テトラエチル(1.0g、1.83mmol)のCH3CN(12ml)溶液にMe3SiCl(0.81g、7.4mmol)を加えた。得られた懸濁液を50℃で2時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。乾燥CH2Cl2(12ml)をDMF数滴と共に残渣に加えた後、塩化オキサリル(3g、23.8mmol)を加えた。得られた混合物を40℃で4時間攪拌した。それを濾過し、すべての揮発物を濾液から除去して四塩化物中間体を得て、これをTHF(30ml)に溶解させた。それをドライアイス浴で冷却し、臭化(4-メトキシフェニル)マグネシウム(THF中0.5M、30ml、15mmol)を-78℃で加えた。得られた混合物を-78℃で0.5時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、1時間攪拌した。NH4Cl(飽和、30ml)および水(20ml)を加えて反応液を反応停止させた。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(40mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(飽和、80mlx2)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して粗生成物を淡黄色固体として得て、これをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液: CH2Cl2/THF=10/3→10/4)で精製した。溶媒を除去して生成物を淡黄色固体(1.1g、収率76%)として得た。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシフェニル)ホスフィン)の調製
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシフェニル)ホスフィンオキシド)(0.57g、0.72mmol)およびトルエン(50ml)の反応混合物にHSiCl3(2.1ml)を加えた。混濁混合物を110℃で終夜加熱した。それを室温に冷却し、NaOH(80ml、2M)をゆっくりと加え、30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエン(40ml)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(30ml)で洗浄し、ショートシリカゲルパッドに通した(CH2Cl2/THF=6/1を溶離液として)。すべての溶媒を濾液から除去し、減圧乾燥させて生成物を白色固体(0.43g、78%)として得た。
(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシフェニル)ホスフィン)の調製
実施例10で概説した手順を使用して(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシフェニル)ホスフィン)から(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシフェニル)ホスフィン)を調製した。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メチルフェニル)ホスフィンオキシド)の調製
NaI(1.12g、7.5mmol)および4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸(R)-テトラエチル(1.04g、1.90mmol)のCH3CN(10ml)溶液にMe3SiCl(0.86g、7.5mmol)を加えた。得られた懸濁液を50℃で2時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。乾燥CH2Cl2(12ml)をDMF数滴と共に残渣に加えた後、塩化オキサリル(3g、23.8mmol)を加えた。得られた混合物を40℃で4時間攪拌した。それを濾過し、すべての揮発物を濾液から除去して四塩化物中間体を得て、これをTHF(30ml)に溶解させた。それをドライアイス浴で冷却し、臭化(4-メチルフェニル)マグネシウム(THF中0.5M、30ml、15mmol)を-78℃で加えた。得られた混合物を-78℃で0.5時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、1時間攪拌した。NH4Cl(飽和、30ml)および水(20ml)を加えて反応液を反応停止させた。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(40mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(飽和、80mlx2)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して粗生成物を淡黄色固体として得て、これをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液: CH2Cl2/THF=10/3→10/4)で精製した。溶媒を除去して生成物を淡黄色固体(1.32g、収率95%)として得た。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メチルフェニル)ホスフィン)の調製
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メチルフェニル)ホスフィンオキシド)の試料(0.58g、0.79mmol)をトルエン(40ml)に溶解させ、HSiCl3(2.8ml)を反応混合物に加えた。混濁混合物を透明になるまで(約20時間)攪拌しながら110℃で加熱し、室温に冷却し、NaOH(80ml、2M)をゆっくりと加え、混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエン(40ml)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(30ml)で洗浄し、ショートシリカゲルパッドに通し(CH2Cl2を溶離液として)、溶媒を濾液から除去し、減圧乾燥させて生成物を白色固体(0.43g、80%)として得た。
(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メチルフェニル)ホスフィン)の調製
実施例13で概説した手順を使用して(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メチルフェニル)ホスフィン)から(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メチルフェニル)ホスフィン)を調製した。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィンオキシド)の調製
NaI(1.1g、7.4mmol)および4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイルジホスホン酸(R)-テトラエチル(1.02g、1.83mmol)のCH3CN(10ml)溶液にMe3SiCl(0.86g、7.4mmol)を加えた。得られた混合物を50℃で終夜攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。乾燥CH2Cl2(12ml)を残渣に加え、DMF数滴を加えた後、塩化オキサリル(2.4g、23.8mmol)を加えた。得られた混合物を40℃で4時間攪拌した。すべての揮発物を濾液から除去して四塩化物中間体を得て、これをTHF(30ml)に溶解させた。それをドライアイス浴で冷却し、臭化(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)マグネシウム(THF中0.5M、36ml、18mmol)を-78℃で加えた。得られた混合物を-78℃で0.5時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、1時間攪拌した。NH4Cl(飽和、30ml)および水(20ml)を加えて反応液を反応停止させた。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(40mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(飽和、80mlx2)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して粗生成物を淡黄色固体として得て、これをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液: CH2Cl2/THF=10/3→10/4)で精製した。溶媒を除去して生成物を淡黄色固体(1.26g、収率56%)として得た。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン)の調製
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジトリフルオロメチル)フェニル)ホスフィンオキシド)(0.50g、0.41mmol)のトルエン(40ml)溶液にHSiCl3(1.4ml)を加えた。混合物を110℃で36時間攪拌した(TLCは出発原料をモニタリングしなかった)。それを室温に冷却し、NaOH(40ml、2M)をゆっくりと加え、混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエン(40ml)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(30ml)で洗浄し、ショートトシリカゲルパッドに通した(CH2Cl2/ヘキサン=3/10を溶離液として)。溶媒を濾液から除去し、減圧乾燥させて生成物を白色固体(0.33g、69%)として得た。
(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン)の調製
実施例16で概説した手順を使用して(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィンオキシド)から(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン)を調製した。
(3,5-ジメトキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキシドの調製
THF(60ml)中1-ブロモ-3,5-ジメトキシベンゼン(10g、46.1mmol)をマグネシウム(1.2g、49.9mmol)、I2(10mg)およびTHF(40ml)と共にシュレンクフラスコ(250ml)に加えた。混合物を2時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコ(250ml)に移し、それを-78℃に冷却した。THF(30ml)中クロロジフェニルホスフィン(11g、49.9mmol)を-78℃で加えた。混合物を-78℃で1時間攪拌した後、それを室温にゆっくりと昇温させ、室温で1時間攪拌した。得られた反応液に水(50ml)を加えた後、H2O2(30%、13ml)を0℃で滴下した。得られた混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(50mlx2)で抽出した。一緒にした有機層をNaHSO3(100mlx3)およびブライン(100mlx2)で徹底的に洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粘稠性油状物を得て、これを結晶化(CH2Cl2/ヘキサン=1:20)で精製して生成物を無色固体(15.2g、収率: 97.5%)として得た。
(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキシドの調製
(3,5-ジメトキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキシド(12.3g、36.4mmol)のCH2Cl2(140ml)溶液にNBS(6.7g、37.6mmol)を0℃で加えた。得られた懸濁液を0℃で1時間攪拌した。Na2CO3(飽和、40ml)を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離し、水層をCH2Cl2(40mlx2)で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色固体(14.3g、収率94%)として得た。それは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な試料をCH2Cl2/ヘキサン(1/15)からの結晶化によって得た。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ジフェニルホスフィンオキシド)の調製
(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキシド(12.7g、30.5mmol)のDMF(50ml)溶液に銅粉(5.81g、91.5mmol)を加えた。ヨウ素(100mg)を加えた。得られた懸濁液を140℃で2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣にCHCl3(200ml)を加えた。それを30分間攪拌した。固体を濾過し、CHCl3(20ml)で洗浄した。一緒にした濾液をブライン(5% NH3・H2Oを有する、200mlx2)、ブライン(20%、200mlx1)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。固体を濾過し、CHCl3(20ml)で洗浄した。溶媒を濾液から除去して粗生成物を帯黄白色固体として得て、これをCH2Cl2/エーテル(10/200)からの結晶化によって精製して純粋な生成物を無色固体(6.2g、収率60.3%)として得た。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ジフェニルホスフィンオキシド)の分割
(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ジフェニルホスフィンオキシド)(6.2g、9.2mmol)のCH2Cl2(30ml)溶液にEt2O(30ml)中L-(-)-DBTA一水和物(3.49g、9.28mmol)を加えた。別のEt2O(120ml)を混合物に加えた。得られた懸濁液を0.5時間攪拌した。固体を濾過し、エーテル(20ml)で洗浄し、乾燥させて生成物を無色結晶性固体として得て、これを新たなCH2Cl2/エーテル(100ml/150ml)と共に1時間攪拌した。白色結晶性固体を濾過し、それを別の新たなCH2Cl2/エーテル(80ml/120ml)と共に1時間攪拌した。無色結晶性固体を濾過し、エーテル(20ml)で洗浄し、減圧乾燥させて無色固体を得て、これをCH2Cl2(150ml)に懸濁させ、NaHCO3(飽和、100mlx2)で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して(S)-GarPhosオキシドを無色固体(2.3g、収率74.2%、99.5%ee)として得た。[α]25 D = -115.2°(C=0.95、CH2Cl2)。一緒にした母液をNaHCO3で中和して(R)-濃縮ホスフィンオキシド(3.9g)を得て、これをD-(+)-DBTA(2.1g)によって分割した。エナンチオピュアな生成物をNaHCO3で遊離させて(R)体鏡像異性体を無色結晶性固体(2.7g、収率87.1%、99.9%ee)として得た。[α]25 D = +114.6°(C=0.99、CH2Cl2)。(HPLC: Chiralpak IAカラム0.46cm×25cm。2-PrOH/ヘキサン=40/60、1ml/分、25℃、254nm。(S)体=9.55分、(R)体=5.88分)。
(3,5-ジメトキシフェニル)ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシドの調製
THF(80ml)中1-ブロモ-3,5-ジメトキシベンゼン(20.2g、93mmol)をTHF(100ml)中マグネシウム(2.4g、99mmol)およびI2(20mg)と共にフラスコ(500ml)に60℃で加えた。添加が完了した後、混合物を2時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコ(250ml)に移した。それを-78℃に冷却した。THF(100ml)中クロロビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン(27.4g、99mmol)を-78℃で1時間以内に滴下した。得られた混合物を-78℃で0.5時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で30分間攪拌した。得られた反応液にH2O(100ml)を加えた後、H2O2(25ml、30%)を0℃で滴下した。混合物を室温で0.5時間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(100mlx2)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(200mlx2)、NaHSO3(飽和、200mlx3)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。粘稠性残渣をCH2Cl2/ヘキサン(20ml/800ml)と共に1時間攪拌した。固体を濾取して生成物を無色固体(32.3g、収率88%)として得た。
(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシドの調製
(3,5-ジメトキシフェニル)ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド(30g、76mmol)のCH2Cl2(400ml)溶液にNBS(13.5g、76mmol)を0℃で加えた。得られた懸濁液を0℃で1時間攪拌した。Na2CO3(飽和、300ml)を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離した。水層をCH2Cl2(100mlx2)で抽出した。一緒にした有機層を水(150mlx2)、ブライン(200mlx1)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色固体(14.3g)として得た。これは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な生成物(34.2g、収率93%)をエーテル/ヘキサン(1/15)からの結晶化によって得た。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド)の調製
(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド(32.6g、68.9mmol)のDMF(180ml)懸濁液に銅粉(13.5g、212.4mmol)を加えた。ヨウ素(100mg)を加えた。得られた懸濁液を140℃で2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣にCHCl3(300ml)を加えた。それを30分間攪拌した。固体を濾過し、CHCl3(20ml)で洗浄した。一緒にした濾液をブライン(5% NH4OHを有する、300mlx2)、ブライン(20%、300mlx1)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、固体をCHCl3(20ml)で洗浄した。溶媒を濾液から除去して粗生成物を帯黄白色固体として得て、これをCH2Cl2/エーテル(10ml/300ml)と共に1時間攪拌した。固体を濾過し、減圧乾燥させて純粋な生成物を無色固体(17.6g、収率64.9%)として得た。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)-ホスフィンオキシド)の分割
(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド)(16g、20.3mmol)のCH2Cl2(75ml)溶液にEt2O(130ml)中L-(-)-DBTA一水和物(7.9g、21mmol)を加えた。CCl4(150ml)を加えた後、別のEt2O(580ml)を混合物に加えた。得られた混合物を1時間攪拌した。固体を濾過し、エーテル(50ml)で洗浄し、乾燥させて生成物を無色結晶性固体(17.6g)として得て、これを新たなCH2Cl2(100ml)と共に15分間攪拌した後、CCl4(155ml)を加えて、混合物をさらに15分間攪拌した。エーテル(480ml)を滴下した。得られた懸濁液をさらに40分間攪拌した。結晶性固体を濾過し、エーテル(40ml)で洗浄し、減圧乾燥させて生成物を無色固体(11.5g)として得て、これをCH2Cl2(80ml)に懸濁させ、NaHCO3(飽和、100mlx2)で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して鏡像異性体の(R)体を無色固体(7.4g、収率92.5%、>99%ee)として得た。[α]25 D = +185.9°(C=0.71、CH2Cl2)。一緒にした母液をNaHCO3で中和して(S)-濃縮ホスフィンオキシド(8.5g)を得て、これをD-(+)-DBTA(4.0g)によって分割した。エナンチオピュアな複合体をNaHCO3で遊離させて(S)体鏡像異性体を無色固体(7.6g、収率95%、>99%ee)として得た。[α]25 D = -186.3°(C=1.01、CH2Cl2)。(HPLC: Chiralpak IAカラム0.46cm x 25cm。2-PrOH/ヘキサン(1% Et2NH)=5/95、1ml/分、25℃、254nm。(S)体=19.10分、(R)体=25.90分)。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンの調製
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド)(1.1g、1.4mmol)のトルエン(60ml)溶液にHSiCl3(4.0ml)を加えた。得られた混合物をAr下、110℃で終夜攪拌した。それを室温に冷却し、NaOH(2N、100ml)を0℃でゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエン(60mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過した。溶媒を除去して生成物を白色固体(1.03g、97.6%)として得た。
(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンの調製
実施例26で概説した手順を使用して(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)から(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンを調製した。
(3,5-ジメトキシフェニル)ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシドの調製
THF(60ml)中1-ブロモ-3,5-ジメトキシベンゼン(10g、46.1mmol)をTHF(40ml)中マグネシウム(1.2g、49.9mmol)およびI2(20mg)と共にフラスコ(250ml)に60℃で加えた。添加が完了した後、混合物を2時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコ(250ml)に移した。それを-78℃に冷却し、THF(40ml)中クロロビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン(16.8g、49.9mmol)を-78℃で1時間以内に滴下した。得られた混合物を-78℃で0.5時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で30分間攪拌した。得られた反応混合物に水(50ml)を加えた後、H2O2(13ml)を0℃で滴下した。混合物を室温で0.5時間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(100mlx2)およびCH2Cl2(100mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(200mlx2)、NaHSO3(200mlx3)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。粘稠性残渣をCH2Cl2/ヘキサン(5ml/100ml)と共に1時間攪拌した。固体を濾取して生成物を無色固体(17.4g、収率83%)として得た。
(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシドの調製
(3,5-ジメトキシフェニル)ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド(11.3g、25mmol)のCH2Cl2(150ml)溶液にNBS(4.5g、25.3mmol)を0℃で加えた。得られた懸濁液を0℃で1時間攪拌した。Na2CO3(飽和、60ml)を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離し、水層をCH2Cl2(40mlx2)で抽出した。一緒にした有機層を水(150mlx2)、ブライン(200mlx1)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色固体(12.9g)として得た。これは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な生成物(12.0g、収率90%)をシリカゲルクロマトグラフィーによって得た。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)オキシドの調製
(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィンオキシド(10g、18.7mmol)のDMF(30ml)溶液に銅粉(3.6g、56.6mmol)を加え、ヨウ素(20mg)を加えた。得られた懸濁液を140℃で2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣にCHCl3(50ml)を加えた。それを30分間攪拌した。固体を濾過し、CHCl3(20ml)で洗浄した。一緒にした濾液をブライン(5% NH3・H2Oを有する、100mlx2)、ブライン(20%、100mlx1)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、固体をCHCl3(20ml)で洗浄した。溶媒を濾液から除去して粗生成物を黄褐色固体(7.8g)として得た。それをエーテル/ヘキサン(30ml/50ml)からの再結晶によって精製した。固体を濾過し、減圧乾燥させて純粋な生成物を淡褐色固体(4.5g、収率53%)として得た。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)オキシドの分割
(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)オキシド(4.5g、4.96mmol)のCH2Cl2(17ml)溶液にEt2O(25ml)中L-(-)-DBTA一水和物(1.08g、2.87mmol)を加えた。CCl4(20ml)を加えた後、別のEt2O(120ml)を混合物に加えた。得られた混合物を0.5時間攪拌した。固体を濾取し、エーテル(15ml)で洗浄し、乾燥させて生成物を無色結晶性固体(3.3g)として得て、これを新たなCH2Cl2/CCl4/Et2O(15ml/15ml/100ml)と共に40分間攪拌した。結晶性固体を濾過し、エーテル(15ml)で洗浄し、減圧乾燥させて無色固体(3.1g)を得て、これをCH2Cl2(40ml)に溶解させ、NaHCO3(飽和、40mlx2)で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して(R)体鏡像異性体を無色固体(2.0g、収率90%、>99%ee)として得た。[α]25 D = +150.6°(C=1.0、CH2Cl2)。一緒にした母液をNaHCO3で遊離させて濃縮ホスフィンオキシドを得て、これを上記の通りD-(+)-DBTAによって分割した。エナンチオピュアな複合体をNaHCO3で遊離させて(S)体鏡像異性体を無色固体(2.04g、収率91.8%、>99%ee)として得た。[α]25 D = -156.0°(C=1.01、CH2Cl2)。(HPLC: Chiralpak IAカラム0.46cm x 25cm。2-PrOH/ヘキサン(0.5% Et2NH)=8/92、1ml/分、25℃、254nm。(S)体=15.8分、(R)体=22.9分)。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)の調製
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)オキシド(2.0g、2.2mmol)のトルエン(75ml)溶液にHSiCl3(4.0ml、5.4g、39.9mmol)を加えた。得られた懸濁液をAr下、120℃で6時間攪拌した。それを室温に冷却し、NaOH(4N、80ml)を0℃でゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエン(80mlx1)で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過し、CH2Cl2/THF(10/1、50ml)で洗浄した。溶媒を除去して生成物を白色固体(1.83g、95%)として得た。
(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)の調製
実施例32で概説した手順を使用して(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン)オキシドから(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(4-メトキシ-3,5-ジメチル-フェニル)ホスフィン)を調製した。
RuCl2(p-シメン)(ジホスフィン)触媒の調製の一般的手順
[RuCl2(p-シメン)]2(0.25mmol)とジホスフィン配位子(0.5mmol)との混合物にエタノール/CH2Cl2共溶媒(3/1、40ml)を加えた。混合物を不活性雰囲気下で3〜5時間還流させた。すべての揮発物を減圧除去した。CH2Cl2(4ml)を加えて残渣を溶解させ、ヘキサン(20ml)を加えてあらゆる不純物を析出させた。混合物を濾過し、濾液を濃縮して生成物を黄色固体として得た。収率=80〜85%。
(a)RuCl2(p-シメン)((R)-Ph-Garphos):
(b)RuCl2(p-シメン)((R)-DMM-Garphos):
RuCl2(ジホスフィン)(ジアミン)触媒の調製の一般的手順
ジホスフィン配位子(1.0mmol)と[RuCl2(シメン)]2(320mg、0.5mmol)との混合物にトルエンおよびDMFの共溶媒(10ml/0.5ml)を加えた。得られた混合物を70℃で2時間攪拌した。それを室温に冷却し、キラルジアミン(1.04mmol)を混合物に加えた。反応液を70℃でさらに1.5時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去して生成物を黄褐色固体として得た。収率=95〜99%。
(a)RuCl2((S)-Ph-Garphos)((S,S-DPEN):
(b)RuCl2((S)-Ph-Garphos)((S)-DAIPEN):
(c)RuCl2((S)-キシリル-Garphos)((S,S-DPEN):
(d)RuCl2((R)-キシリル-Garphos)((R)-DAIPEN):
この触媒のX線結晶構造を図1に示す。
(e)RuCl2((S)-キシリル-Garphos)((S)-DAIPEN):
(f)RuCl2((S)-DMM-Garphos)((S,S-DPEN):
(g)RuCl2((S)-DMM-Garphos)((S)-DAIPEN):
[Rh(COD)(ジホスフィン)][BF4]触媒の調製の一般的手順
Rh(COD)(acac)(0.93g、3.0mmol)のTHF(30ml)溶液にHBF4・Et2O(0.5g、3.1mmol)のTHF(5ml)溶液を加えた。混合物を50℃で1時間攪拌した。それを室温に冷却し、キラルジホスフィン(3.0mmol)を加えた。得られた橙色溶液を50℃でさらに1時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去して粗生成物を橙色固体として得た。エーテル(30ml)を残渣に加えた。懸濁液を室温で2時間攪拌した。それを濾過し、減圧乾燥させて純粋な生成物を橙色固体として得た。収率=90〜95%。
(a)[Rh(COD)((R)-Ph-Garphos)][BF4]:
(b)[Rh(COD)((R)-キシリル-Garphos)][BF4]:
(c)[Rh(COD)((R)-DMM-Garphos)][BF4]:
RuCl2(p-シメン)-(R-Ph-Garphos)を使用する4-クロロアセト酢酸エチルの水素化
アルゴン下、50mlオートクレーブ中で基質の溶液に触媒の塩化メチレン溶液を加えた。混合物を水素ガスで掃流し、所望の温度に加熱し、水素で加圧した。所望の時間攪拌後、オートクレーブを室温に冷却し、脱気した。転化をGCで評価した。生成物の試料をエチルエステルに変換し、エナンチオ選択性をGCを使用して決定した。
RuCl2(Garphos)(ジアミン)を触媒として使用する純粋ケトンの水素化
ケトンの2-プロパノール溶液を50mLシュレンクフラスコに加えた。排気してアルゴンを再充填した後、触媒と塩基(例えばKOtBu)との混合物を加えた。次に得られた混合物を、既にアルゴン雰囲気下に配置していた50mLオートクレーブに注入した。オートクレーブを水素ガスで加圧し、反応混合物を所望の温度で攪拌した。反応の進行をTLCでモニタリングした。反応の完了時点で溶媒を減圧除去し、ヘキサン/酢酸エチルを使用するショートシリカゲルパッド(約6cm)を通して混合物を濾過した。次に溶媒を濾液から除去して生成物を得た。
RuCl2(Garphos)(ジアミン)を触媒として使用する1-(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタノンの水素化
50mLオートクレーブ中にてケトンおよびKOtBuの2-プロパノール中混合物を水素ガス下で5分間攪拌した。触媒の2-プロパノール溶液をアルゴンで脱気した後、オートクレーブに注入した。次にこれを水素ガスで加圧し、反応混合物を所望の温度で攪拌した。反応の進行をTLCでモニタリングした。反応の完了時点で溶媒を減圧除去し、3:1ヘキサン:酢酸エチルを使用するショートシリカゲルパッド(約6cm)を通して混合物を濾過した。次に溶媒を濾液から除去して生成物を得た。
2-(3-(3-(2-(7-クロロキノリン-2-イル)ビニル)フェニル)-3-オキソプロピル)安息香酸(E)-メチルの水素化
ステンレス鋼オートクレーブ中で基質(0.2g)、臭化テトラブチルアンモニウム(7.0mg)、トルエン(5ml)およびNaOH(1M、0.5ml)を一緒にした。オートクレーブを封止し、水素ガスで繰り返し加圧および脱気して攪拌下でのオートクレーブ内の雰囲気の完全な交換を確実にした。触媒のストック溶液(アルゴン下で触媒2.2mgを2-PrOH 4.0mlに溶解させることで調製)のアリコート(1.0ml)をオートクレーブに加えた。次にオートクレーブを水素で3〜5回加圧および脱気してあらゆる残留空気の雰囲気を掃流した。水素化を130Psi下、周囲温度で24時間行った。アリコート(あらゆる残留圧力を適切に脱気した後にオートクレーブから除去)のNMR分析は完全な変換を明らかにした。HPLC用の純粋な試料をシリカゲルクロマトグラフィーで得た(溶離液: CH2Cl2/THF=1/20)。エナンチオマー過剰率(e.e.)(>99%)をHPLCで決定した。キラルカラム: Chiralpak AS-Hカラム0.46cm x 25cm; HPLC条件: カラム温度=40℃; 2-PrOH/ヘキサン=10/90、1.0ml/分; R-異性体の保持時間=17.8分、S異性体の保持時間=22.4分、出発原料の保持時間=13.5分。
DTBM-Garphosの調製
(a) ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)(3,5-ジメトキシフェニル)ホスフィンオキシドの調製
マグネシウム(3.14g、129.2mmol)とヨウ素(120mg)とのTHF(100mL)中混合物にTHF(150mL)中1-ブロモ-3,5-ジメトキシベンゼン(25.5g、117.5mmol)を加えた。添加が完了した後、混合物を1時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコに移した。それを-78℃に冷却し、THF(100mL)中クロロビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)ホスフィン(59.3g、117.4mmol)を-78℃で滴下した。得られた混合物を-78℃で0.5時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で1時間攪拌した。得られた反応混合物に水(300mL)を加えた後、H2O2(17mL、30%)を0℃で滴下した。混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(200mLx2)およびCH2Cl2(200mLx1)で抽出した。一緒にした有機層をブライン(200mLx2)、NaHSO3(200mLx3)で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。粘稠性残渣をCH2Cl2(30mL)およびエーテル(100mL)に溶解させた後、ヘキサン(400mL)を加えた。混合物を400mLに減圧濃縮した後、シード添加した。懸濁液を1.5時間攪拌し、得られた固体を濾取し、乾燥させて生成物を無色固体(57g)として得た。第2の産物(13g)を母液から収集した。収率=95.7%。
ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)(3,5-ジメトキシフェニル)ホスフィンオキシド(70g、112.4mmol)のCH2Cl2(350mL)溶液にNBS(206g、115.7mmol)を0℃で加えた。得られた懸濁液を0℃で1時間攪拌した後、室温に昇温させ、4時間攪拌した。残留する出発原料がなくなるまでTLCで反応をモニタリングした。溶液を室温にて濃Na2CO3(300mLx2)で洗浄した。有機層を分離し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を得た。ヘキサン(400mL)を加え、溶液を300mLに濃縮した。それは混濁し、白色固体が析出した。ヘキサンをさらに100mL加えた。懸濁液を室温で2時間攪拌した。それを濾過し、固体を減圧乾燥させて生成物を無色固体(64.4g)として得た。第2の産物(7.2g)を母液から得た。全体的収率=90.9%。
銅粉(19.2g、302mmol)と(2-ブロモ-3,5-ジメトキシフェニル)ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)ホスフィンオキシド(70.5g、105mmol)とのDMF(300mL)中混合物にヨウ素(320mg)を加えた。得られた懸濁液を140℃で3.5時間攪拌した。それを濾過し、固体をDMF(40mL)で洗浄した。一緒にした濾液を2L丸底フラスコに移し、水を加え、懸濁液を1時間攪拌した。それを濾過し、固体をCH2Cl2に溶解させ、NH4OH溶液(3%、500mLx3)、次に水(500mL)で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、固体をCHCl3(20mL)で洗浄した。溶媒を除去して粘稠性油状物を得て、これをエーテル/ヘキサン(1/10、500mL)から結晶化させてカップリング生成物と脱臭素化生成物との混合物(1:1、65g)を得た。これを酢酸エチル/ヘキサン(150mL/150mL)で洗浄して純粋な生成物を無色固体として得た。収量=32.8g。
脱臭素化副生成物(31g)も回収した。
(R,S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)ホスフィン)オキシドの試料(32.8g、26.4mmol)をジエチルエーテル(285mL)および酢酸エチル(100mL)に懸濁させた。次にL-(-)-DBTA一水和物(9.92g、26.4mmol)を加えた。混合物を室温で攪拌したところ、それは透明から混濁に変化した。白色固体が析出した。酢酸エチル(180mL)を加えた。懸濁液を1時間攪拌した。それを濾過し、固体を酢酸エチル(25mL)で洗浄し、減圧乾燥させて生成物18gを得た。固体を懸濁させ、別の酢酸エチル/エーテル(90mL/90mL)中で1時間攪拌した。それを濾過し、固体を酢酸エチル(20mL)で洗浄し、乾燥させて純粋な(S)-DTBM-Garphosオキシド/(-)-DBTA複合体を無色固体(13.4g)として得た。遊離(S)-DTBM-Garphosオキシドを、Na2CO3溶液を使用して遊離させ、無色固体として単離した。収量=10.3g。
(R)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)-ホスフィン)オキシド(13.0g、10.5mmol)のトルエン(150mL)溶液にHSiCl3(14.2g、105mmol)を加えた。得られた懸濁液を100℃で終夜攪拌した。それを室温に冷却し、NaOH(2M、300mL)を0℃でゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエン(2x150mL)で抽出した。一緒にした有機層を蒸発乾固させ、CH2Cl2(100mL)を残渣に加えた。溶液をショートシリカゲルパッドを通して濾過した。パッドをCH2Cl2(150mL)で洗浄した。濾液を一緒にし、溶媒を減圧除去して生成物を白色無色固体として得た。収量=12.4g、97.9%。
上記で概説した手順を使用して(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)-ホスフィン)オキシドから(S)-(4,4',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)ビス(ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル)ホスフィン)を調製した。
PtCl2((R)-Ph-Garphos)の調製
アルゴン充填フラスコ中でPtCl2(COD)(0.075g、0.20mmol)および(R)-Ph-Garphos(0.129g、0.20mmol)を一緒にした。塩化メチレン(2mL)をフラスコに加え、得られた淡黄色溶液をおよそ2時間攪拌した。次に溶液を減圧乾固させて淡黄色残渣を得た。収量: 0.153g(93%)。
Pd(OAc)2((R)-Ph-Garphos)の調製
アルゴン充填フラスコ中でPd(OAc)2(0.050g、0.22mmol)および(R)-Ph-Garphos(0.143g、0.22mmol)を一緒にした。塩化メチレン(2mL)をフラスコに加え、得られた橙褐色溶液をおよそ2時間攪拌した。次に溶液を減圧乾固させて橙色残渣を得た。収量: 0.171g(89%)。
Pd(acac)2((R)-Ph-Garphos)の調製
アルゴン充填フラスコ中でPd(acac)2(0.075g、0.25mmol)および(R)-Ph-Garphos(0.158g、0.25mmol)を一緒にした。塩化メチレン(2mL)をフラスコに加え、得られた黄褐色溶液をおよそ2時間攪拌した。次に溶液を減圧乾固させて黄橙色残渣を得た。収量: 0.224g(96%)。
鈴木・宮浦カップリングの一般的手順
アルゴンガス下でブロモベンゼン(0.079g、0.5mmol)、フェニルボロン酸(0.073g、0.60mmol)および炭酸カリウム(0.138g、1mmol)の1,4-ジオキサン溶媒(2.0mL)中溶液に固体触媒(0.01mmol、2mol%)を加えた。次に反応液を80℃で16時間攪拌した。次に混合物を室温に冷却し、濾過し、減圧濃縮した。続いて残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAcまたはヘキサン/エーテル)で精製した。単離された生成物を1H NMR分光法で特性決定した。特性決定データ(ビフェニル): 無色固体として単離。
結果を表4に示す。
Claims (44)
- 式(B)の化合物:
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20−(アルキル)、C2〜20−(アルケニル)、C2〜20−(アルキニル)、C3〜20−(シクロアルキル)またはC6〜14−(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20−(アルキル)、C2〜20−(アルケニル)、C2〜20−(アルキニル)、C3〜20−(シクロアルキル)、C6〜14−(アリール)、C5〜14−(ヘテロアリール)、−O−C1〜20−(アルキル)、−O−C6〜14−(アリール)、−O−CH2−C6〜14−(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個〜14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニル、C6〜14アリール、またはC 1〜4 アルキレンフェニルであり、かつ
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニル、C6〜14アリール、またはC 1〜4 アルキレンフェニルである。 - R1およびR2が独立してまたは同時に、C1〜10−(アルキル)、C2〜10−(アルケニル)、C2〜10−(アルキニル)、C3〜10−(シクロアルキル)またはC6〜10−(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項1記載の化合物。
- R1およびR2が独立してまたは同時に、C1〜6−(アルキル)、C2〜6−(アルケニル)、C2〜6−(アルキニル)、C3〜6−(シクロアルキル)またはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項2記載の化合物。
- R1およびR2が独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項3記載の化合物。
- R1およびR2が独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項4記載の化合物。
- R1およびR2が同時にメチルである、請求項5記載の化合物。
- R3およびR4が独立してまたは同時に、C1〜10−(アルキル)、C2〜10−(アルケニル)、C2〜10−(アルキニル)、C3〜10−(シクロアルキル)、C6〜10−(アリール)、C5〜10−(ヘテロアリール)、−O−C1〜10−(アルキル)、−O−C6〜10−(アリール)、−O−CH2−C6〜10−(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項1〜6のいずれか一項記載の化合物。
- R3およびR4が独立してまたは同時に、C1〜6−(アルキル)、C2〜6−(アルケニル)、C2〜6−(アルキニル)、C3〜6−(シクロアルキル)、フェニル、C5〜6−(ヘテロアリール)、−O−C1〜6−(アルキル)、−O−フェニル、−O−CH2−フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項7記載の化合物。
- R3およびR4が独立してまたは同時に、フェニル、トリル(4−メチルフェニル)、アニシル(4−メトキシフェニル)、キシリル(3,5−ジメチルフェニル)、3,5−ジメチル−4−メトキシ−フェニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−メトキシ−フェニルまたは3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項8記載の化合物。
- R3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子が、O、S、N、NHおよびNC1〜4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい、請求項1記載の化合物。
- R3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成する、請求項10記載の化合物。
- 前記任意の置換基が、ハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7が同時にまたは独立して、フルオロ置換C1〜4アルキル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、フェニルおよびC1〜4アルキレンフェニルより選択される、請求項1〜11のいずれか一項記載の化合物。
- R5、R6およびR7が同時にまたは独立してメチル、ベンジルおよびフェニルより選択される、請求項12記載の化合物。
- 式Aの化合物:
式中、
R1およびR2は独立してまたは同時に、C1〜20−(アルキル)、C2〜20−(アルケニル)、C2〜20−(アルキニル)、C3〜20−(シクロアルキル)またはC6〜14−(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよく、
R3およびR4は独立してまたは同時に、C1〜20−(アルキル)、C2〜20−(アルケニル)、C2〜20−(アルキニル)、C3〜20−(シクロアルキル)、C6〜14−(アリール)、C5〜14−(ヘテロアリール)、−O−C1〜20−(アルキル)、−O−C6〜14−(アリール)、−O−CH2−C6〜14−(アリール)であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいは
R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、
任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、
R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、
R7は、フルオロ置換C1〜6アルキル、C1〜6アルキル、C2〜6アルケニル、C2〜6アルキニルまたはC6〜14アリールであり、かつ
Xはハロである。 - R1およびR2が独立してまたは同時に、C1〜10−(アルキル)、C2〜10−(アルケニル)、C2〜10−(アルキニル)、C3〜10−(シクロアルキル)またはC6〜10−(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項14記載の化合物。
- R1およびR2が独立してまたは同時に、C1〜6−(アルキル)、C2〜6−(アルケニル)、C2〜6−(アルキニル)、C3〜6−(シクロアルキル)またはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項15記載の化合物。
- R1およびR2が独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項16記載の化合物。
- R1およびR2が独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項17記載の化合物。
- R1およびR2がメチルである、請求項18記載の化合物。
- R3およびR4が独立してまたは同時に、C1〜10−(アルキル)、C2〜10−(アルケニル)、C2〜10−(アルキニル)、C3〜10−(シクロアルキル)、C6〜10−(アリール)、C5〜10−(ヘテロアリール)、−O−C1〜10−(アルキル)、−O−C6〜10−(アリール)、−O−CH2−C6〜10−(アリール)であり、これらすべてが置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子が、O、S、N、NHおよびNC1〜4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい、請求項14〜19のいずれか一項記載の化合物。
- R3およびR4が独立してまたは同時に、C1〜6−(アルキル)、C2〜6−(アルケニル)、C2〜6−(アルキニル)、C3〜6−(シクロアルキル)、フェニル、C5〜6−(ヘテロアリール)、−O−C1〜6−(アルキル)、−O−フェニル、−O−CH2−フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4〜10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系および/または芳香環系を形成する、請求項20記載の化合物。
- R3およびR4が独立してまたは同時に、フェニル、トリル(4−メチルフェニル)、アニシル(4−メトキシフェニル)、キシリル(3,5−ジメチルフェニル)、3,5−ジメチル−4−メトキシ−フェニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−メトキシ−フェニルまたは3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項21記載の化合物。
- 前記任意の置換基が、ハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7が同時にまたは独立して、フルオロ置換C1〜4アルキル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニルまたはフェニルである、請求項14〜22のいずれか一項記載の化合物。
- XがF、Cl、BrまたはIである、請求項14〜23のいずれか一項記載の化合物。
- 前記N−ハロスクシンイミドが、N−フルオロスクシンイミド、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミドまたはN−ヨードスクシンイミドである、請求項25記載の方法。
- 請求項1〜13のいずれか一項で定義される、式(B)の化合物を含有する、金属錯体。
- 前記金属が触媒活性を有する、請求項27記載の金属錯体。
- 前記金属が、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀または金である、請求項28記載の金属錯体。
- 式[RuX2(配位子)(B)]を有し、式中、Xがハロであり、かつ配位子が任意の中性配位子である、請求項27〜29のいずれか一項記載の金属錯体。
- 式[RuX2(ジアミン)(B)]を有し、式中、Xがハロであり、かつジアミンが任意のジアミノ配位子である、請求項27〜29のいずれか一項記載の金属錯体。
- RuCl2((S)−Ph−Garphos)(S,S−DPEN)、RuCl2((S)−Ph−Garphos)(S)−DAIPEN)、RuCl2((S)−キシリル−Garphos)(S,S−DPEN)、RuCl2((S)−キシリル−Garphos)(S)−DAIPEN)、RuCl2((S)−DMM−Garphos)(S,S−DPEN)またはRuCl2((S)−DMM−Garphos)((S)−DAIPEN)であり、ここで
(i)Ph−Garphosが、以下:
の構造を有し、
(ii)キシリル−Garphosが、以下:
の構造を有し、かつ
(iii)DMM−Garphosが、以下:
の構造を有する、請求項33または34記載の金属錯体。 - 式[Rh(配位子)(B)][X]を有し、式中、配位子が任意の中性配位子であり、かつXが任意のアニオン性配位子である、請求項27〜29のいずれか一項記載の金属錯体。
- 前記中性配位子がp−シメンであり、かつXがBF4である、請求項36記載の金属錯体。
- 触媒反応のための、請求項1〜13のいずれか一項で定義される、式(B)の化合物を含有する金属錯体の使用。
- 水素化のための、請求項1〜13のいずれか一項で定義される、式(B)の化合物を含有する金属錯体の使用。
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